光配向用露光装置
    44.
    发明专利

    公开(公告)号:JPWO2019031453A1

    公开(公告)日:2020-09-17

    申请号:JP2018029427

    申请日:2018-08-06

    Abstract: プレチルト角を発現させるために斜め露光を行う光配向用露光装置において、安価な散乱光源(体積光源)を用いることができると共に、コンパクトな形態で均一な照度分布を得る。被照射面に対して一方向に走査露光を行うことで光配向処理を行う光配向用露光装置(1)は、被照射面(10S)に向けて散乱光を出射する光源(2)と、光源(2)から出射された光のうち、紫外線を選択的に出射する光学フィルタ(3)と、光学フィルタ(3)から出射された光のうち、走査方向に対して斜めに照射される光を選択的に出射する照射角度制限部材(4)とを備え、照射角度制限部材(4)は、平板状の光方向制限板(40)を、被照射面(10S)に対して一定の角度で傾斜させ、走査方向に沿って設定間隔で複数平行配列させている。

    光配向用露光装置及び光配向用露光方法

    公开(公告)号:JP2020086022A

    公开(公告)日:2020-06-04

    申请号:JP2018217153

    申请日:2018-11-20

    Abstract: 【課題】プレチルト角を安定して出現させることができる斜め露光法を行う光配向露光装置において、省スペース化及び低額化を可能にすると共に、走査露光方式により広い処理面積のワークに対して、効果的な斜め露光を実現できるようにする。 【解決手段】光配向用露光装置は、光配向膜になるワークの表面に偏光光を照射する照射部と、照射部の光照射領域に対して表面を相対的に移動させる走査部とを備え、照射部は、ワークの幅方向に沿って長尺な光源を備え、光照射領域に照射される光の照射角度を幅方向に沿って特定の方向に制限する照射角度制限部材を備える。 【選択図】図1

    露光装置および露光方法
    47.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2019197187A

    公开(公告)日:2019-11-14

    申请号:JP2018092344

    申请日:2018-05-11

    Inventor: 新井 敏成

    Abstract: 【課題】被露光基板の基板面内において隣接するフォトマスク同士の露光領域が重なる継ぎ領域にムラが生じることを抑制する露光装置および露光方法を提供する。 【解決手段】第1のフォトマスク群は、複数の第1フォトマスクを備え、前記第1フォトマスク同士の互いに隣り合う露光領域が重なり合うように設定され、前記露光領域が重なり合う第1領域に対応する両方の前記第1フォトマスクの部分に互いに相補的な露光を可能とする第1グラデーション部を有し、前記第2のフォトマスク群は、複数の第2フォトマスクを備え、前記第2フォトマスク同士の互いに隣り合う露光領域が重なり合うように設定され、前記露光領域が重なり合う第2領域に対応する両方の前記第2フォトマスクの部分に互いに相補的な露光を可能にする第2グラデーション部を有し、前記第1領域と前記第2領域とが、前記走査方向で重なり合わない位置にあることを特徴とする。 【選択図】図5

    光照射装置、および、光照射方法

    公开(公告)号:JP2019117235A

    公开(公告)日:2019-07-18

    申请号:JP2017250203

    申请日:2017-12-26

    Abstract: 【課題】光を照射する光照射部を傾けることなく、フィルムに対して光配向を生じさせることが可能な光照射装置等を提供する。 【解決手段】 本発明の一実施形態における光照射装置は、フィルムに対して偏光光を照射する光照射手段と、フィルムに対する偏光光の照射位置の前後に設けられ、フィルムを搬送するための複数の搬送手段と、を含み、複数の搬送手段の各々は、偏光光の照射方向に対する位置を変更可能であることを特徴とする。 【選択図】図3

Patent Agency Ranking