图像处理装置和图像处理方法

    公开(公告)号:CN105915880A

    公开(公告)日:2016-08-31

    申请号:CN201610243296.9

    申请日:2011-08-04

    Abstract: 提供图像处理装置和图像处理方法。图像处理装置包括:距离信息取得部,取得表示在拍摄图像被拍摄时由相机测定的各区域中的被摄体距离的距离信息;检出部,不使用在所述拍摄图像中包含的所述距离信息,对所述拍摄图像的各区域中的被摄体距离进行检测;以及图像处理部,对应于针对所述拍摄图像的各区域检测出的被摄体距离改变该区域的图像的距离感;所述图像处理部,针对由所述距离信息取得部所取得的距离远于预定的距离的区域,对应于由所述检出部检测出的被摄体距离改变该区域中的图像的距离感,针对由所述距离信息取得部所取得的距离不远于预定的距离的区域,对应于由所述距离信息取得部所取得的距离改变该区域的图像的距离感。

    检索辅助系统、检索辅助方法以及检索辅助程序

    公开(公告)号:CN102667777B

    公开(公告)日:2015-06-10

    申请号:CN201080058662.4

    申请日:2010-12-21

    CPC classification number: G06F17/30277 G06F17/30864 G06Q30/0601

    Abstract: 本发明涉及检索辅助系统、检索辅助方法以及检索辅助程序。检索辅助系统具有:积存商品图像数据的数据库(16);针对输入图像数据,从数据库(16)取得与表示关于输入图像数据的图像的特征的图像特征信息相同或者类似的图像特征信息的商品图像数据的检索部(13);设定包括与日期时间相关的日期时间信息、与场所相关的场所信息、与状况相关的状况信息中的至少一个的检索条件的条件设定部(18,32),检索部(13)根据由条件设定部(18,32)设定的检索条件,进行商品图像数据的检索,与由检索部(13)取得的商品图像数据一并输出与该商品图像数据所对应的商品不同的其他商品涉及的信息。

    曝光方法及电子器件制造方法

    公开(公告)号:CN101652719A

    公开(公告)日:2010-02-17

    申请号:CN200880011418.5

    申请日:2008-04-07

    Abstract: 一种使得能够快速且精确地测量在单位曝光场(10f)中发生的变形并且使得能够高准确度地在基板(W)上重叠多个图案的曝光方法。使用投影光学系统(PL)在基板(W)上曝光明暗图案的本实施例的曝光方法包括:位置检测处理(S13),检测布置在基板(W)的单位曝光场(10f)的至少一个功能元件中的多个位置检测标记关于基板(W)的基板面内方向的位置;变形计算处理(S14),基于在位置检测处理(S13)中获得的与位置检测标记的位置有关的信息,计算在单位曝光场(10f)中发生的变形的状态;以及形状修改处理(S15),基于在变形计算处理(S14)中获得的变形状态,修改要在基板(W)上曝光的明暗图案的形状。

Patent Agency Ranking