公开(公告)号：CN111406097B

公开(公告)日：2022-03-04

申请号：CN201880057141.3

申请日：2018-12-07

Applicant: 株式会社LG化学 ,  韩国科学技术院

Inventor： 金宪 ,  金宥植 ,  R·卡尔巴什 ,  权洗铉 ,  张影来 ,  张锡勋

IPC: C07F5/00 ,  C09B57/00 ,  G03F7/027 ,  G03F7/035 ,  G03F7/033 ,  G03F7/028 ,  G11B7/08

Abstract: 本发明涉及一种具有新结构的化合物、包含所述化合物作为染料的光聚合物组合物、由所述光聚合物组合物制备而成的全息图记录介质、包括所述全息图记录介质的光学元件，和使用所述全息图记录介质的全息记录方法。

公开(公告)号：CN110461935B

公开(公告)日：2021-08-24

申请号：CN201880021502.9

申请日：2018-12-07

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 张锡勋 ,  郭修荣 ,  金宪 ,  权洗铉 ,  张影来

IPC: C08L33/08 ,  C08F8/42 ,  C08K5/5415 ,  C08K5/00 ,  C08L83/12 ,  C08F265/06 ,  G11B7/245

Abstract: 本公开的目的是提供一种光聚合物组合物、使用该光聚合物组合物的全息记录介质、光学元件和全息记录方法，所述光聚合物组合物包含：具有特定化学结构的聚合物基质或其前体；光反应性单体；和光引发剂。

公开(公告)号：CN107921757B

公开(公告)日：2021-04-02

申请号：CN201680051166.3

申请日：2016-12-27

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 金芙敬 ,  张影来 ,  张锡勋 ,  边真锡

IPC: B32B27/08 ,  B32B27/36 ,  C09D5/00 ,  C09D4/00

Abstract: 本发明涉及一种减反射膜。所述减反射膜包含：低折射率层，该低折射率层具有优异的耐碱性，并且表现出显著改善的诸如耐擦伤性和抗冲击性的机械性能以及减少的眩光现象；以及基膜，该基膜即使厚度薄也表现出优异的机械强度和耐水性，并且不必担心产生干涉条纹。因此，这种减反射膜可以用作偏光板的保护膜或用作任何其它部件，以便提供薄显示装置，此外，可以有效地防止显示装置的眩光现象，并且可以更加改善其耐久性和寿命。

公开(公告)号：CN111699437A

公开(公告)日：2020-09-22

申请号：CN201980012736.1

申请日：2019-12-13

Applicant: 株式会社LG化学 ,  韩国科学技术院

Inventor： 金宪 ,  金宥植 ,  赖莎·卡巴施 ,  权洗铉 ,  张影来 ,  张锡勋

IPC: G03F7/105 ,  G03F7/028 ,  G03F7/075 ,  G03F7/20

Abstract: 本公开内容涉及具有新的结构的化合物；包含所述化合物作为染料的光聚合物组合物；由所述光聚合物组合物制造的全息图记录介质；包含所述全息图记录介质的光学元件；和使用所述光聚合物组合物的全息记录方法。

公开(公告)号：CN111699221A

公开(公告)日：2020-09-22

申请号：CN201980012720.0

申请日：2019-04-29

Applicant: 株式会社LG化学 ,  韩国科学技术院

Inventor： 金宪 ,  金宥植 ,  赖莎·卡巴施 ,  权洗铉 ,  张影来 ,  张锡勋

IPC: C09B57/00 ,  G03F7/075 ,  G03F7/027 ,  G03F7/028 ,  G02B5/32 ,  G03H1/02 ,  C07F7/21

Abstract: 本公开内容涉及光聚合物组合物，更特别地，涉及具有新的结构的化合物；包含所述化合物作为染料的光聚合物组合物；由光聚合物组合物制造的全息图记录介质；包含全息图记录介质的光学元件；和使用光聚合物组合物的全息记录方法。

公开(公告)号：CN110462734A

公开(公告)日：2019-11-15

申请号：CN201880021506.7

申请日：2018-12-07

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 张锡勋 ,  李玹燮 ,  金宪 ,  权洗铉 ,  张影来

IPC: G11B7/08 ,  C08L75/04 ,  C08L51/08 ,  C08L83/12 ,  G11B7/24

Abstract: 本公开涉及一种主弛豫温度(Tr)为0℃以下的全息图记录介质，其中，Tr是在动态力学分析中在-80℃至30℃的范围内相位角相对于温度的变化率最大的点；本公开还涉及一种包括所述全息图记录介质的光学元件；以及一种全息记录方法，该方法包括使用相干激光使所述全息图记录介质中含有的光反应性单体选择性地聚合的步骤。

公开(公告)号：CN110461935A

公开(公告)日：2019-11-15

申请号：CN201880021502.9

申请日：2018-12-07

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 张锡勋 ,  郭修荣 ,  金宪 ,  权洗铉 ,  张影来

IPC: C08L33/08 ,  C08F8/42 ,  C08K5/5415 ,  C08K5/00 ,  C08L83/12 ,  C08F265/06 ,  G11B7/245

Abstract: 本公开的目的是提供一种光聚合物组合物、使用该光聚合物组合物的全息记录介质、光学元件和全息记录方法，所述光聚合物组合物包含：具有特定化学结构的聚合物基质或其前体；光反应性单体；和光引发剂。

公开(公告)号：CN107438778B

公开(公告)日：2019-06-18

申请号：CN201680020977.7

申请日：2016-08-18

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 金芙敬 ,  张影来 ,  张锡勋 ,  边真锡

IPC: G02B1/14 ,  G02B1/113

CPC classification number: G02B1/111 ,  C09D5/006 ,  C09D147/00 ,  G02B1/113 ,  G02B1/14

Abstract: 本发明涉及一种低折射率层和包含该低折射率层的减反射膜。所述低折射率层可以同时表现出诸如较低的反射率和较高的透光率的优异的光学性能，以及诸如较高的耐磨性和耐擦伤性的优异的机械性能。特别地，由于优异的耐碱性，所述低折射率层即使在碱处理之后也可以保持优异的物理性能。因此，当将低折射率层引入到显示装置中时，预期可以简化生产过程，进一步地可以显著提高生产率和生产力。

公开(公告)号：CN109298470A

公开(公告)日：2019-02-01

申请号：CN201811195410.0

申请日：2017-03-09

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 宋仁永 ,  边真锡 ,  金芙敬 ,  张锡勋 ,  张影来 ,  吴诚浚

IPC: G02B1/11 ,  G02B1/113 ,  G02B1/115 ,  G02B1/14 ,  G02B5/18 ,  G01N23/207 ,  C09D135/02 ,  C09D7/40 ,  C09D5/33 ,  C09D5/00 ,  C09D4/06 ,  C09D4/00 ,  C08L83/04 ,  C08L33/10 ,  C08J7/04 ,  C08F265/06 ,  C08C19/40 ,  B32B27/18 ,  B32B27/08 ,  B32B7/02 ,  B05D3/06 ,  B05D3/02

Abstract: 本文公开了抗反射膜，其包括：硬涂层；和低折射层，所述低折射层包含粘合剂树脂以及分散于粘合剂树脂中的中空无机纳米颗粒和实心无机纳米颗粒，其中所述低折射层包括包含全部实心无机纳米颗粒的至少70体积％的第一层和包含全部中空无机纳米颗粒的至少70体积％的第二层，并且在使用由一般方程式1表示的柯西模型对包括在所述低折射层中的所述第一层或/和所述第二层的通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度进行拟合时，其满足预定的条件。

公开(公告)号：CN107635765B

公开(公告)日：2018-12-04

申请号：CN201780000863.0

申请日：2017-03-09

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 宋仁永 ,  边真锡 ,  金芙敬 ,  张锡勋 ,  张影来 ,  吴诚浚

IPC: B32B7/02 ,  B32B27/08 ,  C09D5/00 ,  B32B27/18 ,  G02B1/113 ,  G02B1/11 ,  G02B5/18 ,  C08L33/10

Abstract: 本文公开了抗反射膜，其包括：硬涂层；和低折射层，所述低折射层包含粘合剂树脂以及分散于粘合剂树脂中的中空无机纳米颗粒和实心无机纳米颗粒，其中所述低折射层包括包含全部实心无机纳米颗粒的至少70体积％的第一层和包含全部中空无机纳米颗粒的至少70体积％的第二层，并且在使用由一般方程式1表示的柯西模型对包括在所述低折射层中的所述第一层或/和所述第二层的通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度进行拟合时，其满足预定的条件。