公开(公告)号：CN110462503B

公开(公告)日：2022-09-30

申请号：CN201880019554.2

申请日：2018-04-10

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 新井敏成

IPC: G02F1/1337 ,  G02F1/13

Abstract: 本发明涉及一种光照射装置，该光照射装置能够使原本应形成曝光图案的位置与实际曝光的曝光图案的位置一致。在与第一方向(x方向)大致正交的第二方向(y方向)上，在掩模(32)上形成的透光区域(32a)与光轴(Ax)间的距离为由通过透光区域(32a)的光形成在基板(W)上的曝光图案与光轴(Ax)间的距离的A(A为1以上的数值)倍。

公开(公告)号：CN112055831A

公开(公告)日：2020-12-08

申请号：CN201980026975.2

申请日：2019-06-07

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 吉田祐治 ,  池田聪 ,  新井敏成

IPC: G02F1/1337

Abstract: 本发明提供一种将散射光照射到被曝光面的光照射装置，能够根据感光性材料的波长依赖性照射适当波长的光。光照射装置具备：光源部，朝向被曝光面射出散射光；及光学滤波器，使从光源部射出的光透射，光源部射出截止了在光学滤波器中设定的选择波长的短波长侧的频带的光。

公开(公告)号：CN103733138B

公开(公告)日：2016-03-30

申请号：CN201280037975.0

申请日：2012-07-30

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 野村义昭 ,  新井敏成

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F9/7015 ,  G03F7/70791 ,  G03F9/00 ,  G03F9/7019 ,  H01L21/682

Abstract: 本发明进行以下的步骤：为了检测到在将在输送方向A上被输送来的被曝光基板1的定位的偏移，检测出在被曝光基板（1）上预先规定的第1观测点（14）和第2观测点（15）的坐标的坐标检测步骤；基于所述被检测出的坐标相对于根据所述第1观测点（14）和第2观测点（15）预先规定的基准线的偏移算出校正量的校正量算出步骤；以及基于所述被算出校正量对之后被曝光的被曝光基板（1）的定位进行校正的定位校正步骤。由此，能够使之后被曝光的被曝光基板的定位精确度得以提高。

公开(公告)号：CN103733138A

公开(公告)日：2014-04-16

申请号：CN201280037975.0

申请日：2012-07-30

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 野村义昭 ,  新井敏成

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F9/7015 ,  G03F7/70791 ,  G03F9/00 ,  G03F9/7019 ,  H01L21/682

Abstract: 本发明进行以下的步骤：为了检测到在将在输送方向A上被输送来的被曝光基板1的定位的偏移，检测出在被曝光基板（1）上预先规定的第1观测点（14）和第2观测点（15）的坐标的坐标检测步骤；基于所述被检测出的坐标相对于根据所述第1观测点（14）和第2观测点（15）预先规定的基准线的偏移算出校正量的校正量算出步骤；以及基于所述被算出校正量对之后被曝光的被曝光基板（1）的定位进行校正的定位校正步骤。由此，能够使之后被曝光的被曝光基板的定位精确度得以提高。

公开(公告)号：CN207164464U

公开(公告)日：2018-03-30

申请号：CN201590001086.8

申请日：2015-12-16

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 桥本和重 ,  新井敏成

IPC: G03F7/20 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1337 ,  H01L21/027

CPC classification number: G02F1/13 ,  G02F1/1337 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本实用新型提供一种曝光装置(1)，该曝光装置(1)的光照射部(10)设置于载置曝光对象物(W)的工作台(21)的上方，且设置为能够装卸棒状的光源(11)，关于该光照射部(10)，在曝光时将光照射部(10)配置为光源(11)的长边方向与曝光对象物(W)的扫描方向正交，且在更换光源(11)时使光照射部(10)从曝光时的位置旋转大致45度以上。由此，能够有效利用曝光装置(1)外的空间。

公开(公告)号：CN204650013U

公开(公告)日：2015-09-16

申请号：CN201520088043.X

申请日：2015-02-06

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 桥本和重 ,  新井敏成

IPC: G02B5/30 ,  G02B27/28 ,  G02F1/1337

Abstract: 本实用新型提供一种偏振器及偏振光照射装置，在偏振器单体或并列配置多个偏振器的偏振光照射装置中，以高精度进行偏振器的偏光轴方向的调整。所述偏振器具备：基板(10)，在表面形成有线栅(G)；及遮光部(11、11A)，形成于基板(10)上且阻挡透射基板(10)的光，光透射的光透射区域(12A)与遮光部(11、11A)的边界线(L)相对于线栅(G)的延伸方向在设定方向上形成为直线状。

公开(公告)号：CN203720500U

公开(公告)日：2014-07-16

申请号：CN201420086932.8

申请日：2014-02-27

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 桥本和重 ,  新井敏成 ,  富塚吉博

IPC: G02F1/1337 ,  G02B5/30

Abstract: 本实用新型提供一种光取向用偏振照射装置，其即使长期使用也可抑制线栅偏振器或特定波长选择滤波器的性能劣化，且耐久性高。本实用新型的光取向用偏振照射装置(1)，其沿着形成取向膜的基板(W)的宽度方向延伸设置光照射部(2)，一边沿着与基板(W)的宽度方向交叉的扫描方向(S)扫描基板(W)或光照射部(2)，一边向基板(W)上照射特定波长的偏振光，所述光照射部(2)具备光源(20)、特定波长选择滤波器(21)以及线栅偏振器(22)，其中，光照射部(2)具备包覆线栅偏振器(22)的导电体栅格(22B)的防氧化膜(22C)，且具备对线栅偏振器(22)进行冷却的空冷装置(23)。