소모품에 장착된 전사장치
    41.
    发明授权
    소모품에 장착된 전사장치 失效
    安装消费品的转运设备

    公开(公告)号:KR100191201B1

    公开(公告)日:1999-06-15

    申请号:KR1019960009615

    申请日:1996-03-30

    Inventor: 김동준

    Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
    본 발명은 레이저 빔 프린터에서 소모품인 현상유니트에 전사장치를 일체화 되게 장착하여 전사장치에 오염으로 발생하는 화상불량을 방지할 수 있도록 한 전사장치에 관한 것이다.
    2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
    본 발명은 레이저 빔 프린터의 본체프레임에 장착하는 소모품인 현상유니트의 수명과 전사장치의 수명이 같도록 일체화 되게 설치하여 시간에 따른 전사장치의 오염과 수리의 난이성을 해결할 수 있는 소모품에 장착된 전사장치를 제공함에 있다.
    3. 발명의 해결방법의 요지
    본 발명은 레이저 빔 프린터의 본체프레임에 장착하는 소모품인 현상유니트내의 감광드럼 하측에 전사장치가 위치하도록 일체로 설치하고, 상기 현상유니트의 감광드럼과 전사장치 사이로 용지가 이송되게 가이드홀을 형성하여 시간경과에 따른 전사장치의 오염으로 발생하는 화상불량을 방지할 수 있도록 함을 특징으로 한다.
    4. 발명의 중요한 용도
    본 발명은 레이저 프린터에 사용되는 소모품인 현상유니트 장치.

    고집적 비트라인 콘택구조를 갖는 반도체 장치 및 그 제조방법
    42.
    发明授权
    고집적 비트라인 콘택구조를 갖는 반도체 장치 및 그 제조방법 失效
    具有高度集成的位线接触结构的半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:KR100165378B1

    公开(公告)日:1999-02-01

    申请号:KR1019950008399

    申请日:1995-04-11

    Inventor: 김동준 최정혁

    Abstract: 본 발명은 고집적 비트라인 콘택구조를 갖는 반도체 장치 및 그 제조방법에 관해 개시한다. 본 발명의 고집적 비트라인 콘택구조를 갖는 반도체 장치는 반도체기판, 상기 반도체기판상에 형성된 필드 및 활성영역, 상기 반도체기판의 활성영역에 대칭적으로 형성된 얕은 정크션, 상기 활성영역 또는 활성영역의 일부와 그 부분에 접하는 필드영역의 일 부분을 포함하는 영역에 비 대칭적으로 형성된 깊은 정크션, 상기 반도체기판상에 형성되고 상기 깊은 정크션 영역을 노출시키는 콘택홀이 형성된 층간절연막 및 상기 반도체 기판 전면에 상기 콘택홀을 채우는 도전층 패턴이 구비되어 있다.
    본 발명에 의한 고집적 비트라인 콘택구조를 갖는 반도체 장치 및 그 제조방법에 따르면, 비트라인간의 절연길이가 증대된다. 따라서 절연성을 유지하면서 비트라인 간의 간격을 좁게 형성할 수 있으므로 반도체 장치의 고집적화를 달성할 수 있다.

    소자분리특성이 개선된 불휘발성 반도체 메모리장치의 제조방법
    43.
    发明公开
    소자분리특성이 개선된 불휘발성 반도체 메모리장치의 제조방법 失效
    一种制造具有改善的器件隔离特性的非易失性半导体存储器件的方法

    公开(公告)号:KR1019980075896A

    公开(公告)日:1998-11-16

    申请号:KR1019970012283

    申请日:1997-04-03

    Inventor: 김동준

    Abstract: 낸드형 불휘발성 반도체 메모리 장치의 제조방법이 개시된다. 개시된 방법은 플레이트의 절연을 위한 절연막과 플레이트 전극으로서 기능하는 폴리실리콘 층이 워드라인 상에 형성되고 난 후에, 스트링 선택 트랜지스터 사이의 비트라인 콘택 영역과 그라운드 선택트랜지스터 사이의 소오스 라인 영역을 개방하는 감광막 패턴을 형성한 다음 노출된 상기 폴리실리콘 층을 식각하고, 상기 비트라인 콘택 영역의 전기적 절연특성을 높이기 위하여 상기 폴리실리콘 층의 일부 식각을 통해 나타나는 상기 절연막의 일부를 통해 채널 스톱이온을 주입하는 것을 특징으로 한다.

    소자분리특성이 강화된 불휘발성 반도체 메모리 장치의 제조방법

    公开(公告)号:KR1019980073685A

    公开(公告)日:1998-11-05

    申请号:KR1019970009113

    申请日:1997-03-18

    Inventor: 김동준

    Abstract: 본 발명은 불휘발성 반도체 메모리 장치에 관한 것으로, 반도체 기판에 활성영역과 필드산화막을 형성하고 소자절연을 위한 이온주입과 메모리 셀들의 문턱전압 값을 조정하기 위해 메모리 셀들을 제외한 선택 트랜지스터와 주변영역에 채널스톱층용 이온주입을 수행하고, 메모리 셀들의 소자절연을 위한 제 1이온주입을 위한 마스크 패턴과 공핍형 선택 트랜지스터 형성을 위한 제 2이온주입을 위한 마스크 패턴을 하나의 패턴으로 구현한다. 따라서, 상기 제 1, 2이온주입을 동시에 수행하여 마스크 수를 줄이면서 소자절연 특성을 향상시킬 수 있다.

    토너 건조장치와 방법
    46.
    发明公开

    公开(公告)号:KR1019970076127A

    公开(公告)日:1997-12-10

    申请号:KR1019960017279

    申请日:1996-05-21

    Inventor: 김동준

    Abstract: 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
    1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
    전자사진 현상방식의 화상형성장치의 토너건조장치와 방법에 관한 것이다.
    2. 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제
    토너가 습도에 의해서 부착성이 떨어지는 것을 최소화한다.
    3. 발명의 해결방법의 요지
    전사롤러의 전압을 측정하여 상기 전사롤러의 전압으로 습도를 측정하여 상기 습도가 토너가 현상롤러에 부착이 정상적으로 이루어지지 않는 습도인 지를 검색하여 토너가 정상적으로 부착되지 않는 습도이면 발열부를 온한다.
    4. 발명의 중요한 용도.
    전자사진 현상방식을 채용한 화상형성장치에서 사용되어질 수 있다.

    소모품에 장착된 전사장치
    47.
    发明公开
    소모품에 장착된 전사장치 失效
    传输单元安装在耗材上

    公开(公告)号:KR1019970066759A

    公开(公告)日:1997-10-13

    申请号:KR1019960009615

    申请日:1996-03-30

    Inventor: 김동준

    Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
    본 발명은 레이저 빔 프린터에서 소모품인 현상유니트에 전사장치를 일체화 되게 장착하여 전사장치에 오염으로 발생하는 화상불량을 방지할 수 있도록 한 전사장치에 관한 것이다.
    2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
    본 발명은 레이저 빔 프린터의 본체프레임에 장착하는 소모품인 현상유니트의 수명과 전사장치의 수명이 같도록 일체화 되게 설치하여 시간에 따른 전사장치의 오염과 수리의 난이성을 해결할 수 있는 소모품에 장착된 전사장치를 제공함에 있다.
    3. 발명의 해결방법의 요지
    본 발명은 레이저 빔 프린터의 본체프레임에 장착하는 소모품인 현상유니트내의 감광드럼 하측에 전사장치가 위치하도록 일체로 설치하고, 상기 현상유니트의 감광드럼과 전사장치 사이로 용지가 이송되게 가이드홀을 형성하여 시간경과에 따른 전사장치의 오염으로 발생하는 화상불량을 방지할 수 있도록 함을 특징으로 한다.
    4. 발명의 중요한 용도
    본 발명은 레이저 프린터에 사용되는 소모품인 현상유니트 장치.

    감광드럼의 오염을 방지할 수 있는 전사롤러
    48.
    发明公开
    감광드럼의 오염을 방지할 수 있는 전사롤러 失效
    能够防止感光鼓污染的转印辊

    公开(公告)号:KR1019970066758A

    公开(公告)日:1997-10-13

    申请号:KR1019960009213

    申请日:1996-03-29

    Inventor: 김동준

    Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
    본 발명은 저항 물성치가 다른 전사롤러를 사용하므로서 대전롤러와 감광드럼의 양끝단부에 (+)전하가 인가되어 다량의 토너가 부착되는 것을 방지할 수 있는 감광드럼의 오염을 방지할 수 있는 전사롤러 및 전사롤러의 제작 방법에 관한 것이다.
    2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
    본 발명은 고해상도의 화상을 형성할 수 있는 감광드럼의 오염을 방지할 수 있는 전사롤러 및 전사롤러의 제작 방법을 제공하는데 있다.
    3. 발명의 해결방법의 요지
    본 발명은 일정한 주속으로 시계 방향으로 회전하는 감광드럼과, 상기 감광드럼 표면에 전기적으로 전하층을 균일하게 대전시키는 대전롤러와, 전기적으로 대전된 감광드럼 표면에 정전잠상을 형성시키는 노광부와, 상기 감광드럼 표면의 토너 화상을 기록용지상에 전사시키는 전사롤러와, 상기 전사롤러는 기록용지-폭을 벗어난 감광드럼의 양끝단인 제1단부와 상기 대전롤러의 양끝단인 제2단부의 표면에 상기 전사롤러의 전사 기능 중에 다량의 (+)전하가 인가되는 것을 방지하기 위해 제1롤러와 제2롤러로 각각 분리되어 설치된 것이다.
    4. 발명의 중요한 용도
    본 발명은 전사롤러를 저항 물성치가 다른 각각의 제1롤러와 제2롤러를 서로 압입하여 하나의 전사롤러로 제작하므로서 기록용지-폭을 벗어난 감광드럼의 양끝단인 각각의 제1단부 표면에 (+)전하가 인가되는 것을 방지하고, 또한 상기 (+)전하로 인해 다량의 토너가 상기 감광드럼에 부착되는 것을 방지할 수 있으며, 이로인해 상기 감광드럼 및 대전롤러의 수명을 연장시킬 수 있으며, 또한 상기 대전롤러와 감광드럼이 오염되지 않기 때문에 감광드럼 표면을 균일하게 대전시킬 수 있으며, 이로인해 고해상도의 화상을 형성할 수 있으며, 또한 프린팅시, 기록용지의 끝단면에 다량의 토너가 부착되는 것을 방지하므로서 사용자로 하여금 제품의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

    전자사진 프로세서의 화상 형성 장치

    公开(公告)号:KR2019970045407U

    公开(公告)日:1997-07-31

    申请号:KR2019950043900

    申请日:1995-12-19

    Inventor: 김동준

    Abstract: 1. 청구범위에기재된고안이속한기술분야본 고안은공급롤러와현상롤러의하단부에플레이트를설치하므로서토너의대전량을극대화시킬수 있는전자사진프로세서의화상형성장치에관한것이다. 2. 고안이해결하려고하는기술적과제본 고안은고해상도의화상을형성할수 있는전자사진프로세서의화상형성장치를제공하는데있다. 3. 고안의해결방법의요지본 고안은현상기는토너를저장하는토너적재부와, 상기토너를전기적으로균일하게교반시키는교반기와, 상기교반된토너를현상롤러측으로공급하는공급롤러와, 상기감광드럼표면에형성된정전잠상에상기토너를현상시키는현상롤러와, 상기현상롤러표면에형성된토너를일정한높이로균일하게규제시키는독터블레이드와, 상기토너와의마찰을최대한증가시켜대전량을증가시키는플레이트로구성된것이다. 4. 고안의중요한용도본 고안은공급롤러와현상롤러의하단부에플레이트를설치하여마찰또는일정한전압에의해역(+)극성토너를 (-)극성으로토너를대전시킬수 있으며, 또한토너의대전량을극대화시킬수 있기때문에대전롤러와감광드럼의오염방지및 대전롤러의수명을연장시킬수 있으며, 이로인해고해상도의화상을형성할수 있으며, 또한사용자로하여금제품의신뢰성을향상시킬수 있는효과가있다.

    비휘발성 메모리장치 및 그 제조방법
    50.
    发明公开
    비휘발성 메모리장치 및 그 제조방법 失效
    非易失性存储器件及其制造方法

    公开(公告)号:KR1019970054185A

    公开(公告)日:1997-07-31

    申请号:KR1019950059519

    申请日:1995-12-27

    Inventor: 김동준

    Abstract: 그 내벽 및 측벽까지도 캐패시터의 유효면적으로 사용할 수 있는 U자 묘양의 플로팅케이트를 구비한 비휘발성 메로리장치 및 그 제조방법에 대해 기재되어 있다. 이는, 반도체기고판에 반복하여 형성된 액티브영역과 분리 영역, 액티브 영역의 반도체기판위에 형성된 개이트절연막, 게이트절연막위에 형성된 플로팅게이트 및 를로팅 게이트위에 충간절연막을 개재하여 형성된 콘트롤게이트를 구비하는 비휘발성 메모리장치에 있어서, 플로팅게이트는 U자 모양으로 형성되되, 그 안쪽면과 바깥쪽면 모두가 충간절연막과 접독되로고 형성된 것을 특징으로한다. 따라서, 충간절연막에 대하나 캐패시턴스가 증가되어, 데이타를 프로그램하거나 소거하는 특성이 좋게 되고, 종래기술과 동일한 표면적을 갖는 경우 플로팅게이트의 높이를 절반으로 낮출 수 있게 되어, 종래기술에서 문제되는 후속공정의 식각이 용이해지는 것이다.

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