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公开(公告)号:KR100585091B1
公开(公告)日:2006-05-30
申请号:KR1020030037860
申请日:2003-06-12
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67253 , F04B51/00 , Y10S134/902
Abstract: 펌프의 이상을 미연에 예측하여, 세정 중 펌프가 돌발적으로 정지되는 것을 방지할 수 있는 웨이퍼 세정 장치 및 방법을 개시한다. 개시된 본 발명의 웨이퍼 세정 장치는, 약액이 수용되어 있으며, 웨이퍼가 침지되어 약액에 의해 세정이 진행되는 세정조와, 상기 세정조에서 오버플로우된 약액을 흡입하는 펌프와, 상기 펌프에 의해 흡입된 약액내의 불순물을 여과시키는 필터부와, 상기 필터부에 의해 여과된 약액을 일정 온도로 승온시켜 상기 세정조에 공급하는 히터부, 및 상기 펌프 구동시 동작되며 상기 펌프에 흡입되는 약액의 유량을 연산하여 상기 약액의 유량에 따라 펌프의 이상을 예측하도록 프로그램된 펌프 이상 예측부를 구비한 프로그램이 가능한 로직 제어부 포함한다.
펌프, PLC, 프로그램, 모니터링