HETARYLCARBONSÄURE-N-(BIPHEN-2-YL)AMID-VERBINDUNGEN
    42.
    发明申请
    HETARYLCARBONSÄURE-N-(BIPHEN-2-YL)AMID-VERBINDUNGEN 审中-公开
    HETARYLCARBONSÄURE-N-(联苯-2-基)酰胺化合物

    公开(公告)号:WO2008053044A2

    公开(公告)日:2008-05-08

    申请号:PCT/EP2007/061834

    申请日:2007-11-02

    Abstract: Die vorliegende Erfindung betrifft Hetarylcarbonsäure-N-(biphen-2-yl)amid- Verbindungen, ihre Verwendung zur Bekämpfung von Schadpilzen, fungizide Mittel, die derartige Verbindungen enthalten, sowie Verfahren zur Bekämpfung von Schadpilzen worin m für 0, 1, 2, 3 oder 4 steht; n für 0, 1 oder 2 steht; R für C 1 -C 4 -Alkyl oder C 1 -C 4 -Halogenalkyl steht oder für n = 2 auch NH 2 stehen kann; Hal für Halogen, insbesondere für Fluor oder Chlor steht; und A für einen heteroaromatischen Rest steht, der ausgewählt ist unter Resten der allgemeinen Formeln A.1, A.2 und A.3 worin R 1 für Methyl oder Halogenmethyl steht; R 2 für Wasserstoff, Fluor oder Chlor steht; R 3 für Wasserstoff, Chlor, Methyl oder Trifluormethyl steht; R 4 für Wasserstoff, Fluor, Chlor, Methyl oder Trifluormethyl steht; und R 5 für Fluor, Chlor, Methyl, Difluormethyl, Trifluormethyl oder Methoxy steht; und deren Salze, ausgenommen Verbindungen, worin die Gruppe S(O) n -R für eine Thio-C 1 -C 4 -alkylgruppe steht, die in der 4'-Position der Biphenyl-Einheit gebunden ist, wenn A für einen Rest A.2 oder einen Rest A.3 steht.

    Abstract translation: 本发明涉及Hetarylcarbonsäure-N-(联苯-2-基)酰胺化合物,它们在防治有害真菌的,含有这些化合物的杀真菌组合物,和方法,用于防治有害真菌,其中m为0,1,2,3使用 或4; n为0,1或2; R表示ç 1 -C 4 烷基或C 1 -C 4 是卤代烷基或对于n = 2和NH 2 经得起; Hal表示卤素,特别是氟或氯; A是杂芳基从通式A.1,A.2和A.3其中R 1 为甲基或卤代甲基的基团中选择; [R 2 代表氢,氟或氯; [R 3 代表氢,氯,甲基或三氟甲基; [R 4 代表氢,氟,氯,甲基或三氟甲基; 且R 5 代表氟,氯,甲基,二氟甲基,三氟甲基或甲氧基; 和它们的盐,比其它的化合物,其中基团S(O)名词 -Ra·奥-C 1 -C 4 是烷基 这是在联苯基部分的4'位键合,当A为基团A.2或A.3的残基。

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