紫外线照射装置
    41.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102695558B

    公开(公告)日:2014-04-16

    申请号:CN200980162712.0

    申请日:2009-12-02

    Abstract: 存储部(6)中按LED单元(2)的输出设定值的每一个候选值存储有修正表。在之前从由多个LED芯片(8)构成的各LED单元(2)放射了紫外线的情况下,当利用操作部(53)设定了输出设定值时,PLC(5)从输出设定值的修正表中取得与到上次放射为止的累计放射时间对应的修正值。然后,PLC(5)使用所取得的修正值设定向各LED单元(2)的供给电力的大小。这里,在设定了与上次的输出设定值不同的输出设定值的情况下,PLC(5)根据变更时的累计放射时间求出修正值。由此,紫外线照射装置使用于放射紫外线所需要的消耗电力减小,并且,即使变更输出设定值也能够与累计放射时间无关地将紫外线输出保持恒定。

    紫外线照射装置
    43.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102695558A

    公开(公告)日:2012-09-26

    申请号:CN200980162712.0

    申请日:2009-12-02

    Abstract: 存储部(6)中按LED单元(2)的输出设定值的每一个候选值存储有修正表。在之前从由多个LED芯片(8)构成的各LED单元(2)放射了紫外线的情况下,当利用操作部(53)设定了输出设定值时,PLC(5)从输出设定值的修正表中取得与到上次放射为止的累计放射时间对应的修正值。然后,PLC(5)使用所取得的修正值设定向各LED单元(2)的供给电力的大小。这里,在设定了与上次的输出设定值不同的输出设定值的情况下,PLC(5)根据变更时的累计放射时间求出修正值。由此,紫外线照射装置使用于放射紫外线所需要的消耗电力减小,并且,即使变更输出设定值也能够与累计放射时间无关地将紫外线输出保持恒定。

    半导体紫外线超声波联合水处理设备

    公开(公告)号:CN101580289B

    公开(公告)日:2011-04-20

    申请号:CN200910032778.X

    申请日:2009-06-08

    Applicant: 钟旭东

    Inventor: 钟旭东

    CPC classification number: C02F2201/3222 C02F2301/02 C02F2303/04

    Abstract: 一种半导体紫外线超声波联合水处理设备,由水槽、超声波振板和LED紫外线发光板组成,水槽从前至后由收口段、喉道段和扩口段依次连接构成;所述收口段的槽底为水平平面,两槽壁之间的间距由前至后逐渐缩小,且收口段水平方向截面为梯形;所述喉道段的槽底为从前至后下斜的平面,且喉道段的水平方向截面为矩形;所述扩口段的槽底为从前至后上斜的平面,两槽壁之间的间距由前至后逐渐扩大,且扩口段的水平方向截面为梯形。本发明运用巴歇尔槽设计原理,然后在其上安装超声波振板和LED紫外线发光板。该设备操作简单,抑菌消毒速度快,有机物降解明显,自动化控制程度高优点。

    半导体紫外线超声波联合水处理设备

    公开(公告)号:CN101580289A

    公开(公告)日:2009-11-18

    申请号:CN200910032778.X

    申请日:2009-06-08

    Applicant: 钟旭东

    Inventor: 钟旭东

    CPC classification number: C02F2201/3222 C02F2301/02 C02F2303/04

    Abstract: 一种半导体紫外线超声波联合水处理设备,由水槽、超声波振板和LED紫外线发光板组成,水槽从前至后由收口段、喉道段和扩口段依次连接构成;所述收口段的槽底为水平平面,两槽壁之间的间距由前至后逐渐缩小,且收口段水平方向截面为梯形;所述喉道段的槽底为从前至后下斜的平面,且喉道段的水平方向截面为矩形;所述扩口段的槽底为从前至后上斜的平面,两槽壁之间的间距由前至后逐渐扩大,且扩口段的水平方向截面为梯形。本发明运用巴歇尔槽设计原理,然后在其上安装超声波振板和LED紫外线发光板。该设备操作简单,抑菌消毒速度快,有机物降解明显,自动化控制程度高优点。

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