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    護膜黏貼裝置之護膜加壓機構
    52.
    发明专利
    護膜黏貼裝置之護膜加壓機構 审中-公开
    护膜黏贴设备之护膜加压机构

    公开(公告)号：TW200916948A

    公开(公告)日：2009-04-16

    申请号：TW096137539

    申请日：2007-10-05

    Applicant: 旭化成電子股份有限公司 ASAHI KASEI EMD CORPORATION ,  松下精機股份有限公司 MATSUSHITA SEIKI CO., LTD.

    Inventor： 川純一 SHIOKAWA, JUN-ICHI ,  高橋秀雄 TAKAHASHI, HIDEO

    IPC: G03F ,  B32B

    Abstract: 在本發明之護膜加壓機構中,即使在護膜加壓板產生彎曲或扭曲,亦可均勻地加壓護膜組合體整體,且可確保良好的接著狀態。護膜黏貼裝置之護膜加壓機構係在遮罩保持機構與和驅動機構連結之護膜加壓機構之間夾持曝光用遮罩及護膜組合體,且以護膜加壓機構之護膜加壓面將護膜組合體之矩形護膜框推壓至曝光用遮罩,以將護膜組合體黏貼於曝光用遮罩。該護膜加壓機構包含:具有護膜加壓面之護膜加壓板;及將驅動機構所產生之加壓力傳達至護膜加壓板之傳達構件。又,在護膜加壓板與傳達構件之間設有緩衝板,且該緩衝板宜使用例如低楊氏係數之矽膠製膠帶等帶狀構件。

    Abstract in simplified Chinese: 在本发明之护膜加压机构中,即使在护膜加压板产生弯曲或扭曲,亦可均匀地加压护膜组合体整体,且可确保良好的接着状态。护膜黏贴设备之护膜加压机构系在遮罩保持机构与和驱动机构链接之护膜加压机构之间夹持曝光用遮罩及护膜组合体,且以护膜加压机构之护膜加压面将护膜组合体之矩形护膜框推压至曝光用遮罩,以将护膜组合体黏贴于曝光用遮罩。该护膜加压机构包含:具有护膜加压面之护膜加压板;及将驱动机构所产生之加压力传达至护膜加压板之传达构件。又,在护膜加压板与传达构件之间设有缓冲板,且该缓冲板宜使用例如低杨氏系数之硅胶制胶带等带状构件。

    感光性樹脂組合物
    53.
    发明专利
    感光性樹脂組合物 审中-公开
    感光性树脂组合物

    公开(公告)号：TW200905400A

    公开(公告)日：2009-02-01

    申请号：TW097111085

    申请日：2008-03-27

    Applicant: 旭化成電子材料元件股份有限公司 ASAHI KASEI EMD CORPORATION

    Inventor： 賴末友裕 YORISUE, TOMOHIRO

    IPC: G03F ,  H01L

    CPC classification number: C08F299/00 ,  C08F290/148 ,  C08F299/08 ,  C08G77/20 ,  C08G77/58 ,  C08G77/70 ,  C09D183/14 ,  G03F7/029 ,  G03F7/0757

    Abstract: 本發明使用一種包含具有苯乙烯基作為感光基之感光性聚矽氧化合物、以及特定結構之光聚合起始劑的感光性樹脂組合物。藉此,提供一種適合用作LSI晶片之緩衝層材料或再配線層之可於空氣中進行光聚合硬化的感光性樹脂組合物,以及使用感光性樹脂組合物之硬化凸紋圖案之形成方法,及具有硬化凸紋圖案之半導體裝置。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明使用一种包含具有苯乙烯基作为感光基之感光性聚硅氧化合物、以及特定结构之光聚合起始剂的感光性树脂组合物。借此,提供一种适合用作LSI芯片之缓冲层材料或再配线层之可于空气中进行光聚合硬化的感光性树脂组合物,以及使用感光性树脂组合物之硬化凸纹图案之形成方法,及具有硬化凸纹图案之半导体设备。

    角度檢出裝置及角度檢出系統
    56.
    发明专利
    角度檢出裝置及角度檢出系統 有权
    角度检出设备及角度检出系统

    公开(公告)号：TWI266887B

    公开(公告)日：2006-11-21

    申请号：TW092106418

    申请日：2003-03-20

    Applicant: 旭化成電子材料元件股份有限公司 ASAHI KASEI EMD CORPORATION

    Inventor： 角田勝巳 KAKUTA, KATSUMI ,  克利斯提安 修特 SCHOTT, CHRISTIAN

    IPC: G01R

    CPC classification number: G01D5/145 ,  G01D5/14 ,  G01D5/24409

    Abstract: 本發明提供儘管電路配置簡易，卻可實現磁場的正確角度檢出的角度檢出裝置以及用來檢出磁場角度的角度檢出系統。HE是霍爾元件，2是XY轉換部，4是調變‧驅動部，6是DDA，8是P-P檢出部，10及12是S/H部，14是後段處理電路，16是S/H部，18是保持成份指定電路，20是X、Y指定輸入部，22是運算放大器。根據此角度檢出裝置，不必施以個別運算處理求出sin θ及cos θ並進一步求出tan θ，可由保持於S/H部(10)的X成份以及保持於S/H部(12)的Y成份直接求出tan θ。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明提供尽管电路配置简易，却可实现磁场的正确角度检出的角度检出设备以及用来检出磁场角度的角度检出系统。HE是霍尔组件，2是XY转换部，4是调制‧驱动部，6是DDA，8是P-P检出部，10及12是S/H部，14是后段处理电路，16是S/H部，18是保持成份指定电路，20是X、Y指定输入部，22是运算放大器。根据此角度检出设备，不必施以个别运算处理求出sin θ及cos θ并进一步求出tan θ，可由保持于S/H部(10)的X成份以及保持于S/H部(12)的Y成份直接求出tan θ。

    聚醯胺
    57.
    发明专利
    聚醯胺 审中-公开
    聚酰胺

    公开(公告)号：TW200607825A

    公开(公告)日：2006-03-01

    申请号：TW094123791

    申请日：2005-07-13

    Applicant: 旭化成電子材料元件股份有限公司 ASAHI KASEI EMD CORPORATION

    Inventor： 木村正志 KIMURA, MASASHI ,  金田隆行 KANADA, TAKAYUKI ,  花博之 HANAHATA, HIROYUKI

    IPC: C08G ,  G03F

    CPC classification number: G03F7/0757 ,  C08G73/14 ,  G03F7/0387 ,  G03F7/0388

    Abstract: 本發明係有關一種具有以通式(1)所示構造之聚醯胺。094123791-p01.bmp(其中，m及n係滿足m≧1、n≧1、2≦(m＋n)≦150、及0.3≦m／(m＋n)≦0.9之整數，R1及R2係表示至少具有1個光聚合性不飽和鍵之1價有機基，X1係表示至少1個4價芳香族基，X2係表示至少1個3價芳香族基，Y1及Y2係表示至少1個2價有機基，以及Z係表示至少1個選自經取代的胺基及醯亞胺基之1價有機基)094123791-p01.bmp

    Abstract in simplified Chinese: 本发明系有关一种具有以通式(1)所示构造之聚酰胺。094123791-p01.bmp(其中，m及n系满足m≧1、n≧1、2≦(m＋n)≦150、及0.3≦m／(m＋n)≦0.9之整数，R1及R2系表示至少具有1个光聚合性不饱和键之1价有机基，X1系表示至少1个4价芳香族基，X2系表示至少1个3价芳香族基，Y1及Y2系表示至少1个2价有机基，以及Z系表示至少1个选自经取代的胺基及酰亚胺基之1价有机基)094123791-p01.bmp

    大型光罩用護罩的支承裝置及配件的使用方法
    59.
    发明专利
    大型光罩用護罩的支承裝置及配件的使用方法 有权
    大型光罩用护罩的支承设备及配件的使用方法

    公开(公告)号：TWI241625B

    公开(公告)日：2005-10-11

    申请号：TW093113488

    申请日：2004-05-13

    Applicant: 旭化成電子材料元件股份有限公司 ASAHI KASEI EMD CORPORATION

    Inventor： 栗山芳真 KURIYAMA, HOZUMA ,  元一郎 WAKIMOTO, ICHIRO

    IPC: H01L

    Abstract: 本發明是關於將附著在光罩用護罩(pellicle)之膜上的異物去除或將光罩用護罩之膜檢查的設備及其使用方法。
    即使為大型光罩用護罩也可容易地處理，而且為了提供作為可容易地檢查其整面的支承裝置，因此本發明的大型光罩用護罩的支承裝置之代表性的構成是在大型光罩用護罩的支承裝置之中，具備：平衡器裝置、安裝在上述平衡器裝置的配件、及與上述配件卡合，並且與光罩用護罩的框部嵌合的座架。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明是关于将附着在光罩用护罩(pellicle)之膜上的异物去除或将光罩用护罩之膜检查的设备及其使用方法。 即使为大型光罩用护罩也可容易地处理，而且为了提供作为可容易地检查其整面的支承设备，因此本发明的大型光罩用护罩的支承设备之代表性的构成是在大型光罩用护罩的支承设备之中，具备：平衡器设备、安装在上述平衡器设备的配件、及与上述配件卡合，并且与光罩用护罩的框部嵌合的座架。

    薄膜及薄膜用框 PELLICLE AND FRAME FOR PELLICLE
    60.
    发明专利
    薄膜及薄膜用框 PELLICLE AND FRAME FOR PELLICLE 审中-公开

    公开(公告)号：TW200525286A

    公开(公告)日：2005-08-01

    申请号：TW093128464

    申请日：2004-09-20

    Applicant: 旭化成電子材料元件股份有限公司 ASAHI KASEI EMD CORPORATION

    Inventor： 栗山芳真 KURIYAMA, HOZUMA ,  元一郎 WAKIMOTO, ICHIRO

    IPC: G03F

    Abstract: 一種薄膜及薄膜用框，將黏貼於框體的大型薄膜膜片黏貼在光罩時，為了防止上述大型薄膜膜片皺摺的產生，具有面積為1,000cm^2以上的薄膜膜片及展開黏貼支撐薄膜膜片用的一對長邊和一對短邊的框體所構成的大型薄膜中，框體其至少的一對長邊是形成朝著框體外側突出，並且將薄膜膜片展開於框體上，框體的長邊中央部形成較長邊端部向內側凹陷。

    Abstract in simplified Chinese: 一种薄膜及薄膜用框，将黏贴于框体的大型薄膜膜片黏贴在光罩时，为了防止上述大型薄膜膜片皱折的产生，具有面积为1,000cm^2以上的薄膜膜片及展开黏贴支撑薄膜膜片用的一对长边和一对短边的框体所构成的大型薄膜中，框体其至少的一对长边是形成朝着框体外侧突出，并且将薄膜膜片展开于框体上，框体的长边中央部形成较长边端部向内侧凹陷。

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