公开(公告)号：JP2014505010A

公开(公告)日：2014-02-27

申请号：JP2013529343

申请日：2011-09-15

Applicant: エスティーシー. ユーエヌエムStc.Unm

Inventor： ポール，スロジット

IPC: C07K14/47 ,  A61K38/46 ,  A61P25/00 ,  A61P25/14 ,  A61P25/18 ,  A61P25/28 ,  C12N15/01

CPC classification number: C12N9/16 ,  A61K38/00 ,  A61K38/465 ,  C12Y301/03048

Abstract: 【構成】ニューロン特異性チロシンホスファターゼの修飾誘導体である新規なペプチド配列に関する。 この新規なペプチド配列は、具体的には線条体リッチ化チロシンホスファターゼ（ＳＴＥＰ）の修飾誘導体である。 過剰なグルタメート放出および／または酸化的ストレスから発症する脳損傷を緩和および治療できるように上記ペプチド配列を修飾する。 本発明のペプチド配列により有効に治療できる脳損傷タイプの実例は、発作から発症する急性脳損傷、外傷性脳損傷、およびハンティントン舞踏病や統合失調症などの慢性疾患である。 さらに、本発明のペプチド配列は、ＰＴＤＳなどの恐怖体験記憶に関連する疾患の治療および緩和に有効である。
【選択図】図６

公开(公告)号：JP2013544321A

公开(公告)日：2013-12-12

申请号：JP2013538893

申请日：2011-11-10

Applicant: エスティーシー. ユーエヌエムStc.Unm ,  クラウディア ルアース, ,  ジョナサン フィリップス, ,  ヘイサム ソリマン,

Inventor： ザイード リースマン， ,  クラウディア ルアース， ,  ジョナサン フィリップス， ,  ヘイサム ソリマン，

IPC: B22F9/20

CPC classification number: B22F9/26 ,  B22F1/0018 ,  B22F1/0096 ,  B22F9/22 ,  B33Y40/00 ,  B82Y40/00

Abstract: 種々の実施形態は、エアロゾル還元／膨張合成（Ａ−ＲＥＳ）プロセスを使用して、ゼロ原子価金属粒子を形成する方法を提供し、一実施形態では、金属前駆体化合物と、熱分解時に還元ガスを産生する化学剤とを含むエアロゾル流が、ＲＥＳ反応炉の加熱された不活性雰囲気中に導入され、金属前駆体化合物のために使用される金属に対応するゼロ原子価金属粒子を形成することができる。 種々の実施形態によると、本教示は、金属粒子を形成する方法をさらに含む。 金属粒子は、エアロゾル流から形成されることができる。 エアロゾル流は、金属前駆体化合物と窒素−水素（Ｎ−Ｈ）含有分子とを搬送ガス中に含むことができる。

Abstract translation: 各种实施方案提供了使用气溶胶 - 还原/扩展合成（A-RES）方法形成零价金属颗粒的方法。 在一个实施方案中，包含金属前体化合物和在热分解时产生还原气体的化学试剂的气溶胶流可引入到RES反应器的加热惰性气氛中，以形成对应于用于 金属前体化合物。

公开(公告)号：JP2013048066A

公开(公告)日：2013-03-07

申请号：JP2011186500

申请日：2011-08-29

Applicant: Daihatsu Motor Co Ltd ,  ダイハツ工業株式会社 ,  Stc Unm ,  エスティーシー. ユーエヌエムStc.Unm

Inventor： SAKAMOTO TOMOKAZU ,  ASAZAWA KOICHIRO ,  TANAKA HIROHISA ,  ULISES MARTINEZ ,  BARR HALEVI ,  PLAMEN ATANASSOV

IPC: H01M4/90 ,  H01M8/06 ,  H01M8/10

CPC classification number: Y02E60/521

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a fuel cell showing excellent power generation performance, the fuel cell using as a fuel a compound containing at least hydrogen and nitrogen, and an anion exchange membrane as an electrolyte layer.SOLUTION: A fuel cell 1 comprises: an electrolyte layer 4 composed of an anion exchange membrane; and a fuel-side electrode 2 and an oxygen-side electrode 3, facing each other across the electrolyte layer. The fuel-side electrode contains nickel, zinc, and rare-earth element as a metal catalyst, the percentage of a nickel content being equal to or more than 20 mol%, a zinc content being 10 to 60 mol%, and a rare-earth element content being equal to or less than 50 mol% with respect to the total number of moles of the nickel, zinc, and rare-earth element. A compound, containing at least hydrogen and nitrogen, such as hydrazine is used as a fuel.

Abstract translation: 要解决的问题：为了提供一种具有优异的发电性能的燃料电池，使用至少含有氢和氮的化合物作为燃料的燃料电池和作为电解质层的阴离子交换膜。 解决方案：燃料电池1包括：由阴离子交换膜组成的电解质层4; 以及在电解质层上彼此相对的燃料侧电极2和氧气侧电极3。 燃料侧电极含有作为金属催化剂的镍，锌和稀土元素，镍含量的百分比等于或大于20摩尔％，锌含量为10至60摩尔％ 土元素含量相对于镍，锌，稀土元素的总摩尔数为50摩尔％以下。 使用至少含有氢和氮的化合物，例如肼，作为燃料。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2011526958A

公开(公告)日：2011-10-20

申请号：JP2011516802

申请日：2009-06-30

Applicant: エスティーシー. ユーエヌエムStc.Unm

Inventor： デイビッド ジェイ． キッセル， ,  チャールズ ジェフリー ブリンカー，

IPC: C09D183/02 ,  C08G77/02 ,  C09D125/06 ,  C09D133/04 ,  C09K3/18

CPC classification number: C09D7/1225 ,  A01N55/00 ,  C08K3/36 ,  C08K9/06 ,  C09D5/006 ,  C09D5/14 ,  C09D5/165 ,  C09D5/1681 ,  C09D7/62 ,  C09D133/12 ,  D06N3/0043 ,  D06N3/0063 ,  D10B2401/10 ,  D10B2401/13 ,  Y10T428/249953 ,  Y10T428/249972 ,  Y10T428/24999 ,  Y10T428/249991 ,  Y10T442/20

Abstract: ポリマー−エアロゲル複合コーティング、ポリマー−エアロゲル複合コーティングを含むデバイスおよび物品、ならびにそのポリマー−エアロゲル複合材を調製する方法が提供される。 例示的物品は、少なくとも１つの領域を含む表面と、その少なくとも１つの領域上に配置された、少なくとも約１４０°の水接触角および約１°未満の接触角ヒステリシスを有するポリマー−エアロゲル複合コーティングとを含むことができる。 ポリマー−エアロゲル複合コーティングはポリマー、および超高水分含量触媒作用によるポリシリケートエアロゲルを含むことができ、このポリシリケートエアロゲルは、シリル化剤により誘導体化された表面官能基を有するシリカ粒子の三次元網目、および多数の孔を含む。

公开(公告)号：JP2011522044A

公开(公告)日：2011-07-28

申请号：JP2011512464

申请日：2009-06-02

Applicant: エスティーシー. ユーエヌエムStc.Unm

Inventor： クロ， テリー， ダブリュー デュ ,  キャロリン モールド，

IPC: A61K38/00 ,  A61K38/35 ,  A61K45/00 ,  A61P1/02 ,  A61P1/08 ,  A61P1/12 ,  A61P1/14 ,  A61P3/02 ,  A61P7/00 ,  A61P7/06 ,  A61P9/00 ,  A61P9/08 ,  A61P11/02 ,  A61P13/12 ,  A61P17/00 ,  A61P17/04 ,  A61P17/14 ,  A61P19/02 ,  A61P25/00 ,  A61P25/28 ,  A61P29/00 ,  A61P37/02 ,  A61P37/04 ,  A61P37/06 ,  A61P43/00 ,  C07K14/47

CPC classification number: A61K38/1745 ,  C07K14/4737

Abstract: 本発明は、本明細書に別に開示される多数のものの中でも特に、皮膚の狼瘡（円板状のもの）、関節、肺及び腎臓の全身性狼瘡などのＳＬＥと関連する種々の病状及び状態、溶血性貧血及び低リンパ球数などの血液状態、リンパ節腫脹、並びに記憶喪失、発作及び精神病などのＣＮＳ作用の治療のための、チロシン１７５がロイシンによって置換されている（Ｙ１７５Ｌ ＣＲＰ）又はロイシン１７６がグルタミン酸によって置換されている（Ｌ１７６Ｅ ＣＲＰ）突然変異体ＣＲＰ分子の使用に関する。 本発明の別の態様では、ＳＬＥと関連する病状又は状態を発症する危険がある患者が発症する可能性の低減が、本発明の更なる態様である。 本発明は、全身性狼瘡のＳＬＥのために二次的に生じる多くの病状又は状態の治療における、突然変異体Ｙ１７５Ｌ ＣＲＰ又はＬ１７６Ｅ ＣＲＰの使用に関する。 本発明はまた、免疫性血小板減少症紫斑病の治療に関する。 これらの突然変異体ＣＲＰ分子に基づいた医薬組成物もまた、開示される。

公开(公告)号：JP2010199594A

公开(公告)日：2010-09-09

申请号：JP2010069006

申请日：2010-03-24

Applicant: Stc Unm ,  Univ Of New Mexico ,  エスティーシー. ユーエヌエムStc.Unm ,  ザ ユニバーシティ オブ ニュー メキシコ

Inventor： BRUECK S R J ,  CHEN XIAOLAN ,  FRAUENGLASS ANDREW ,  ZAIDI SALEEM H

IPC: H01L21/027 ,  G03F1/08 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70125 ,  G03F7/2022 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/70408 ,  G03F7/7045

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method and apparatus for defining a single structure (11) on a semiconductor wafer by spatial frequency components. SOLUTION: Some of the spatial frequency components (12-16) are derived by optical lithography and some by interferometric lithography technology. Interferometric lithography images the high frequency components while optical lithography images the low frequency components. Optics collects many spatial frequencies and the interferometry shifts the spatial frequencies to high spatial frequencies. Thus, because a mask does not need to provide high spatial frequencies, the masks are configured to create only low frequency components. Thereby fabrication of simpler masks having larger structures is allowed. These methods and apparatus facilitate writing of more complex repetitive as well as non-repetitive patterns in a single exposure with a resolution which is higher than that currently available using known optical lithography alone. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种用于通过空间频率分量在半导体晶片上定义单个结构（11）的方法和装置。 解决方案：一些空间频率分量（12-16）是通过光学光刻技术得到的，一些通过干涉光刻技术得到。 干涉光刻成像高频分量，而光刻成像低频分量。 光学收集许多空间频率，干涉测量将空间频率移动到高空间频率。 因此，由于掩模不需要提供高空间频率，所以掩模被配置为仅产生低频分量。 从而允许制造具有较大结构的更简单的掩模。 这些方法和装置便于在单一曝光中以更高复杂度的重复和非重复图案的写入，该分辨率高于目前仅使用已知光刻技术的分辨率。 版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP6438890B2

公开(公告)日：2018-12-19

申请号：JP2015552685

申请日：2014-01-16

Applicant: エスティーシー. ユーエヌエム ,  STC.UNM

Inventor： セロフ,アレクシー ,  アタナソフ,プラメン,ビー.

IPC: H01M4/88 ,  H01M8/10 ,  H01M4/90 ,  B01J31/28

公开(公告)号：JP6275730B2

公开(公告)日：2018-02-07

申请号：JP2015537000

申请日：2013-10-15

Applicant: エスティーシー. ユーエヌエム ,  STC.UNM

Inventor： セロフ,アレクシー ,  アタナソフ,プラメン,ビー. ,  ハレヴィ,バー ,  ショート,ポール

IPC: B01J37/08 ,  H01M4/88 ,  H01M4/90 ,  B01J31/28

CPC classification number: H01M4/9091 ,  B01J31/1805 ,  H01M4/8652 ,  H01M4/8814 ,  H01M4/8846 ,  H01M4/8885 ,  H01M4/9008 ,  H01M8/1011 ,  H01M2008/1095 ,  Y02E60/50 ,  Y02E60/523

公开(公告)号：JP6185932B2

公开(公告)日：2017-08-23

申请号：JP2014552287

申请日：2013-01-10

Applicant: エスティーシー. ユーエヌエム ,  STC.UNM

Inventor： チャカリアン, ブライス ,  ピーボディ, デイヴィッド ,  タブマン, エベネーザー

IPC: C12N7/00 ,  A61K39/12 ,  C07K14/025 ,  A61P37/04 ,  A61P31/20 ,  C12N15/09

CPC classification number: A61K39/12 ,  A61K2039/5258 ,  A61K2039/58 ,  C12N2710/20034 ,  C12N2795/18142 ,  C12N2795/18143

公开(公告)号：JP6086981B2

公开(公告)日：2017-03-01

申请号：JP2015521794

申请日：2013-07-11

Applicant: エスティーシー. ユーエヌエム ,  STC.UNM

Inventor： セロフ,アレクシー ,  アタナソフ,プラメン,ビー

IPC: B01J27/24 ,  B01J37/08 ,  H01M4/90 ,  H01M4/88

CPC classification number: H01M4/9075 ,  B01J23/745 ,  C07D235/30 ,  C07D235/32 ,  H01M4/90 ,  H01M4/9041 ,  B01J37/084 ,  H01M2008/1095 ,  Y02E60/50