-
公开(公告)号：CN100460896C
公开(公告)日：2009-02-11
申请号：CN200580029833.X
申请日：2005-08-30
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: B05D1/38 , B05D3/0486 , B05D3/067 , B05D7/536 , G02B1/105 , G02B1/111 , G02B1/14 , G02B1/16 , G02B5/3033 , Y10T428/31
Abstract: 一种包含在透明基底上的至少两层电离辐射-固化层的光学薄膜的生产方法，该方法包括：通过一定波长的电离辐射对层A进行照射的步骤1，所述层A包括在一定灵敏度的波长范围内的较长的波长侧具有不同吸收端的两种或更多种聚合引发剂，所述聚合引发剂对于所述波长范围是敏感的，对于所述电离辐射的波长，至少一种聚合引发剂(a)基本上不敏感，至少一种聚合引发剂(b)是敏感的；和在步骤A之后，将层B用的涂布液涂布在层A上然后通过具有一定波长的电离辐射对层B用的涂布液进行照射的步骤2，所述层B包含至少一种聚合引发剂(c)，对于步骤2中的电离辐射的波长，聚合引发剂(a)和(c)是敏感的。
-
公开(公告)号：CN101359132A
公开(公告)日：2009-02-04
申请号：CN200810136033.3
申请日：2008-07-08
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G02F1/1339 , G03F7/028 , G03F7/00
Abstract: 本发明提供一种间隔件，其中，使用至少含有树脂、聚合性化合物以及光聚合引发剂的感光性组合物而形成，在25℃下压缩15％时的弹性系数为0.5GPa以上且3.0GPa以下，底面积超过20μm2且350μm2以下，高度为1.0μm以上且10.0μm以下。利用本发明，可以提供弹性恢复率以及加权变形量大的间隔件。
-
公开(公告)号：CN1934464A
公开(公告)日：2007-03-21
申请号：CN200580009527.X
申请日：2005-03-23
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G02B1/111 , G02B5/3016
Abstract: 本发明的目的是提供具有优异的抗划伤性，同时具有足够高的抗反射性能的抗反射薄膜的制备方法，通过该制备方法获得的抗反射薄膜以及各自包括这种抗反射薄膜的偏振片和图像显示装置。用于制备包括透明基底、在该透明基底上包括至少一层的抗反射层的抗反射薄膜的方法，该制备方法包括用含有以下步骤(1)和(2)的层形成方法在所述透明基底上形成至少一层：(1)在透明基底上施涂涂层的步骤，和(2)在氧浓度低于空气中的氧浓度的气氛中通过照射电离辐射来固化所述涂层的步骤。
-
-
Search Results
53
records
(took 0.036 seconds)
