半导体装置
    53.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105789221A

    公开(公告)日:2016-07-20

    申请号:CN201610219710.2

    申请日:2010-03-29

    Abstract: 本公开的发明名称为“半导体装置”。本发明提供半导体装置。在一些情况下,阈值电压在薄膜晶体管的制造过程中沿负或正方向偏移某个未指定因子。如果离0 V的偏移量很大,则驱动电压增加,这引起半导体装置的功耗的增加。因此,具有良好平坦度的树脂层作为覆盖氧化物半导体层的第一保护绝缘膜而形成,然后第二保护绝缘膜通过低功率条件下的溅射方法或者等离子体CVD方法在树脂层之上形成。此外,为了将阈值电压调整到预期值,栅电极设置在氧化物半导体层之上和之下。

    半导体器件及电子设备

    公开(公告)号:CN101276824B

    公开(公告)日:2015-07-15

    申请号:CN200810086693.5

    申请日:2008-03-26

    Inventor: 宍户英明

    Abstract: 本发明是一种半导体器件,包括:光电转换层;放大光电转换层的输出电流且包括两个薄膜晶体管的放大器电路;供给高电位电源的第一端子;供给低电位电源的第二端子;电连接所述两个薄膜晶体管和所述光电转换层的电极;电连接所述第一端子和所述两个薄膜晶体管的一方的第一薄膜晶体管的第一布线;以及,电连接所述第二端子和所述两个薄膜晶体管的另一方的第二薄膜晶体管的第二布线。在所述半导体器件中,通过使所述第一布线及第二布线弯曲,来使所述第一布线和所述第二布线的电压下降量变大。

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