公开(公告)号：CN101995598B

公开(公告)日：2016-01-20

申请号：CN201010248400.6

申请日：2010-08-09

Applicant: JDS尤尼弗思公司

Inventor： 大卫·M.·西蒙 ,  谭金龙

IPC: G02B5/30 ,  G02B27/48 ,  G03F7/20

CPC classification number: G02B27/48 ,  G02B5/3016 ,  G02B5/3083 ,  G03F7/201 ,  G03H2001/2276 ,  G03H2240/11 ,  G03H2250/38

Abstract: 本发明提供一种制造包括具有空间上变化的倾角的液晶层的光学元件的方法，包括：使用线性光聚合的聚合物层涂覆衬底，使用线偏振紫外光以斜角照射线性光聚合的聚合物层，以及在所照射的线性光聚合的聚合物层的表面上涂敷一层液晶材料。液晶材料在其倾角和线偏振紫外光的总剂量之间有预定的关系。使用至少一个剂量的线偏振紫外光照射线性光聚合的聚合物层，所述至少一个剂量的线偏振紫外光足以引起在具有比相邻区域更大的面内双折射率的液晶层内形成多个离散区域。

公开(公告)号：CN105209976A

公开(公告)日：2015-12-30

申请号：CN201480027536.0

申请日：2014-06-16

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 梶山康一 ,  水村通伸 ,  畑中诚

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/7015 ,  G03F7/201 ,  G03F7/70275

Abstract: 本发明涉及通过利用微透镜阵列将掩模上的图案成像在基板上而曝光基板的曝光装置等，并使射出曝光光的照明单元小型化。微透镜阵列(30)具有包含朝向与移动方向(A)相交的方向的排列且以二维方式配置的多个微透镜(31)，照明单元具有：排列有多个激光二极管的LD阵列条；以及照明光学系统，其将从构成该LD阵列条的多个激光二极管射出的多个发出光转换成缝形状的曝光光束，并利用该曝光光束的曝光光(170)对排成一列的多个微透镜上进行照明，关于与移动方向相交的方向，该曝光光束以跨越在该方向上排列的多个微透镜的方式扩展，并且关于移动方向，该曝光光束被限制为不会波及排列于在该移动方向上相邻的列上的微透镜的宽度。

公开(公告)号：CN104169798A

公开(公告)日：2014-11-26

申请号：CN201280071476.3

申请日：2012-03-19

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 梶山康一 ,  水村通伸

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70191 ,  G03F7/201 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70891

Abstract: 本发明的曝光头包含以下部分：透明基板；多个曝光光源，其形成于上述透明基板，辐射曝光光；聚光透镜，其使来自上述曝光光源的曝光光会聚到上述曝光对象物上；摄像机构，其配置于隔着上述透明基板与上述聚光透镜相反的一侧，对上述曝光对象物进行摄像；以及控制机构，其基于由上述摄像机构摄像得到的图像信息，控制上述曝光光源的点亮。另外，本发明的曝光装置包含本发明的曝光头。根据这样的构成，能够提高曝光对象物的对位精度，使曝光对象物的曝光精度提高。

公开(公告)号：CN101636671B

公开(公告)日：2013-07-10

申请号：CN200880008970.9

申请日：2008-03-19

Applicant: 木本股份有限公司

Inventor： 饵取英树

IPC: G02B5/02 ,  B29C33/38 ,  B29C33/42 ,  G02B3/00 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/13357 ,  B29L11/00

CPC classification number: G02B5/0278 ,  B29C33/3842 ,  B29C33/424 ,  G02B3/0012 ,  G02B5/021 ,  G02B5/0226 ,  G02B5/0242 ,  G02B5/0268 ,  G02F1/1303 ,  G02F1/133707 ,  G03F7/0005 ,  G03F7/2008 ,  G03F7/201 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/7035 ,  G03F7/70533

Abstract: 本发明提供一种使用光掩模，可轻易且以高精度形成所希望的凹凸形状的表面凹凸的制作方法。在包含感光性树脂组合物的感光膜(10)的一侧，相对于感光膜(10)隔着间隔而配置具有光透射部与光不透射部的掩模构件(20)，在掩模构件(20)的感光膜(10)的相反侧配置光扩散构件(30)。从配置在光扩散构件(30)的掩模构件(20)的相反侧的光源照射光，通过光扩散构件(30)与掩模构件(20)的光透射部而将感光膜(10)进行曝光。利用显影来除去感光膜(10)的曝光部或未曝光部，在感光膜(10)制作取决于曝光部或未曝光部的形状的凹凸。在进行曝光时，控制光扩散构件(30)的浊度等曝光条件，控制曝光部或未曝光部的形状。

公开(公告)号：CN103052917A

公开(公告)日：2013-04-17

申请号：CN201180040182.X

申请日：2011-07-22

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 水村通伸

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/2002 ,  G03F7/201 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70358

Abstract: 本发明提供一种使用了微透镜阵列的扫描曝光装置，即使起因于曝光装置特性和温度条件等制造条件的变动而使得被曝光基板的大小产生变动，也能够使掩模图案的像对准规定位置。在扫描曝光装置中，多个微透镜阵列2在要曝光的基板1的上方排列在与扫描方向垂直的方向上并被支承基板支承。而且，各微透镜阵列以能够相对于其排列方向从平行于曝光基板的方向倾斜的方式被支承基板支承。这些微透镜阵列的倾斜角度构成为关于上述排列方向逐渐变大或变小。

公开(公告)号：CN100507720C

公开(公告)日：2009-07-01

申请号：CN200410102292.6

申请日：2004-12-16

Applicant: LG电子株式会社 ,  韩国电子部品研究院

Inventor： 朴锡澔 ,  崔永俊 ,  吴铉锡 ,  林在夏 ,  郑皙元

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70791 ,  G03F7/0005 ,  G03F7/201 ,  G03F7/2035 ,  G03F7/24

Abstract: 一种其上应用了感光剂的柔性基板连续地从供应单元提供给引导单元，从光源将光照射到基板的一部分上。掩模设置于基板和光源之间，从而来自光源的光选择性地使基板的一部分经受曝光。因此，可以形成用于大面积显示板的具有连续倾斜结构的图案。

公开(公告)号：CN1811599A

公开(公告)日：2006-08-02

申请号：CN200510098695.2

申请日：2005-09-09

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 林进祥 ,  林本坚

IPC: G03F7/20 ,  G02B27/60 ,  G03F7/26 ,  G03F7/039 ,  G03F9/00 ,  G02B27/18

CPC classification number: G03F7/70466 ,  G03F7/001 ,  G03F7/201 ,  G03F7/203 ,  G03F7/70408

Abstract: 本发明是有关于一种在基材上制造图案的方法及系统，一种高解析度的微影系统与方法。在一实施例中，提供了一种在基材上制造图案的方法，包括将图案区分成至少一第一子图案以及一第二子图案，其中第一子图案包含朝第一方向的复数个线，且第二子图案包含朝第二方向的复数个线。利用第一驻波干涉图案形成朝第一方向的复数条线在基材上的第一光敏材料层上。消减所形成之线的一部分，以形成上述的第一子图案。在第一子图案形成后，提供第二光敏材料层在基材。利用第二驻波干涉图案形成朝第二方向的复数条线在第二光敏材料层上。消减形成在第二光敏层的这些线的一部分，以形成上述的第二子图案。

公开(公告)号：CN1266546C

公开(公告)日：2006-07-26

申请号：CN02121797.1

申请日：2002-03-28

Applicant: 奥托马泰克

Inventor： 吉勒斯·维贝 ,  阿兰·索雷尔

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00

CPC classification number: G03F7/2032 ,  G03F7/2008 ,  G03F7/201 ,  G03F7/2014 ,  H05K3/0082

Abstract: 一种使印刷电路板(20)的至少一面(18)曝光的装置，该装置包括：一光学系统，具有至少一个光源和对光束进行处理以在表面(18)上产生均匀和准直光带(26)的装置，所述光带(26)的长度(L26)不小于所述表面(18)的宽度(l18)；位移装置，用于在所述光带(26)和所述表面(18)之间沿着基本横切于所述光带(26)的长度方向(XIXI’)的所述面(18)的长度方向(YIYI’)产生相对位移；和匹配装置，用于使所述光带(26)和所述待曝光表面(18)之间的相对位移速度与光带(26)的照度和待曝光表面(18)的感光度相匹配。

公开(公告)号：CN1702837A

公开(公告)日：2005-11-30

申请号：CN200510083724.8

申请日：2005-03-24

Applicant: 株式会社半导体能源研究所

Inventor： 藤井厳

IPC: H01L21/208 ,  H01L21/288 ,  H01L21/31 ,  H01L21/3205 ,  H01L21/336

CPC classification number: H01L29/4908 ,  G03F7/0043 ,  G03F7/201 ,  H01L21/28008 ,  H01L21/32051 ,  H01L27/1285 ,  H01L27/1292 ,  H01L29/66765

Abstract: 提供了一种显示器，其可以利用材料通过简化的制造工艺高效率地制造，还提供了制造该显示器的方法。另一个目的是提供一种技术，通过其可以良好受控地将组成显示器的布线图形等形成为预定的形状。在根据本发明形成图形的方法中，在透光衬底上形成掩膜；在衬底和掩膜之上形成包括光催化剂的第一区；用通过衬底的光照射光催化剂以改变第一区的一部分；形成第二区；以及将含有图形形成材料地组分喷射到第二区，这样，形成图形。掩膜不透光。

公开(公告)号：CN1639476A

公开(公告)日：2005-07-13

申请号：CN03804721.7

申请日：2003-02-27

Applicant: 富士通株式会社

Inventor： 上田正则 ,  松永治幸

IPC: F16C33/14 ,  F16C17/10 ,  G03F7/20 ,  H02K7/08

CPC classification number: G03F7/201 ,  C23F1/02 ,  F16C17/026 ,  F16C17/102 ,  F16C17/107 ,  F16C33/107 ,  F16C33/14 ,  F16C2223/70 ,  G03F7/00 ,  G03F7/2032 ,  G03F7/24 ,  Y10T29/49639

Abstract: 本发明涉及一种在轴承的内面形成动压发生槽的动压轴承的制造方法、利用该制造方法制造的动压轴承及动压轴承制造装置。其中，掩模(1)是圆筒状形状，在外周面形成人字槽图形，在凸缘部下面形成螺旋槽图形。把掩模(1)插入动压轴承(2)中，并且在掩模(1)的内部插入光纤(4)。把外部光源的光通过光纤(4)照射在掩模(1)上，把人字槽图形转印在动压轴承(2)的内周面上。同时，从凸缘部上侧照射光，把螺旋槽图形转印在动压轴承(2)的上侧面上。在进行显影后，通过蚀刻在轴承(2)的内周面形成人字槽(21)，在上侧面形成螺旋槽(22)。