印刷布线板
    63.
    发明公开
    印刷布线板 审中-实审

    公开(公告)号:CN118511660A

    公开(公告)日:2024-08-16

    申请号:CN202280087606.6

    申请日:2022-12-21

    Abstract: 印刷布线板具备:第一导电图案;电介质层,以覆盖第一导电图案的方式而配置;第二导电图案,配置于电介质层上;以及镀敷层。电介质层的厚度为50μm以上且500μm以下。在电介质层中形成有使第一导电图案露出的孔。孔的纵横比为0.5以上且2.0以下。镀敷层至少配置于孔的内壁面上及从孔露出的第一导电图案上、且与第二导电图案电连接。配置于从孔露出的第一导电图案上的镀敷层的厚度比第二导电图案的厚度大。

    印刷布线板
    64.
    发明公开
    印刷布线板 审中-实审

    公开(公告)号:CN118303138A

    公开(公告)日:2024-07-05

    申请号:CN202280077681.4

    申请日:2022-11-22

    Abstract: 一种印刷布线板,具备:第一绝缘层,具有第一主面及第二主面,第二主面是与第一主面相对的面;第一布线图案、第二布线图案及第一接地图案,配置于第二主面上、且在俯视观察时沿第一方向延伸;第二接地图案,配置于第一主面上;粘接层,以覆盖第一布线图案、第二布线图案及第一接地图案的方式配置于第二主面上;第二绝缘层,配置于粘接层上、且具有第三主面及第四主面,第三主面朝向粘接层侧,第四主面是与第三主面相对的面;第三接地图案,配置于第四主面上;以及第一导体层。

    印刷布线板
    65.
    发明公开
    印刷布线板 审中-实审

    公开(公告)号:CN117796156A

    公开(公告)日:2024-03-29

    申请号:CN202280053941.4

    申请日:2022-07-28

    Inventor: 尾形道 野口航

    Abstract: 本公开的一方式所涉及的印刷布线板具备:基板;第一布线层,具有直接或间接地配置在所述基板上的第一布线;以及第二布线层,具有直接或间接地配置在所述基板上的第二布线,所述第一布线的平均线宽为40μm以下,所述第二布线的平均线宽为50μm以上。

    线圈装置
    68.
    发明公开
    线圈装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN117256035A

    公开(公告)日:2023-12-19

    申请号:CN202280030988.9

    申请日:2022-12-26

    Abstract: 一种线圈装置,具备:基膜,具有第一主面及第二主面;第一线圈布线,配置于第一主面上,且具有卷绕成漩涡状的部分;第二线圈布线,配置于第二主面上,且具有卷绕成漩涡状的部分;第一保护层,以覆盖第一线圈布线的方式配置于第一主面上;第二保护层,以覆盖第二线圈布线的方式配置于第二主面上;以及导电部。在基膜上形成有沿厚度方向贯通基膜的贯通孔。导电部通过埋入贯通孔内、并且将第一线圈布线与第二线圈布线连接,从而将第一线圈布线与第二线圈布线电连接。

    印刷布线板
    69.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113811641B

    公开(公告)日:2023-12-05

    申请号:CN202080034794.7

    申请日:2020-05-15

    Abstract: 本公开的印刷布线板具备:具有绝缘性的基材层;第一导电层,直接地或间接地层叠于上述基材层的表面,并包括铜箔;第二导电层,直接地或间接地层叠于上述基材层的背面,并包括铜箔;以及通孔用层叠体,层叠于在厚度方向上贯通上述第一导电层和上述基材层的连接孔的内周及底,并将上述第一导电层和上述第二导电层之间电连接,上述通孔用层叠体具有层叠在上述连接孔的内周及底上的非电解镀铜层和层叠在上述非电解镀铜层表面上的电解镀铜层,上述铜箔含有沿(100)面方向进行取向的铜晶粒,上述铜箔中铜的平均晶粒直径为10μm以上,上述非电解镀铜层包含钯和锡,上述铜箔表面的每单位2面积的上述钯的层叠量为0.18μg/cm 以上且

    印刷布线板用基板以及多层基板
    70.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115715256A

    公开(公告)日:2023-02-24

    申请号:CN202180045506.2

    申请日:2021-06-25

    Abstract: 本公开的一个方式所涉及的印刷布线板用基板具备基材层和直接或间接地层叠在所述基材层的单面或两面的至少一部分上的铜箔,所述基材层具有以氟树脂为主成分的基质以及包含在该基质中的一个或多个增强材料层,在将所述基材层的平均厚度设为A、将所述铜箔的与所述基质对置的表面和最接近所述表面的所述增强材料层的与所述铜箔对置的表面的平均距离设为B时,比B/A为0.003以上且0.37以下。

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