基于射频电源施加偏压以增强CVD金刚石异质外延形核的方法

    公开(公告)号:CN111826714A

    公开(公告)日:2020-10-27

    申请号:CN202010733639.6

    申请日:2020-07-27

    Abstract: 基于射频电源施加偏压以增强CVD金刚石异质外延形核的方法,本发明属于化学气相沉积法异质外延单晶金刚石生长领域,它为了解决绝缘异质衬底难以有效施加负偏压的问题。外延形核的方法:一、将底部开有凹槽腔的样品托放置于CVD腔体内的水冷台上,射频电源的一电极通过导线连接到CVD腔体外壳上并接地,射频电源的另一电极通过导线经水冷台连接到样品托上;二、将异质衬底放置在样品托中心位置,CVD腔体抽真空;三、升温过程,通入氢气;四、控制甲烷气体浓度,进行偏压增强形核;五、生长过程及结束。本发明通过射频电源,避免了直流偏压施加过程中绝缘异质衬底电势升高导致无法正常施加偏压,实现了绝缘异质衬底上高密度外延形核。

    一种金刚石的加工方法

    公开(公告)号:CN108728798B

    公开(公告)日:2020-06-09

    申请号:CN201810597162.6

    申请日:2018-06-11

    Abstract: 本发明提供一种金刚石的加工方法,属于超硬材料加工技术领域。本发明解决了现有金刚石加工精细度不高的问题。本发明首先将带蒸镀掩模板的金刚石在蒸发镀膜机内进行铁镀膜,待膜层冷却后取出镀膜后的金刚石;将镀膜后的金刚石置于微波等离子体CVD仪器的CVD仓内;将CVD仓抽真空,然后通入氢气,打开微波源通入微波起辉,调节刻蚀温度、微波功率以及CVD仓内气压,开始刻蚀;刻蚀完成后,调节微波功率和CVD仓内气压,然后关闭微波,待冷却后,向CVD仓内通入空气,打开CVD仓取出刻蚀后的金刚石。本发明可用于金刚石精密加工。

    背板增强型叉指电极金刚石紫外探测器的制备方法

    公开(公告)号:CN109192794B

    公开(公告)日:2020-04-07

    申请号:CN201811063616.8

    申请日:2018-09-12

    Abstract: 背板增强型叉指电极金刚石紫外探测器的制备方法,本发明属于高能射线及粒子探测领域,它为了解决现有金刚石叉指电极紫外探测器无法有效收集金刚石体内载流子而导致探测效率低的问题。制备方法:一、对金刚石进行预处理及清洗;二、通过磁控溅射或电子束蒸发在清洗后的金刚石的下表面制备背板电极;三、通过磁控溅射或电子束蒸发在金刚石的上表面制备叉指结构电极;四、通过导线将金刚石上表面的其中1个叉指电极与背板电极连接。本发明的探测器为背板增强叉指型结构,能够有效收集金刚石体内紫外光激发的载流子,提高探测效率,在230nm的紫外光照、200V偏压下,背板增强型探测器较传统探测器探测效率提高230%以上。

    用于修补平面沉积膜层的自吸式磁控溅射系统及溅射方法

    公开(公告)号:CN108165947B

    公开(公告)日:2019-11-05

    申请号:CN201810226135.8

    申请日:2018-03-19

    Abstract: 用于修补平面沉积膜层的自吸式磁控溅射系统及溅射方法,它涉及一种磁控溅射系统及溅射方法。本发明为了解决现有的大型平面结构件表面膜层发生脱落、起皮等现象后,存在不易进行再次镀膜修复,直接影响到结构件或是功能件的寿命和功能性的问题。本发明包括真空室组件、磁控靶挡板组件和磁控靶组件,磁控靶挡板组件通过控制第一手轮的旋转,使得挡板轴运动,同时万向节发生运动带动挡板的左右运动,实现遮挡溅射辉光的作用;磁控靶通过直靶支杆和靶支座固定在真空室桶内,采用屏蔽靶套套在永磁靶头上,防止溅射过程中辉光收到外界环境干扰。溅射方法包括准备工作、抽真空、起辉、镀膜修补和取下系统。本发明用于修补平面沉积膜层中。

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