一种三维结构金刚石紫外探测器及其制备方法

    公开(公告)号:CN106784044B

    公开(公告)日:2018-09-07

    申请号:CN201611223173.5

    申请日:2016-12-26

    Abstract: 一种三维结构金刚石紫外探测器及其制备方法,涉及金刚石探测科学与技术领域,尤其涉及一种三维结构金刚石紫外探测器及其制备方法。本发明为解决现有金刚石紫外探测器,采用平面电极结构,会有紫外穿透深度范围以内金刚石纵向电场太弱不足以将光生载流子导出的问题,而采用石墨柱电极结构,会有晶界阻碍载流子的输运问题。一种三维结构金刚石紫外探测器,包含光感区和电极结构,光感区为蛇形折叠形状金刚石,电极结构为两组相互交叉的叉指结构凹槽组成,每组叉指结构含有n个电极。一种三维结构金刚石紫外探测器的制备方法:基底的选择;预处理;制备刻蚀掩膜;制备三维电极结构;沉积金属薄膜和后处理。本发明应用于紫外探测领域。

    基于过渡层对外延薄膜与衬底结合力评价的过渡层材料选择方法

    公开(公告)号:CN108154004A

    公开(公告)日:2018-06-12

    申请号:CN201711432502.1

    申请日:2017-12-26

    Abstract: 本发明提供基于过渡层对外延薄膜与衬底结合力评价的过渡层材料选择方法,属于薄膜生长理论技术领域,具体涉及过渡层选择方法。本发明首先对选取的若干过渡层材料建立界面模型;然后计算无过渡层存在时的界面性能,判定是否需要过渡层;如需要过渡层,分别计算选取的不同材料作为过渡层时,衬底/过渡层和过渡层/薄膜的界面性能,并根据界面处净电荷量变化量和原子间化学键布居数,对过渡层对衬底和过渡层对薄膜的结合力进行综合评价并排序;根据排序结果选择前2~3种过渡层材料。本发明解决了现有技术确定是否需要过渡层,以及选取何种材料作为过渡层时,存在耗时长、浪费人力物力的问题。本发明可运用于薄膜的制备。

    一种同质外延生长单晶金刚石的籽晶衬底真空钎焊方法

    公开(公告)号:CN104972189B

    公开(公告)日:2017-01-25

    申请号:CN201510459097.7

    申请日:2015-07-30

    Abstract: 一种同质外延生长单晶金刚石的籽晶衬底真空钎焊方法,本发明涉及同质外延生长单晶金刚石的籽晶衬底真空钎焊方法。本发明要解决现有的MWCVD生长系统中籽晶易被气流吹动偏离最佳位置,以及籽晶与金属钼衬底之间导热困难,传统焊接介质熔点过低、与金刚石相容性差或反应严重损伤籽晶,无法满足金刚石优质生长的问题。方法:一、清洗;二、选择焊接介质;三、放置样品;四、真空钎焊,即完成同质外延生长单晶金刚石的籽晶衬底真空钎焊方法。本发明用于一种同质外延生长单晶金刚石的籽晶衬底真空钎焊方法。

    一种金刚石热沉片的制备方法

    公开(公告)号:CN104947068A

    公开(公告)日:2015-09-30

    申请号:CN201510316529.9

    申请日:2015-06-10

    Abstract: 一种金刚石热沉片的制备方法,本发明涉及金刚石的制备方法并将其用于热沉领域,它为了解决现有MWCVD方法生产金刚石的生长速率慢,表面粗糙以及热导率低的问题。制备方法:一、切割硅片,超声清洗后得到洁净的硅片基底;二、洁净的硅片基底表面均匀涂覆纳米金刚石悬浮液;三、涂覆有金刚石悬浮液的硅片放置于MWCVD装置中,通入氢气以及甲烷后进行化学气相沉积;四、利用HNO3与HF混合溶液腐蚀去除硅基底,清洗后得到金刚石热沉片。本发明通过使用涂覆纳米金刚石悬浮液的方法显著提高金刚石膜的生长速率,达到2~5μm/h,生长面粗糙度可低至600nm,热导率高,符合人造金刚石热沉的标准。

    使用金属铁刻蚀高温高压金刚石制备定点浅层NV色心的方法

    公开(公告)号:CN115072717B

    公开(公告)日:2024-04-12

    申请号:CN202210656914.8

    申请日:2022-06-10

    Abstract: 使用金属铁刻蚀高温高压金刚石制备定点浅层NV色心的方法,它为了解决现有制备金刚石内NV色心需要用到复杂的化学气相沉积气氛或大型粒子注入设备,且难以控制色心制备定位等问题。获得定点浅层NV色心的方法:一、清洗高温高压金刚石;二、在金刚石表面沉积铁薄膜,铁薄膜呈点阵排列;三、将带有铁薄膜的金刚石放入CVD生长舱体内,通入氢气,升高气压和功率进行刻蚀处理;四、将退火后的金刚石置入食人鱼溶液浸泡。本发明利用金属铁在等离子体环境下对高温高压金刚石进行刻蚀,在该过程中产生空位,并利用退火使得空位向下迁移并被替位氮原子捕获,由于刻蚀发生在金属薄膜与金刚石的界面处,因此产生的NV色心位于近表面处。

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