中空型电子器件密封用片
    65.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105826278B

    公开(公告)日:2020-02-21

    申请号:CN201610040558.1

    申请日:2016-01-21

    Abstract: 提供一种中空型电子器件密封用片,其可得到能够将中空型电子器件适宜地埋入热固化性密封用片并抑制了热固化性密封用片的上表面的凹凸的中空型电子器件封装件。一种中空型电子器件密封用片,其具有隔片和热固化性密封用片,隔片的厚度(mm)与25℃时的拉伸弹性模量(N/mm2)之积为200N/mm以上,热固化性密封用片在50℃~100℃范围内的最低熔融粘度为100kPa·s以上。

    密封用片
    67.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110246809A

    公开(公告)日:2019-09-17

    申请号:CN201910167086.X

    申请日:2019-03-05

    Abstract: 本发明提供加热时的柔软性、以及半导体芯片的密封性及韧性优异的密封用片。密封用片含有热固性成分和无机填料。无机填料在密封用片中的比例为50%以上且95%以下。密封用片的作为固化物的固化体片在80℃时的肖氏D硬度相对于固化体片在25℃时的肖氏D硬度之比为0.5以上且小于1.0。

    软磁性薄膜层叠电路基板的制造方法

    公开(公告)号:CN105247975B

    公开(公告)日:2018-11-02

    申请号:CN201480030840.0

    申请日:2014-04-14

    Abstract: 本发明提供软磁性薄膜层叠电路基板的制造方法,其是制造在电路基板的至少一个面上层叠有软磁性薄膜的软磁性薄膜层叠电路基板的方法,其具备以下工序:使含有软磁性颗粒、孔隙率为15%以上且60%以下、并且呈半固化状态的软磁性热固化性薄膜与电路基板的一个面接触的工序;以及通过真空热压将软磁性热固化性薄膜制成固化状态的工序。

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