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公开(公告)号：CN104159518B
公开(公告)日：2017-09-12
申请号：CN201380012843.7
申请日：2013-02-06
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
Inventor： E·勒斯尔
CPC classification number: G21K1/02 , A61B6/032 , A61B6/06 , A61B6/4021 , A61B6/4035 , G01N23/04
Abstract: 一种成像系统(500)，包括焦斑(508)，所述焦斑(508)沿绕着检查区域的路径旋转并发射辐射束，所述辐射束穿过所述检查区域的视场以及其中的对象或目标。所述系统还包括探测器阵列(520)，所述探测器阵列(520)定位为与所述辐射源相对，处于所述检查区域的对面。所述探测器阵列探测穿过所述视场的辐射，并输出指示探测到的辐射的信号。所述系统还包括波束整形器，所述波束整形器定位于所述辐射源与所述检查区域之间。所述波束整形器与所述焦斑一起，并且相对于所述焦斑在所述焦斑的相反方向，以与所述焦斑的所述旋转相同的角频率旋转，并衰减所述辐射束，这在所述焦斑的每个旋转角度减小跨所述探测器阵列的通量密度。
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公开(公告)号：CN107111888A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580072744.7
申请日：2015-12-24
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
IPC: G06T11/00
Abstract: 本发明涉及一种用于校正能量依赖投影值的校正装置。投影值提供单元(13)提供已在校准操作期间基于已穿过材料并且撞击在能量分辨检测器(6)上的辐射，针对a)所述辐射的强度已在所述校准操作中改变之后的不同时间、b)不同强度变化和c)不同材料和/或不同材料厚度生成的能量依赖校准投影值。瞬态行为确定和校正单元(12)基于所述能量依赖校准投影值来确定所述能量分辨检测器的瞬态行为，并且基于确定的所述瞬态行为来校正能量依赖实际投影值。校正后的所述能量依赖实际投影值较少受所述能量分辨检测器的瞬态行为的影响或完全不受所述能量分辨检测器的瞬态行为影响，由此改进所述能量依赖实际投影值的品质。
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公开(公告)号：CN107072620A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201580062900.1
申请日：2015-11-11
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
CPC classification number: A61B6/06 , A61B6/032 , A61B6/035 , A61B6/0407 , A61B6/4241
Abstract: 一种成像系统包括辐射源(108)，所述辐射源被配置为关于检查区域(106)旋转并且发射穿过所述检查区域的辐射。所述成像系统还包括辐射敏感像素(112)的阵列，其被配置为探测穿过所述检查区域的辐射并输出指示探测到的辐射的信号。辐射敏感像素的阵列被设置为跨检查区域与辐射源相对。所述成像系统还包括刚性通量滤波器设备(130)，所述刚性通量滤波器设备被设置在所述辐射源与光子计数像素的辐射敏感探测器阵列之间的检查区域中。所述刚性通量滤波器设备被配置为对穿过所述检查区域并且入射在所述刚性通量滤波器设备上的辐射进行滤波。离开所述刚性通量滤波器设备的辐射具有预定通量。
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公开(公告)号：CN104066375B
公开(公告)日：2017-08-11
申请号：CN201380006588.5
申请日：2013-01-22
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
IPC: A61B6/00
CPC classification number: A61B6/484 , A61B6/06 , A61B6/4035 , A61B6/4233 , A61B6/502 , F04C2270/041 , G21K1/02 , G21K2207/005
Abstract: 本发明涉及对象的相衬X射线成像。为了提供在多于一个方向的相衬信息，提供一种X射线成像系统，所述X射线成像系统包括X射线源(12)、X射线探测器装置(16)、以及具有相位‑光栅结构(46)和分析器‑光栅结构(48)的光栅装置(18)。所述X射线探测器装置包括在第一方向平行于彼此的至少八个线探测器单元(40)，所述至少八个线探测器单元在垂直于所述第一方向的方向(44)线性延伸。所述光栅装置可以包括被布置在所述X射线源与所述相位‑光栅结构之间的源‑光栅结构，用于为经过所述源‑光栅结构的所述X射线束提供足够的相干性，使得在经过所述相位‑光栅结构之后，可以在所述分析器‑光栅结构的位置处观察到干涉。
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公开(公告)号：CN106999137A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201580063910.7
申请日：2015-11-17
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
Inventor： E·勒斯尔
Abstract: 本发明涉及用于X射线相衬断层合成成像的X射线探测器布置(10)，用于X射线相衬断层合成成像的线探测器(1)，用于X射线相衬断层合成成像的成像系统(24)，用于X射线相衬断层合成成像的方法，以及用于控制这种布置的计算机程序元件和存储了这种计算机程序元件的计算机可读介质。所述X射线探测器布置(10)包括若干线探测器(1)。每个线探测器(1)被配置为在撞击这种线探测器(1)的X射线束(2)的至少一部分中探测莫尔图样。每个线探测器(1)包括若干探测器线(11)，其中，每个线探测器(1)的宽度W等于莫尔图样的一个周期或整数倍的周期。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106999125A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201580060997.2
申请日：2015-11-10
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
Abstract: 本发明涉及用于光栅型相位衬度计算机断层扫描的X射线设备(10)的源‑检测器布置结构(11)。所述源‑检测器布置结构包括：X射线源(12)，所述X射线源适于相对于对象(140)围绕旋转轴线(R)旋转移动并且适于发射呈线条图案(21)的相干或准相干辐射的X射线束；以及X射线检测系统(16)，所述X射线检测系统包括第一光栅元件(24)和第二光栅元件(26)以及检测器元件(6)；其中所述辐射的所述线条图案和所述光栅元件的光栅方向被布置成正交于所述旋转轴线；并且所述第一光栅元件具有依赖于所述X射线束的锥角(β)而变化的第一光栅节距和/或所述第二光栅元件具有依赖于所述X射线束的所述锥角而变化的第二光栅节距。
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公开(公告)号：CN106796860A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201580053962.6
申请日：2015-09-30
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
CPC classification number: H01J35/10 , H01J35/06 , H01J35/14 , H01J35/24 , H01J2235/086
Abstract: 本发明涉及一种用于X射线产生装置的调整布置结构、调整方法、用于控制这种装置的计算机程序单元以及已存储有这种计算机程序单元的计算机可读介质。调整布置结构包括阴极、阳极(2)和调整器件，例如调整装置。阴极被配置成提供电子束(15)。阳极(2)被配置成在电子束(15)的撞击下旋转并且通过被布置在阳极的圆周周围的缝隙(21)分段。调整器件被配置成，当电子束(15)正在撞击阳极的旋转中的缝隙(21)时，对电子束(15)进行调整。
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公开(公告)号：CN106535767A
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：CN201580039025.5
申请日：2015-07-07
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
Abstract: 射线束(11)的所述部分的外部；并且使得在所述本发明涉及X射线成像。为了改进例如有关 第二相对位置中，所述X射线束(11)的所述部分于相衬成像的灵活性，一种X射线成像设备(10) 在操作期间经过所述至少一个第二节段(162)，包括：X射线源布置，其用于提供X射线束(11)；至 同时所述至少一个第一节段(161)被布置在所述少一个光栅(13、14)；以及线探测器(15)，其具有 X射线束(11)的所述部分的外部。多条传感器线，所述多条传感器线中的每条由多个传感器元件提供，并且所述多条传感器线被提供用于探测在操作期间经过所述至少一个光栅的所述X射线束(11)的各自的部分。所述X射线成像设备被布置用于将所述线探测器(15)和要被成像的目标(21)相对于彼此移动，使得响应于所述X射线的所述部分，在所述线探测器和所述目标的各自的不同相对位置处能探测到多个干涉图案，以用于重建所述目标(21)的图像。所述至少一个光栅(13、14)包括被布置为在与所述线探测器(15)的方向垂直的方向上彼此邻近的至少一个第一节段(161)和至少一个第二节段(162)。所述X射线成像设备被布置用于将所述线探测器一相对位置与第二相对位置之间移动，使得在所述第一相对位置中，所述X射线束(11)的部分在(15)和所述至少一个光栅相对于彼此至少在第
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公开(公告)号：CN105103238B
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201480019691.8
申请日：2014-11-12
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
IPC: G21K1/06
CPC classification number: G21K1/065 , G21K1/06 , G21K2207/005
Abstract: 本发明涉及一种用于对X射线射束(B)进行谱滤波的光栅布置和方法，所述光栅布置包括：色散元件(10)，其包括棱镜，所述棱镜被配置为使X射线射束(B)衍射成包括第一方向(D1)的第一射束分量(BC1)和包括第二方向(D2)的第二射束分量(BC2)，所述第二方向相对于所述第一方向倾斜；第一光栅(20)，其被配置为生成第一射束分量(BC1)的第一衍射图样(DP1)和第二射束分量(BC2)的第二衍射图样(DP2)，所述第二衍射图样(DP2)相对于所述第一衍射图样(DP1)移位；以及第二光栅(30)，其包括至少一个开口(31)，所述至少一个开口沿从第一衍射图样(DP1)或第二衍射图样(DP2)的强度的最大值(MA)到最小值(MI)的线(d)对准。
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