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公开(公告)号:CN102016923A
公开(公告)日:2011-04-13
申请号:CN200980116203.4
申请日:2009-05-04
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
IPC: G06T11/00
CPC classification number: G06T11/005 , G06T2211/432
Abstract: 一种方法包括:基于采集投影数据和虚拟投影数据来生成模拟的完整投影数据,其中,所述采集投影数据是不完整投影数据,所述虚拟投影数据使所述不完整投影数据完整化;以及重建所述模拟的完整投影数据以生成体图像数据。一种备选方法包括利用补充数据补充从不完整投影数据生成的采集图像数据以扩展可重建视场的体积;以及采用伪影校正来校正基于经扩展的可重建视场的可校正视场。
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公开(公告)号:CN101902965A
公开(公告)日:2010-12-01
申请号:CN200880121122.9
申请日:2008-12-12
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
CPC classification number: H01J35/10 , A61B6/027 , A61B6/032 , A61B6/4007 , A61B6/4014 , A61B6/4021 , A61B6/4028 , A61B6/4035 , A61B6/4266 , G21K1/10 , H01J35/26 , H01J2235/068 , H01J2235/086
Abstract: 一种计算机断层摄影装置(10),包括间隔开的辐射源(82、84),诸如阳极,每个辐射源将锥束辐射(40、50)传播进入检查区域(14)。探测器(22)探测已经穿过检查区域的辐射。衰减系统(55)插入在辐射源和检查区域之间,用于对锥束进行取决于锥角的滤波。该衰减系统允许对重建图像几乎没有贡献的射线与贡献较大的射线相比受到更多的衰减。
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公开(公告)号:CN101600974A
公开(公告)日:2009-12-09
申请号:CN200880003815.8
申请日:2008-01-28
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor: R·普罗克绍
IPC: G01T1/29
CPC classification number: G01T1/2928 , A61B6/027
Abstract: 光子计数探测器可能受到脉冲共享效应和荧光光子产生的影响,这些效应可能会导致测量信号劣化。根据本发明的示范性实施例,提供了一种探测器装置,其适于通过比较相邻单元的探测事件进行并发探测和校正,由此实现并发事件识别,并继之以个别的并发校正。为了减少并发探测和每个探测器装置的对应单元数量,可以采用特定的探测器单元几何形状。
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公开(公告)号:CN101589441A
公开(公告)日:2009-11-25
申请号:CN200880002843.8
申请日:2008-01-23
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
CPC classification number: G21K1/10 , A61B6/03 , A61B6/4035 , H01J35/18 , H01J2235/18
Abstract: 本发明公开了过滤器(300),其用于至少部分补偿X射线管(10)的靶角度足跟效应并保持X射线的钨光谱。该过滤器(300)具有阳极侧(302)和阴极侧(304),其中,所述阴极侧(304)具有比所述阳极侧(302)更高的衰减系数。所述衰减系数被确定以至少部分补偿所述靶角度足跟效应。所述过滤器(300)由与X射线源(10)的阳极板(110)或所述阳极(108)相同的材料制成,该材料一般是钨或者钨合金。
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公开(公告)号:CN101557761A
公开(公告)日:2009-10-14
申请号:CN200780046125.6
申请日:2007-12-10
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor: R·普罗克绍
CPC classification number: A61B6/032 , A61B6/027 , A61B6/5264
Abstract: 本发明涉及一种对检查区(5)中的对象(14)进行成像的成像系统。所述成像系统包括:辐射源,其发射用于照射所述检查区(5)的辐射;探测单元,其用于根据通过所述检查区(5)之后的所述辐射生成探测值;以及移动单元,其用于使所述辐射源和所述检查区相对于彼此沿第一轨迹(15)和沿第二轨迹(16)移动。确定单元确定所述第一轨迹(15)和所述第二轨迹(16)中的至少一个相对于对象的位置。所述成像系统还包括重建单元,其用于使用所述第一轨迹(15)和所述第二轨迹(16)中的至少一个的所确定的位置根据所述探测值重建所述对象(14)的图像。
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公开(公告)号:CN101505660A
公开(公告)日:2009-08-12
申请号:CN200780031475.5
申请日:2007-07-24
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor: R·普罗克绍
IPC: A61B6/03
CPC classification number: A61B6/4014 , A61B6/027 , A61B6/032 , A61B6/4085
Abstract: 一种计算机断层摄影系统(100)包括以围绕检查区域(112)大约相同的角位置设置在不同的z轴位置处的第一源(1081)和第二源(108N),这些源交替发射横贯该检查区域(112)的辐射束(114)。该第一源(1081)发射具有第一外部投影(204)的第一辐射束(1141),并且第二源(108N)发射具有第一外部投影(216)的第二辐射束(114N)。两个第一外部投影(204,216)横贯垂直于旋转轴线的平面,并且第一外部投影(204,216)定义体积(400)的宽度,所发射的辐射束(114)被约束在该宽度内。公共探测器(124)探测来自横贯该体积(400)的X射线束(114)的辐射并且生成指示该辐射的数据,并且重建器(132)重建该数据以生成该体积(400)的图像。
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公开(公告)号:CN102413765B
公开(公告)日:2016-09-21
申请号:CN201080018160.9
申请日:2010-02-18
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
CPC classification number: A61B6/4208 , A61B6/032 , A61B6/4014 , A61B6/4042 , A61B6/482 , G01T1/20
Abstract: 本发明涉及频谱成像。一种成像系统(100)的探测器阵列(110),包括:辐射敏感探测器(114,116),其探测辐射并生成指示所述辐射的信号。电流‑频率(I/F)转换器(202)将所述信号转换为针对积分时段的脉冲串,所述脉冲串具有指示所述信号的频率。电路(120)基于所述脉冲串生成第一矩和至少一个较高次矩。
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公开(公告)号:CN103124520B
公开(公告)日:2016-07-13
申请号:CN201180046964.4
申请日:2011-09-28
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor: R·普罗克绍
CPC classification number: G21K1/10 , A61B6/032 , A61B6/4021 , A61B6/4035 , A61B6/5258 , G01N23/046 , G21K1/04
Abstract: 一种成像系统,包括:源(310),其具有发射穿过检查区域的辐射波束的焦斑(406);辐射灵敏探测器阵列(316),其具有对穿过检查区域的辐射进行探测并且生成指示所探测的辐射的投影数据的多个像素;以及滤波器(314),所述滤波器(314)置于源和检查区域之间,对所发射辐射的外围区域进行过滤,其中,滤波器包括两个单独并且可移动的区域(402),每个区域具有基本上相同的厚度和恒定的同质性。
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公开(公告)号:CN105161392A
公开(公告)日:2015-12-16
申请号:CN201510349881.2
申请日:2008-01-23
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
CPC classification number: G21K1/10 , A61B6/03 , A61B6/4035 , H01J35/18 , H01J2235/18
Abstract: 本发明公开了过滤器(300),其用于至少部分补偿X射线管(10)的靶角度足跟效应并保持X射线的钨光谱。该过滤器(300)具有阳极侧(302)和阴极侧(304),其中,所述阴极侧(304)具有比所述阳极侧(302)更高的衰减系数。所述衰减系数被确定以至少部分补偿所述靶角度足跟效应。所述过滤器(300)由与X射线源(10)的阳极板(110)或所述阳极(108)相同的材料制成,该材料一般是钨或者钨合金。
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公开(公告)号:CN104644198A
公开(公告)日:2015-05-27
申请号:CN201510026803.9
申请日:2007-10-24
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor: R·普罗克绍
CPC classification number: G01T1/2985 , A61B6/4241 , A61B6/482 , Y10S378/901
Abstract: 本发明涉及用于对对象(20)进行成像的成像系统,所述成像系统包括多色辐射源(2)和能量分辨辐射探测器(6)。成像系统还包括驱动设备,所述驱动设备用于彼此相对地移动对象(20)和辐射源(2),从而从不同方向采集截断投影。计算单元根据截断投影确定对象(20)和对象(20)内的物质中的至少一个的k边缘分量,并根据所确定的k边缘分量确定非截断投影。重建单元使用非截断投影构建所述对象。
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