나노 패턴 및 마이크로 패턴을 구비하는 계층 구조물의 제조 방법

    公开(公告)号:KR1020170058501A

    公开(公告)日:2017-05-29

    申请号:KR1020150161936

    申请日:2015-11-18

    Abstract: 계층구조물의제조방법에있어서, 베이스상에나노사이즈의예비나노패턴들을갖는예비나노패턴구조물을형성하는한 후, 예비나노패턴의경도로강화시켜예비나노패턴으로부터제1 경도를갖는제1 나노패턴을형성함으로써, 베이스상에예비나노패턴구조물로부터제1 나노패턴구조물을형성한다. 제1 나노패턴구조물상에, 제1 경도보다낮은제2 경도를갖고나노사이즈의제2 나노패턴들을갖는제2 나노패턴구조물을형성한다. 이후, 제2 나노패턴구조물상에마이크로사이즈를갖는마스크패턴을형성한후, 마스크패턴을식각마스크로이용하고제1 나노패턴구조물을식각저지막으로이용하여제2 나노패턴구조물을패터닝하여, 제2 나노패턴구조물로부터제2 나노패턴들을상부에각각구비한마이크로패턴들을포함하는마이크로패턴구조물을형성한다.

    촉각 센서
    64.
    发明公开
    촉각 센서 有权
    触觉传感器

    公开(公告)号:KR1020170036967A

    公开(公告)日:2017-04-04

    申请号:KR1020150135865

    申请日:2015-09-24

    Abstract: 촉각센서는기판, 상기기판상에배치되며, 대상체에의하여인가되는압력에따른분극현상으로변화되는전기적특성을갖는압전구조체및 상기압전구조체상에배치되며, 상기대상체와의접촉또는분리시발생하는전위차를이용하여상기피검사체의표면거칠기를감지하는정전구조체를포함한다.

    Abstract translation: 触觉传感器包括衬底,设置在衬底上的压电结构,压电结构具有根据物体施加的压力而变成极化现象的电特性以及设置在压电结构上的压电结构, 以及用于感测待检查对象的表面粗糙度的静电结构。

    리튬-황 이차전지용 전극 구조물
    65.
    发明公开
    리튬-황 이차전지용 전극 구조물 审中-实审
    用于硫酸钠二次电池的电极结构

    公开(公告)号:KR1020160053886A

    公开(公告)日:2016-05-13

    申请号:KR1020160052412

    申请日:2016-04-28

    Inventor: 이헌 신주현

    Abstract: 리튬-황이차전지용전극구조물은금속박막, 상기금속박막상에형성되며, 나노크기의패턴이상부에형성된황코팅층및 상기황코팅층상에형성되며, 상기황코팅층에포함된황의전해질로의확산을억제하는이온교환막을포함한다. 이로써리튬-황이차전지용전극구조물이리튬-황이차전지의효율이개선될수 있다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种锂 - 硫二次电池用电极结构体。 锂 - 硫二次电池的电极结构包括:金属薄膜; 形成在金属薄膜上的硫涂层,在上部形成有纳米尺寸的图案; 以及形成在硫涂层上的离子交换膜,并且抑制硫包覆层中所含的硫扩散到电解质中。 在锂硫二次电池用电极结构体中,能够提高锂硫二次电池的效率。

    리튬-황 이차전지용 전극 구조물의 제조 방법
    66.
    发明授权
    리튬-황 이차전지용 전극 구조물의 제조 방법 有权
    - 锂硫二次电池的电极结构及其制造方法

    公开(公告)号:KR101618428B1

    公开(公告)日:2016-05-09

    申请号:KR1020140013957

    申请日:2014-02-07

    Inventor: 이헌 신주현

    Abstract: 리튬-황이차전지용전극구조물은금속박막, 상기금속박막상에형성되며, 나노크기의패턴이상부에형성된황코팅층및 상기황코팅층상에형성되며, 상기황코팅층에포함된황의전해질로의확산을억제하는이온교환막을포함한다. 이로써리튬-황이차전지용전극구조물이리튬-황이차전지의효율이개선될수 있다.

    와이어 그리드 편광자의 제조 방법
    67.
    发明授权
    와이어 그리드 편광자의 제조 방법 有权
    制造方法网格偏振器

    公开(公告)号:KR101616184B1

    公开(公告)日:2016-04-28

    申请号:KR1020140059863

    申请日:2014-05-19

    Abstract: 와이어그리드편광자의제조방법에있어서, 바닥부및 돌출부가제1 피치의간격으로교대로구비된요철패턴들을갖는예비열수축필름을준비한다. 상기예비열수축필름을가열하여상기제1 피치를상기제1 피치보다작은제2 피치로변화된열수축필름을형성한다. 이후, 상기요철패턴들을이용하여상기제2 피치의간격으로형성되며광을편광시키는금속나노패턴들을형성한다.

    광 기능성 패턴 구조물의 제조 방법
    68.
    发明公开
    광 기능성 패턴 구조물의 제조 방법 无效
    制作光功能图案结构的方法

    公开(公告)号:KR1020160025061A

    公开(公告)日:2016-03-08

    申请号:KR1020140110714

    申请日:2014-08-25

    CPC classification number: G02B6/13

    Abstract: 광기능성패턴구조물의제조방법에따르면, 기판상에제1 굴절율을갖는제1 물질로이루어지며그 상부에요철을갖는광 기능성패턴을형성하고, 상기광 기능성패턴상에, 상기제1 굴절율과다른제2 굴절율을갖는제2 물질로이루어지고평탄화된상부면을갖는평탄화층을형성한다.

    Abstract translation: 根据制造光功能图案结构的方法,在基板上形成由具有第一折射率的第一材料形成并且在上部具有偶数部分的光功能图案,并且平坦化层, 由具有不同于第一折射率的第二折射率的第二材料形成,并且包括平坦的上表面,形成在光功能图案上。 本发明的目的是提供一种制造具有改进的表面粗糙度的光功能图案结构的方法。

    금속 시브 구조체의 제조 방법
    69.
    发明授权
    금속 시브 구조체의 제조 방법 有权
    制造金属结构的方法

    公开(公告)号:KR101595662B1

    公开(公告)日:2016-02-19

    申请号:KR1020140132937

    申请日:2014-10-02

    Inventor: 이헌 유상우

    CPC classification number: H01L21/0274

    Abstract: 금속시브구조체의제조방법에있어서, 도전성기판을준비한후, 상기도전성기판상에나노임프린팅리소그래피공정을통하여상기도전성기판의상부표면을노출하도록노출영역을구비시키는희생막패턴을형성하고, 상기노출영역상에도금공정을통하여금속막패턴을형성한다. 상기희생막패턴을상기도전성기판으로제거한후, 상기금속막패턴을대상체에전사시킨다.

    Abstract translation: 制造金属筛网结构的方法包括以下步骤:在制备导电基板之后,通过纳米压印光刻工艺形成具有曝光区域的牺牲膜图案,以将导电基板的上表面暴露于导电基板上。 以及通过电镀工艺在曝光区域上形成金属膜图案。 在从导电基板去除牺牲膜图案之后,金属膜图案被转印到金属膜图案上。 因此,该方法可以通过应用半导体工艺和金属电镀工艺容易地制造具有各种尺寸和形状的金属筛结构。

    광 기능성 패턴 구조물의 제조 방법
    70.
    发明授权
    광 기능성 패턴 구조물의 제조 방법 有权
    制作光功能图案结构的方法

    公开(公告)号:KR101580054B1

    公开(公告)日:2015-12-28

    申请号:KR1020140110722

    申请日:2014-08-25

    Inventor: 이헌 김양두

    CPC classification number: H01L51/56

    Abstract: 광기능성패턴구조물의제조방법에있어서, 대상체상에희생패턴을형성한후, 상기대상체상에상기희 생패턴을덮도록예비평탄화층을형성한다. 이어서, 상기희생패턴을상기대상체로부터선택적으로제거하여, 상기예비평탄화층을상기희생패턴에대응되는중공이형성된하부광기능성패턴및 상부평탄화층으로각각전환시킨다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种光功能图案结构的制造方法。 该方法包括以下步骤:在物体上形成牺牲图案之后,形成预备平面层以覆盖物体上的牺牲图案; 并且从对象中选择性地去除牺牲图案,并且将预备平面层分别改变成形成有对应于牺牲图案的中空孔的下部光功能图案和上平面层。

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