磁阻效应元件
    61.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112701218B

    公开(公告)日:2023-08-15

    申请号:CN202110187433.2

    申请日:2017-09-28

    Inventor: 佐佐木智生

    Abstract: 本发明提供一种在高的偏压下产生比使用了现有的隧道势垒的TMR元件更高的MR比的磁阻效应元件。本发明的磁阻效应元件,其特征在于,具备层叠体,该层叠体按顺序层叠有:基底层、第一铁磁性金属层、隧道势垒层、以及第二铁磁性金属层,所述基底层由NbN、TaN或它们的混晶构成,所述隧道势垒层由具有阳离子排列不规则的尖晶石结构的、下述组成式(1)表示的化合物构成,(1):AxB2Oy,式中,A表示2种以上的非磁性元素的二价阳离子,B表示铝离子,x表示满足0<x≤2的数,y表示满足0<y≤4的数。

    磁畴壁移动元件和磁记录阵列

    公开(公告)号:CN111613721B

    公开(公告)日:2023-08-01

    申请号:CN202010103970.X

    申请日:2020-02-20

    Abstract: 本发明提供磁畴壁移动元件和磁记录阵列。本实施方式的磁畴壁移动型磁记录元件包括:第一铁磁性层、磁记录层、非磁性层以及第一电极和第二电极,第一电极包含磁化取向在与第一铁磁性层的磁化的朝向不同的方向的磁性体,磁记录层具有:与第一电极及第一铁磁性层在第一方向上重叠的第一区域;与第二电极及第一铁磁性层在第一方向上重叠的第二区域;以及被第一区域和第二区域夹着的第三区域,第一区域的与第一电极对置的第一部分的面积比第二区域的与第二电极对置的第二部分的面积大,第一铁磁性层在第一方向上与第一电极和第二电极的一部分重叠。本发明中电阻变化幅度大。

    磁元件和集成装置
    64.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116157863A

    公开(公告)日:2023-05-23

    申请号:CN202180057636.8

    申请日:2021-07-30

    Abstract: 本实施方式的磁元件具备配线层和与所述配线层相接的第一铁磁性层,所述配线层包括晶质的第一层、和位于所述第一铁磁性层与所述第一层之间的非晶的第二层。

    磁阻效应元件
    66.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110660907B

    公开(公告)日:2023-01-17

    申请号:CN201910561313.7

    申请日:2019-06-26

    Abstract: 一种磁阻效应元件,其具备第一铁磁性层、第二铁磁性层、和夹持于上述第一铁磁性层及上述第二铁磁性层之间的隧道势垒层,上述隧道势垒层是分别含有一层以上的具有尖晶石结构的第一氧化物层和具有组成与上述第一氧化物层不同的尖晶石结构的第二氧化物层的层叠体。

    自旋流磁化反转元件、磁阻效应元件和磁存储器

    公开(公告)号:CN109545954B

    公开(公告)日:2022-11-15

    申请号:CN201810035098.2

    申请日:2018-01-15

    Abstract: 本发明提供能够减少磁化反转所需要的反转电流密度的自旋流磁化反转元件、自旋轨道转矩型磁阻效应元件和磁存储器。该自旋流磁化反转元件具有:沿第一方向延伸的自旋轨道转矩配线;和在与上述自旋轨道转矩配线交叉的第二方向层叠的第一铁磁性层,上述第一铁磁性层具有多个铁磁性结构层和夹在相邻的铁磁性结构层间的至少1层插入层,夹着上述多个铁磁性结构层中的至少1个铁磁性结构层的层的自旋霍尔角的极性不同。

    自旋流磁化反转元件和自旋轨道转矩型磁阻效应元件

    公开(公告)号:CN110268530B

    公开(公告)日:2022-07-26

    申请号:CN201880008927.6

    申请日:2018-08-08

    Abstract: 该自旋流磁化反转元件(10)具备:自旋轨道转矩配线(2),其沿第一方向(X)延伸;和第一铁磁性层(1),其设置在与所述自旋轨道转矩配线的所述第一方向交叉的第二方向(Z)上,其中,所述自旋轨道转矩配线具有位于设置有所述第一铁磁性层一侧的第一表面(2a)和与所述第一表面相反的一侧的第二表面(2b),所述自旋轨道转矩配线在所述第一表面具有:设置有所述第一铁磁性层的第一区域(2A);和比所述第一区域更向所述第二表面侧凹陷的第二区域(2B)。

    磁畴壁移动元件和磁阵列
    69.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114639774A

    公开(公告)日:2022-06-17

    申请号:CN202111515848.4

    申请日:2021-12-13

    Abstract: 本发明提供一种磁畴壁移动元件和磁阵列。该磁畴壁移动元件包括:层叠体,其位于基板的上方,具有从靠近所述基板的一侧起依次层叠的铁磁性层、非磁性层和磁畴壁移动层;第1导电层;和第1表面层,所述非磁性层被夹在所述铁磁性层与所述磁畴壁移动层之间,所述第1导电层连接于所述磁畴壁移动层的上表面,所述第1表面层与所述磁畴壁移动层的上表面的至少一部分接触,所述第1表面层的电阻率比所述磁畴壁移动层的电阻率高。

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