一种能稳定分散的纤维素纳米纤维的制备方法

    公开(公告)号:CN103132169B

    公开(公告)日:2015-09-16

    申请号:CN201110391262.1

    申请日:2011-11-30

    Abstract: 本发明公开了一种能稳定分散的纤维素纳米纤维的制备方法,包括如下步骤:1)将纤维素和有机溶剂混合,纤维素固含量1%~15%;2)将酯化剂加入上述步骤1)的混合物中,所述酯化剂和纤维素之间的摩尔比为1∶0.1~4;3)将所有反应混合物进行物理破碎,破碎的同时伴随着纤维素纤维表面上的羟基发生酯化反应,直至得到含有直径在2~1000nm、长为100~100μm的稳定分散的纤维素纳米纤维悬浮液。通过本发明方法得到的表面酯化的纤维素纳米纤维的表面因为被烷基分子链等进行了疏水化处理,分散溶剂可以是DMF也可以用其他的溶剂进行溶剂置换;另外与合成树脂进行复合时,与未经处理的纤维素比较,由于与基质相容性变好而将会使复合材料的强度提高。

    一种能稳定分散的纤维素纳米纤维的制备方法

    公开(公告)号:CN103132169A

    公开(公告)日:2013-06-05

    申请号:CN201110391262.1

    申请日:2011-11-30

    Abstract: 本发明公开了一种能稳定分散的纤维素纳米纤维的制备方法,包括如下步骤:1)将纤维素和有机溶剂混合,纤维素固含量1%~15%;2)将酯化剂加入上述步骤1)的混合物中,所述酯化剂和纤维素之间的摩尔比为1∶0.1~4;3)将所有反应混合物进行物理破碎,破碎的同时伴随着纤维素纤维表面上的羟基发生酯化反应,直至得到含有直径在2~1000nm、长为100~100μm的稳定分散的纤维素纳米纤维悬浮液。通过本发明方法得到的表面酯化的纤维素纳米纤维的表面因为被烷基分子链等进行了疏水化处理,分散溶剂可以是DMF也可以用其他的溶剂进行溶剂置换;另外与合成树脂进行复合时,与未经处理的纤维素比较,由于与基质相容性变好而将会使复合材料的强度提高。

    COMPOSITION FOR FORMING FINE RESIST PATTERN AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME
    68.
    发明申请
    COMPOSITION FOR FORMING FINE RESIST PATTERN AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME 审中-公开
    用于形成细微抗蚀图案的组合物和使用该组合物的图案形成方法

    公开(公告)号:WO2017084741A1

    公开(公告)日:2017-05-26

    申请号:PCT/EP2016/001816

    申请日:2016-11-02

    Inventor: WANG, Xiaowei

    CPC classification number: G03F7/405 C08L2201/56 C09D139/04

    Abstract: The present invention relates to a shrink material composition for fattening a resist pattern prepared from a negative-tone lithography process, comprising at least one polymer and at least one organic solvent, wherein the at least one polymer comprises at least one structural unit of a nitrogen heteroaromatic ring system.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于育肥由负片光刻工艺制备的抗蚀剂图案的收缩材料组合物,其包含至少一种聚合物和至少一种有机溶剂,其中所述至少一种聚合物包含 氮杂芳环体系的至少一个结构单元。

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