包含涂覆硅氧化物的氧化铁粒子的多层涂膜用组成物

    公开(公告)号:CN108137989A

    公开(公告)日:2018-06-08

    申请号:CN201680052881.9

    申请日:2016-10-05

    Abstract: 本发明以提供一种具备外观性以及耐候性的多层涂膜用组成物为课题。所述多层涂膜用组成物包含涂覆硅氧化物的氧化铁粒子,所述涂覆硅氧化物的氧化铁粒子为在氧化铁粒子的表面的至少一部分涂覆硅氧化物的粒子,所述氧化铁粒子的粒径为1~50nm,所述涂覆硅氧化物的氧化铁粒子对波长为620~750nm的光线的平均反射率为25%以下。就包含上述涂覆硅氧化物的氧化铁粒子的分散体而言,对波长为200~420nm的光线的透射率为2.0%以下,对波长为620~780nm的光线的透射率为80%以上。

    金属微粒的制造方法
    73.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104411429B

    公开(公告)日:2017-09-26

    申请号:CN201380035546.4

    申请日:2013-09-12

    Abstract: 本发明提供控制了金属微粒的微晶直径相对于直径的比率的金属微粒的制造方法。使用使金属或金属化合物溶解于溶剂的金属流体和含有还原剂的还原剂流体的至少2种被处理流动体。在上述金属流体和还原剂流体的至少任一方的被处理流动体中含有硫酸根离子。将上述的被处理流动体在对向配设了的、可接近·分离的、至少一方相对于另一方相对地进行旋转的至少2个处理用面间形成的薄膜流体中进行混合,使金属微粒析出。此时,其特征在于,通过控制上述的混合了的被处理流动体中的金属和硫酸根离子的摩尔比,控制金属微粒的微晶直径(d)相对于金属微粒的粒径(D)的比率(d/D)。

    搅拌机
    75.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104411392B

    公开(公告)日:2017-06-23

    申请号:CN201280074434.5

    申请日:2012-07-13

    Inventor: 榎村真一

    Abstract: 本发明提供一种能良好地进行细微的分散、乳化的搅拌机。搅拌机具有:设有多片叶片(12)且旋转的转子(2),以及敷设在转子(2)周围且设有多个狭缝(8)的网筛(9),叶片(12)与狭缝(8)至少在转子的旋转轴(13)的轴方向位置上有互相位于同一位置的匹配区域,通过转子(2)的旋转,使被处理流体通过狭缝(8)以断续射流从网筛(9)的内侧向外侧排出,其中,在匹配区域的转子(2)的最大外径为D(m)、转子(2)的转速为N(次/s)、叶片(12)的片数为X、狭缝(8)的条数为Y时,转子(2)旋转的圆周速度V(m/s)如式(1)所示,断续射流的频率Z(kHz)如式(2)所示,V=D×π×N(1),Z=N×X×Y÷1000(2),圆周速度V设定成23m/s﹤V﹤37m/s,且频率Z设定成35﹤Z。

    金属微粒的制造方法
    76.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106735293A

    公开(公告)日:2017-05-31

    申请号:CN201611101720.2

    申请日:2011-03-14

    Inventor: 榎村真一

    CPC classification number: B22F9/24 B22F2301/15 B22F2301/255 B22F2301/30

    Abstract: 本发明提供粒径得到了控制的金属微粒的制造方法。使用至少2种被处理流动体,其中至少1种被处理流动体为将金属和/或金属化合物在溶剂中溶解了的金属溶液,上述以外的被处理流动体中至少1种被处理流动体为含有还原剂的还原剂流体,在对向配设、可以接近·分离的、至少一方相对于另一方相对进行旋转的至少2个处理用面1、2之间形成的薄膜流体中将上述被处理流动体混合,使粒径得到了控制的金属微粒析出。此时,通过使与导入处理用面1、2之间的金属溶液和还原剂流体的至少任一方相关的特定的条件变化,控制金属微粒的粒径。上述的特定的条件为从由金属溶液和/或还原剂流体的导入速度以及金属溶液和/或还原剂流体的pH组成的组中选择的至少1种。

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