改進的微研磨方法
    76.
    发明专利
    改進的微研磨方法 失效
    改进的微研磨方法

    公开(公告)号:TW201413809A

    公开(公告)日:2014-04-01

    申请号:TW102134178

    申请日:2013-09-23

    CPC classification number: B24B7/228 B24B7/17 B24B37/08 B24B57/02

    Abstract: 在此揭露了一種用於製備(加工)基片(如取向單晶基片)之改進的方法,該改進的方法係藉由使用磨料研磨一基片晶圓,以使得該基片的兩個主表面滿足平面度、平滑度或兩者的某些最低水平。在具體實施方式中,使用一較粗糙的磨料來研磨該晶圓的一個主表面,而使用一較細的磨料來同時研磨該晶圓的另一個主表面。其結果係,一單一的研磨步驟可以產生一具有不同表面粗糙度的相對表面的晶圓。這允許該較粗糙的磨料用於優先的材料去除以使該晶圓變薄,而該細的磨料產生一足夠光滑的表面用於許多用途或用於進一步拋光-從而消除了用於先前技術中的典型的第二下游精細拋光步驟。多個實施方式可以用於多種多樣之基片,包括由不同技術生長的藍寶石、碳化矽和氮化鎵單晶結構。

    Abstract in simplified Chinese: 在此揭露了一种用于制备(加工)基片(如取向单晶基片)之改进的方法,该改进的方法系借由使用磨料研磨一基片晶圆,以使得该基片的两个主表面满足平面度、平滑度或两者的某些最低水平。在具体实施方式中,使用一较粗糙的磨料来研磨该晶圆的一个主表面,而使用一较细的磨料来同时研磨该晶圆的另一个主表面。其结果系,一单一的研磨步骤可以产生一具有不同表面粗糙度的相对表面的晶圆。这允许该较粗糙的磨料用于优先的材料去除以使该晶圆变薄,而该细的磨料产生一足够光滑的表面用于许多用途或用于进一步抛光-从而消除了用于先前技术中的典型的第二下游精细抛光步骤。多个实施方式可以用于多种多样之基片,包括由不同技术生长的蓝宝石、碳化硅和氮化镓单晶结构。

    電漿球體化陶瓷粉末 PLASMA SPHEROIDIZED CERAMIC POWDER
    80.
    发明专利
    電漿球體化陶瓷粉末 PLASMA SPHEROIDIZED CERAMIC POWDER 有权
    等离子球体化陶瓷粉末 PLASMA SPHEROIDIZED CERAMIC POWDER

    公开(公告)号:TWI304099B

    公开(公告)日:2008-12-11

    申请号:TW092121647

    申请日:2003-08-07

    IPC: C23C

    CPC classification number: C23C4/11 Y10T428/2982

    Abstract: 適合應用在基板上做熱障壁塗層的熱噴塗粉末可以利用電漿噴霧化學上均勻的氧化鋯得到,該氧化鋯粉末使用穩定化氧化物如氧化釔穩定成正方晶形,該獲得的粉末包含實際上球形中空的氧化鋯顆粒具有小於200微米之大小。

    Abstract in simplified Chinese: 适合应用在基板上做热障壁涂层的热喷涂粉末可以利用等离子喷雾化学上均匀的氧化锆得到,该氧化锆粉末使用稳定化氧化物如氧化钇稳定成正方晶形,该获得的粉末包含实际上球形中空的氧化锆颗粒具有小于200微米之大小。

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