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公开(公告)号：KR1020170077995A
公开(公告)日：2017-07-07
申请号：KR1020150188062
申请日：2015-12-29
Applicant: 한국과학기술원 , 주식회사 리얼아이덴티티
Abstract: 본발명은땀구멍과미세발한을이용한실제생체지문인증방법에관한것으로, 본발명에따른땀구멍과미세발한을이용한실제생체지문인증방법은, 지문을센싱가능한센서부를구비한장치를통해실행되는방법에있어서, 상기센서부를통해사용자의신체부위를지정된센싱주기 ms(millisecond) 단위로 N(N≥3)번유효센싱하여 N개의인식데이터중 적어도하나의인식데이터를이용하여지문융선상의땀구멍위치를확인하는제1 단계와, 상기생성되는인식데이터중 지정된미세발한식별주기 ms 단위로생성된 M(M≥3)개의인식데이터에포함된제m(1≤m
Abstract translation: 本发明是如何提供一种真正的生物指纹认证方法使用气孔和微出汗，实际生物指纹认证方法使用所述孔，并根据它是通过将设备与一个指纹传感可能的传感器单元运行本发明精排汗 在传感器到N（N≥3）倍的有效感测通过使用N个感知的数据的识别数据中的至少一个的用户给定的感测周期毫秒（毫秒）单位的身体部分证实，位于脊的孔 （M≥3）个以ms为单位生成的识别数据中包含的（1≤M≤M）个识别数据， （m + 1）个的感测值减去第m个识别数据的感测值而生成的第m个减法数据的差分数据（M-1） 读出生成的差异数据的第二步， 和确定至少一个差值奇点区域的第三步骤发生比在主基站值差值的规定的阈值以上与细汗区域中的行区域被指定时，通过比较与所述微出汗区移相器的孔位置的细汗区域的孔隙位置 第四步验证匹配是否在公差范围内。
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公开(公告)号：KR1020170061421A
公开(公告)日：2017-06-05
申请号：KR1020150166426
申请日：2015-11-26
Applicant: 한국과학기술원 , 주식회사 리얼아이덴티티
Abstract: 본발명은실제생체발한인증방법에관한것으로, 본발명에따른실제생체발한인증방법은, 지문을센싱가능한센서부를구비한장치를통해실행되는방법에있어서, 상기센서부를통해사용자의신체부위를지정된센싱주기 ms(millisecond) 단위로 N(N≥3)번유효센싱하여지문의융선(Ridge)과골(Valley)을구별가능한 N개의인식데이터를생성하는제1 단계와, 상기생성되는각 인식데이터의융선영역을인식하고상기융선영역상에존재하는땀구멍위치를인식하여제1 인식데이터와제(n+1)(1≤n
Abstract translation: 本发明涉及到一个真正的生物体排汗认证方法，根据本发明的实际生物体排汗认证方法，提供了一种方法，通过与一个指纹传感可能的传感器单元的设备中运行，与分配给用户的身体传感器单元 感测毫秒的周期，如N（N≥3）的第一步倍有效感测由（毫秒）单元，用于产生N组识别数据的作为脊指纹的（脊）区分gwagol（谷），对于每一个识别数据，所生成的 识别脊区域和第二匹配相关联的脊部识别位置在第一区域上的识别数据存在孔和第（n + 1）（1≤n
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公开(公告)号：KR1020170061379A
公开(公告)日：2017-06-05
申请号：KR1020150166319
申请日：2015-11-26
Applicant: 한국과학기술원 , 주식회사 리얼아이덴티티
Abstract: 본발명은미세땀 인식방법에관한것으로, 본발명에따른미세땀 인식방법은, 지문을센싱가능한센서부를구비한장치를통해실행되는방법에있어서, 상기센서부를통해사용자의신체부위를지정된 ms(millisecond) 단위로유효센싱한 N(N≥2)개의센싱데이터를획득하는제1 단계와, 상기획득되는각 센싱데이터의센싱값을판독하여융선(Ridge)과골(Valley)을구별가능한 N개의인식데이터를생성하는제2 단계와, 상기생성되는각 인식데이터의융선영역을인식하고상기융선영역상에존재하는땀구멍위치를인식하는제3 단계와, 상기인식데이터중 제n(1≤n
Abstract translation: 本发明涉及一种精细汗水识别方法，根据本发明的精细汗水识别方法通过具有能够感测指纹的传感器单元的装置来实现， 毫秒）由N（N≥2的第一阶段，以获得感测数据的有效感测），读取每个的感测值的感测数据，其中所获得的脊部（脊）gwagol（谷）的不同可识别的N作为单元 第三步，识别每个生成的识别数据的脊区域并识别存在于脊区域上的舷窗的位置; ），并同时匹配识别出的数据的脊区和第（n + 1）识别出匹配所述第四步骤中的数据，并且该脊区域和孔位置匹配存在于脊区域中的第（n + 1的孔位置 ）第n个传感器的感测值。 （N-1）个差分识别数据，所述差分识别数据是通过从所述（N-1）个差分识别数据中减去所述（N-1） 通过比在至少一个初级识别的奇点区它发生，并且在所述主体与细汗（微汗）排汗到任何MS的部件识别的第六步骤的可熔面积决定规定的阈值以上。
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公开(公告)号：KR101738883B1
公开(公告)日：2017-05-23
申请号：KR1020160001333
申请日：2016-01-06
Applicant: 한국과학기술원
CPC classification number: H04N5/2254 , G02B1/11 , G02B3/0056 , G02B3/0068 , G02B5/045 , G02B13/006 , G02B19/0014 , G02B19/0076 , H01L27/1462 , H01L27/14627 , H01L27/14685 , H04N5/2253 , H04N5/374 , H04N13/232 , G02B3/0006 , G03B17/02 , G03B2217/243
Abstract: 본발명은곤충눈을모사한초박형디지털카메라및 그제조방법에관한것으로서, 더욱상세하게입사되는빛을꺾어주기위한다수개의투과채널로이루어진프리즘어레이와, 이빛을포커싱하기위한마이크로렌즈로이루어져있는마이크로렌즈어레이를포함하여형성되어, 각각의투과채널이곤충눈의시각기관처럼전체 FOV(Field of view)의일부영역에대한시각정보를받아들이도록구현한곤충눈을모사한초박형디지털카메라및 그제조방법에관한것이다.
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公开(公告)号：KR101729582B1
公开(公告)日：2017-04-25
申请号：KR1020150099153
申请日：2015-07-13
Applicant: 한국과학기술원
IPC: G02B6/02
Abstract: 본발명은무마스크리소그래피시스템을이용한미세패턴일체형광섬유소자제작방법에관한것으로, 본발명의목적은마스크를사용하지않고사용자가원하는다양한모양의미세패턴을광섬유단면에제작가능한, 무마스크리소그래피시스템을이용한미세패턴일체형광섬유소자제작방법을제공함에있다.
Abstract translation: 本发明涉及一种使用无掩模光刻系统中，可用的，无掩模光刻系统，使不同形状的用户期望的精细图案，本发明的目的的精细图案集成光学装置的制造方法，无需在光纤部使用掩模 图案化的集成光纤元件使用相同的。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020170008045A
公开(公告)日：2017-01-23
申请号：KR1020150099279
申请日：2015-07-13
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 본발명은반복적비젖음현상을이용한표면증강라만분광측정용대면적금속나노섬형성방법에관한것이다. 본발명의목적은반복적비젖음현상을이용하여금속나노구조체를형성함으로써금속나노구조체의간격조밀화및 금속나노구조체의크기증대를동시에실현할수 있도록하여, 궁극적으로는라만신호증폭을극대화하는표면증강라만분광측정용센서를제작할수 있는, 반복적비젖음현상을이용한표면증강라만분광측정용대면적금속나노섬형성방법을제공함에있다.
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公开(公告)号：KR101511040B1
公开(公告)日：2015-04-10
申请号：KR1020140064906
申请日：2014-05-29
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 본발명에따른미세채널에플라즈모닉구조를선택적으로갖는미세유체칩을제조하는방법은제1기판의표면에미세채널을형성하는미세채널형성단계; 상기제1기판의표면에금속박막을증착하는금속박막증착단계; 상기제1기판의표면중 미세채널이위치하는부분을제외한나머지부분에증착된금속박막에점착용테이프를부착하여박리하는금속박막박리단계; 상기제1기판의표면과제2기판의표면을산소플라즈마로처리하여상기제1기판에서금속박막이박리된부분을화학적으로변화시키고상기제1기판의표면에증착된금속박막에플라즈모닉구조를형성하고상기제2기판의표면을화학적으로변화시키는플라즈마처리단계; 및상기제1기판의표면에서화학적으로변화된부분을상기제2기판의표면에서화학적으로변화된부분에부착하는제1기판부착단계;를포함하는것을특징으로한다.
Abstract translation: 根据本发明，在微通道上选择性地具有等离子体结构的微流体芯片的制造方法包括以下步骤：在第一衬底的表面上形成微通道; 在所述第一基板的表面上沉积薄金属膜; 通过在除了所述微通道所在部分之外的第一基板的表面中的残留部分上沉积的薄膜材料附着胶带来粘附薄膜来剥离薄金属薄膜; 处理等离子体，其中用氧等离子体处理第一基板的表面和第二基板的表面，以在第一基板上化学改变薄金属膜被剥离的部分，并在沉积的薄金属膜上形成等离子体结构 在所述第一基板的表面上并化学地改变所述第二基板的表面; 以及将在所述第一基板的表面上化学变化的部分附着到在所述第二基板的表面上化学变化的部分。
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公开(公告)号：KR101485889B1
公开(公告)日：2015-01-27
申请号：KR1020120133559
申请日：2012-11-23
Applicant: 한국과학기술원
CPC classification number: G02B3/02 , B82Y20/00 , G02B1/118 , G02B3/00 , G02B3/0006
Abstract: 본 발명은 나노섬 마스크를 이용한 대면적 무반사 나노구조를 구비하는 렌즈 및 이의 제조 방법에 관한 것으로, 해결하고자 하는 과제는 렌즈의 표면에 광파장 이하의 크기 및 주기를 갖는 나노구조를 형성하여 렌즈의 반사율을 감소시킬 수 있고, 투과율을 증대시킬 수 있으며, 고효율의 렌즈를 제작할 수 있는 나노섬 마스크를 이용한 대면적 무반사 나노구조를 구비하는 렌즈 및 이의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명에 따른 나노섬 마스크를 이용한 대면적 무반사 나노구조를 구비하는 렌즈는 평면 또는 소정의 곡률을 가지는 렌즈 및 상기 렌즈의 일면에 나노섬 마스크를 이용하여 수평 단면 및 수직 단면이 광파장 이하의 크기를 가지는 무반사 나노구조가 구비되는 것을 특징으로 한다.-
公开(公告)号：KR1020150005156A
公开(公告)日：2015-01-14
申请号：KR1020130078563
申请日：2013-07-04
Applicant: 한국과학기술원
IPC: G03F7/11 , H01L21/027 , G03F7/26
CPC classification number: G03F7/0047 , C08K3/08 , G03F7/0043 , G03F7/095 , G03F7/11 , H01B1/22 , H05K1/095 , G03F7/26 , H01L21/0273 , H01L21/0274
Abstract: 본 발명은 회절 한계 이하의 미세 패턴이 형성된 마스크 패턴을 기재에 전사할 수 있는 메타-포토레지스트 및 이를 이용한 리소그래피 방법에 관한 것으로, 상세하게, 본 발명에 따른 메타-포토레지스트는 감광성 수지층과 서로 이격 배열된 금속 입자의 층인 금속 입자층을 포함하며, 본 발명에 따른 리소그래피 방법은 리소그래피 대상 기재과 접하는 면을 최하부면으로 하여, 상기 최하부면에 감광성 수지층 또는 금속층이 위치하고, 이와 독립적으로, 상기 최하부면의 대응면인 최상부면에 감광성 수지층 또는 금속층이 위치하도록, 상기 대상 기재 상 감광성 수지층과 금속층을 교번 적층하여 적층체를 형성하는 단계; b1) 상기 적층체에 에너지를 인가하여 상기 금속층을 서로 이격 배열된 금속 입자의 층으로 입자화하여 메타-포토레지스트를 형성하는 단계; 및 c1) 마스크를 이용하여 상기 메타-포토레지스트를 노광하고, 노광된 메타-포토레지스트를 현상하는 단계;를 포함한다.
Abstract translation: 本发明涉及能够将在其上形成有衍射受限或更少的微图案的掩模图案转印到基板上的间光致抗蚀剂以及使用其的光刻方法。 更具体地，根据本发明的间位光致抗蚀剂包括感光性树脂层和作为距离布置的金属颗粒层的金属颗粒层。 根据本发明的光刻方法包括以下步骤：通过在目标衬底上交替层叠感光性树脂层和金属层来形成层压体，以便将感光性树脂层或金属层放置在底面上， 与用于光刻的目标基板接触被定义为底面，并且将感光性树脂层或金属层放置在作为底面的相应面的顶面上; b1）通过向层压体施加能量并以恒定的间隔将金属层包封在金属颗粒层中来形成金属 - 光致抗蚀剂; 和c1）使用掩模曝光金属 - 光致抗蚀剂并显影曝光的光致抗蚀剂。
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公开(公告)号：KR101439246B1
公开(公告)日：2014-09-12
申请号：KR1020130011362
申请日：2013-01-31
Applicant: 한국과학기술원
CPC classification number: G03B35/02 , H04N13/211
Abstract: 본 발명은 3차원 영상의 획득을 위한 스테레오 스코픽 영상 획득 시스템에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 단일 센서를 기반으로 복수의 이미지 획득을 통해 초소형화가 가능한 스테레오 스코픽 영상 획득 시스템에 관한 것이다.
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