公开(公告)号：JP2008107377A

公开(公告)日：2008-05-08

申请号：JP2006287220

申请日：2006-10-23

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： KODAMA KUNIHIKO ,  TSUCHIMURA TOMOTAKA ,  SAEGUSA HIROSHI ,  TSUBAKI HIDEAKI

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: C07C381/12 ,  C07D333/46 ,  C07D409/04 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive composition improved in pattern collapse even in the formation of a fine pattern of ≤100 nm and forming a pattern of good profile, a compound for use in the photosensitive composition and a pattern forming method using the photosensitive composition, with respect to a photosensitive composition for use in the production process of a semiconductor such as IC, in the production of a circuit substrate of liquid crystal, thermal head and the like or in other photofabrication processes, to provide a compound to be used for the photosensitive composition, and to provide a pattern forming method using the photosensitive composition. SOLUTION: The photosensitive composition contains an arylsulfonium salt having a polycyclic hydrocarbon structure in a cationic moiety. The compound for use in the photosensitive composition and the pattern forming method using the photosensitive composition are also provided. COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：为了提供即使形成≤100nm的精细图案并形成良好轮廓的图案也能改善图案塌陷的感光组合物，用于感光组合物的化合物和图案形成方法 使用感光性组合物相对于用于半导体（例如IC）的制造工艺中的光敏组合物，在制造液晶，热敏头等的电路基板或其它光制造工艺中，提供化合物 用于感光组合物，并提供使用该光敏组合物的图案形成方法。 光敏组合物含有在阳离子部分具有多环烃结构的芳基锍盐。 还提供了用于感光组合物的化合物和使用该感光组合物的图案形成方法。 版权所有（C）2008，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2007249074A

公开(公告)日：2007-09-27

申请号：JP2006075532

申请日：2006-03-17

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： TARUYA SHINJI ,  TSUBAKI HIDEAKI ,  KODAMA KUNIHIKO ,  IWATO KAORU

IPC: G03F7/039 ,  H01L21/027

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a positive photosensitive composition that is used for processes of manufacturing semiconductors such as an IC, manufacturing circuit boards of liquid crystals, thermal heads or the like and for other photofabrication processes, and to provide a patterning method that uses the composition, wherein superior line width roughness (LWR) performance can be obtained. SOLUTION: The positive photosensitive composition comprises (A) a compound which generates acid by the irradiation of active rays or radiation; (B1) a resin, having a repeating unit having a polycyclic aliphatic group which is decomposed by acid to generate an alkali soluble group; and (B2) a resin, having a repeating unit that has a predetermined lactone structure and a repeating unit, having a monocyclic aliphatic group which is decomposed by acid and generates an alkali soluble group. COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供用于制造半导体（例如IC），液晶，热敏头等的制造电路板和用于其它光制造工艺的半导体工艺的正性感光组合物，并提供图案化 使用该组合物的方法，其中可获得优异的线宽粗糙度（LWR）性能。 正光敏组合物包含（A）通过活性射线或辐射的照射产生酸的化合物; （B1）具有由酸分解以产生碱溶性基团的具有多环脂肪族基团的重复单元的树脂; 和（B2）具有具有预定内酯结构的重复单元的树脂和具有被酸分解并产生碱溶性基团的单环脂肪族基团的重复单元的树脂。 版权所有（C）2007，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2015057667A

公开(公告)日：2015-03-26

申请号：JP2014240467

申请日：2014-11-27

Applicant: 富士フイルム株式会社 ,  Fujifilm Corp

Inventor： TSUBAKI HIDEAKI ,  KANNA SHINICHI

IPC: G03F7/32 ,  C08F12/22 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/2024 ,  G03F7/32

Abstract: 【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、高精度な微細パターンを安定的に形成する方法、該方法に用いられる樹脂組成物、該方法に用いられる現像液及び該方法に用いられるネガ現像用リンス液を提供する。【解決手段】(ア)基板上に、活性光線又は放射線の照射により、ポジ型現像液に対する溶解度が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する、ポジ型レジスト組成物を塗布する工程、(イ)露光工程、及び(エ)ネガ型現像液を用いて現像する工程を含むパターン形成方法、該方法に用いられる多重現像用ポジ型レジスト組成物、該方法に用いられる現像液及び該方法に用いられるネガ現像用リンス液。【選択図】なし

Abstract translation: 要解决的问题：为了提供用于稳定地形成用于制造诸如IC的半导体的工艺的高精度精细图案的方法，用于制造诸如液晶，热敏头和其它电路板的电路板 并且提供本方法中使用的树脂组合物，该方法中使用的显影液和用于该方法的负显影用冲洗液。解决方案：本发明提供了一种图案形成方法，包括以下步骤：（I）涂布 具有正性抗蚀剂组合物的基材，其在正显影液中的溶解度增加，并且通过用活性光线或辐射线照射而在显影液中的溶解度降低; （二）暴露; 和（III）用负显影液显影。 本发明还提供了该方法中使用的多次显影的正性抗蚀剂组合物，该方法中使用的显影液和用于该方法的负显影用冲洗溶液。

公开(公告)号：JP2014167589A

公开(公告)日：2014-09-11

申请号：JP2013040151

申请日：2013-02-28

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： HIRANO SHUJI ,  TAKIZAWA HIROO ,  TSUBAKI HIDEAKI

IPC: G03F7/004 ,  C08F220/26 ,  G03F7/039

CPC classification number: C08F220/30 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition excellent in sensitivity, resolution, roughness characteristics, pattern shape and suppression performance of development defects and particularly excellent in suppression performance of deterioration (reduction in film thickness) of a pattern shape caused by out-band light for EUV exposure, an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, a pattern forming method, an electronic device and a method for manufacturing an electronic device.SOLUTION: There is provided an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which comprises: a resin (Aa) which contains a repeating unit (c) having at least two groups represented by -COO- in a structure represented by the general formulas (KA-1) or (KB-2); a resin (Ab) which has a phenolic hydroxyl group in the side chain and whose solubility to a developing solution is changed by the action of an acid; and a compound which generates an acid upon irradiation with actinic rays or radiation.

Abstract translation: 要解决的问题：提供灵敏度，分辨率，粗糙度特性，图案形状和显影缺陷抑制性能优异的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，并且特别优异的抑制性能（膜厚度的降低） 用于EUV曝光的带外光引起的图案形状，光化射线敏感或辐射敏感膜，图案形成方法，电子器件和电子器件的制造方法。解决方案：提供一种光化射线 - 敏感或辐射敏感性树脂组合物，其包含：含有由通式（KA-1）或（KB-）表示的结构中具有至少两个由-COO-表示的基团的重复单元（c）的树脂（Aa） 2）; 在侧链中具有酚羟基并且通过酸的作用改变其对显影液的溶解度的树脂（Ab） 以及在用光化射线或辐射照射时产生酸的化合物。

公开(公告)号：JP2014167579A

公开(公告)日：2014-09-11

申请号：JP2013040047

申请日：2013-02-28

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： HIRANO SHUJI ,  TAKIZAWA HIROO ,  TSUBAKI HIDEAKI

IPC: G03F7/004 ,  C08F220/28 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/2041 ,  C08F220/22 ,  C08F220/26 ,  C08F230/08 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition excellent in sensitivity, resolution, pattern shape and suppression performance of development defects and particularly excellent in suppression performance of deterioration (reduction in film thickness) of a pattern shape caused by out-band light for EUV exposure, an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, a pattern forming method, an electronic device and a method for manufacturing an electronic device.SOLUTION: There is provided an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition which comprises: a resin (Aa) which contains a repeating unit represented by the general formulas (Aa1) or (Aa2) as a repeating unit which is decomposed by the action of an acid and is unevenly distributed on a film surface when a film is formed to form a protective film; and a resin (Ab) whose solubility to an alkali developing solution is changed by the action of an acid different from that of the resin (Aa).

Abstract translation: 要解决的问题：提供在图案形状引起的感光度，分辨率，图案形状和显影缺陷的抑制性能以及特别优异的图案形状的劣化抑制性能（膜厚度的降低）方面优异的光化射线敏感或辐射敏感性组合物 通过用于EUV曝光的带外光，光化学敏感或辐射敏感膜，图案形成方法，电子器件和用于制造电子器件的方法。解决方案：提供光化学敏感或辐射敏感膜， 敏感组合物，其包含：含有由通式（Aa1）或（Aa2）表示的重复单元作为重复单元的树脂（Aa），其通过酸的作用分解并且当膜表面不均匀分布时 形成膜以形成保护膜; 和通过不同于树脂（Aa）的酸的作用改变对碱性显影液的溶解度的树脂（Ab）。

公开(公告)号：JP2013205811A

公开(公告)日：2013-10-07

申请号：JP2012078093

申请日：2012-03-29

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： INOUE NAOKI ,  TAKIZAWA HIROO ,  TSUBAKI HIDEAKI

IPC: G03F7/039 ,  C08F212/14 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/38 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/325

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern forming method by which a pattern having a line portion having 20 nm line width or less can be formed to satisfy all of the demands for high resolution, a good pattern cross-sectional shape and high roughness performance, and to provide a method for selecting a heating temperature in the pattern forming method, an extreme ultraviolet (EUV) ray-sensitive resin composition, a resist film, and a method for manufacturing an electronic device and an electronic device using the above methods and others.SOLUTION: The pattern forming method includes steps of: (1) forming a film by using an EUV ray-sensitive resin composition including a resin having an acid decomposable group; (2) exposing the film by using EUV rays; (3) heating the film; and (4) developing the film to form a pattern, in this order. In the step (2), an optical image by the exposure has a line portion having a line width of 20 nm or less as an exposed portion or an unexposed portion. A heating temperature T(°C) in the step (3) satisfies the following expression (1). (1):[Glass transition temperature (Tg) of the resin (A)-30](°C)≤T≤glass transition temperature (Tg)(°C) of the resin (A).

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种图案形成方法，通过该图案形成方法可以形成具有20nm线宽或更小线的线部分的图案，以满足高分辨率的所有要求，良好的图案横截面形状和高粗糙度性能 并提供一种在图案形成方法中选择加热温度的方法，极紫外（EUV）光敏树脂组合物，抗蚀剂膜，以及使用上述方法制造电子器件和电子器件的方法，以及 图案形成方法包括以下步骤：（1）通过使用包含具有酸分解性基团的树脂的EUV射线敏感性树脂组合物形成膜; （2）使用EUV射线曝光胶片; （3）加热薄膜; 和（4）依次形成图案以形成图案。 在步骤（2）中，通过曝光的光学图像具有线宽度为20nm以下的线部分作为曝光部分或未曝光部分。 步骤（3）中的加热温度T（℃）满足下式（1）。 （1）：树脂（A）的玻璃化转变温度（Tg）-30]（℃）≤T≤树脂（A）的玻璃化转变温度（Tg）（℃）。

公开(公告)号：JP2013041160A

公开(公告)日：2013-02-28

申请号：JP2011178534

申请日：2011-08-17

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： TAKAHASHI TOSHIYA ,  TSUBAKI HIDEAKI ,  TAMAKI HIROSHI ,  HIRANO SHUJI ,  TAKIZAWA HIROO

IPC: G03F7/004 ,  C08F12/24 ,  C08F20/18 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: C08F12/30 ,  C08F12/20 ,  C08F12/22 ,  C08F12/32 ,  C08F212/14 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  C08F212/32 ,  C08F2220/1825 ,  C08F220/16

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of achieving high sensitivity, a good pattern shape, good roughness characteristics and good pattern density-dependent characteristics, and to provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin film and a pattern forming method using the composition.SOLUTION: The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises: a resin (P) having a repeating unit (A) containing a group that is decomposed by irradiation with actinic rays or radiation to generate an acid and a repeating unit (B) containing a group that is decomposed by an action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution; and a compound (Q) expressed by general formula (1). Each symbol in general formula (1) conforms to the claims and specification of the present invention.

Abstract translation: 要解决的问题：提供能够实现高灵敏度，良好的图案形状，良好的粗糙度特性和良好的图案密度依赖特性的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，并且提供光化学射线敏感性， 敏感或辐射敏感树脂膜和使用该组合物的图案形成方法。 光敏射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物包含：具有重复单元（A）的树脂（P），该重复单元（A）含有通过用光化射线或辐射照射而分解产生酸的基团和重复 单元（B），其含有通过酸的作用分解以增加在碱性显影溶液中的溶解度的基团; 和由通式（1）表示的化合物（Q）。 通式（1）中的每个符号符合本发明的权利要求书和说明书。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2012208447A

公开(公告)日：2012-10-25

申请号：JP2011076093

申请日：2011-03-30

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： TAKAHASHI TOSHIYA ,  TAKIZAWA HIROO ,  TSUBAKI HIDEAKI ,  HIRANO SHUJI ,  TSUCHIMURA TOMOTAKA

IPC: G03F7/039 ,  C08G65/26 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that can attain high sensitivity, a favorable pattern shape, favorable roughness characteristics and reduction of residue defects, and to provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin film therefrom and a method of forming a pattern using the composition.SOLUTION: Provided is an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition including a resin (P) containing an acid-decomposable repeating unit (A), which resin when acted on by an acid, increases its solubility in an alkali developer, a compound (Q) that when exposed to actinic rays or radiation, generates an acid, and a compound (R) expressed by general formula (1) or (2).

Abstract translation: 要解决的问题：提供可以获得高灵敏度，良好的图案形状，良好的粗糙度特性和残留缺陷的减少的光化射线或辐射敏感性树脂组合物，并提供光化学射线或 辐射敏感树脂膜和使用该组合物形成图案的方法。 解决方案：提供一种包含含有酸分解重复单元（A）的树脂（P））的光化射线或辐射敏感性树脂组合物，该树脂在被酸作用时增加其在碱中的溶解度 显影剂，当暴露于光化射线或辐射时产生酸的化合物（Q）和由通式（1）或（2）表示的化合物（R）。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2012032747A

公开(公告)日：2012-02-16

申请号：JP2010233655

申请日：2010-10-18

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： TAKAHASHI HIDETOMO ,  TSUCHIMURA TOMOTAKA ,  HIRANO SHUJI ,  KAWABATA KENJI ,  TSUBAKI HIDEAKI

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a positive actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, an excellent pattern shape and excellent line edge roughness, and a resist film and pattern forming method using the resin composition.SOLUTION: A positive actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises a repeating unit (A) which decomposes with radiation of an actinic ray or radiation so as to generate acid and the repeating unit (A) includes a resin (P) which has a cation structure including monocyclic or polycyclic nitrogen-containing heterocycle.

Abstract translation: 要解决的问题：提供同时满足高灵敏度，高分辨率，优异的图案形状和优异的线边缘粗糙度的正光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，以及使用抗蚀剂膜和图案形成方法 树脂组合物。 解决方案：阳性光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物包含重复单元（A），该重复单元（A）通过光化射线或辐射的辐射分解以产生酸，并且重复单元（A）包括树脂（ P），其具有包括单环或多环含氮杂环的阳离子结构。 版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2011242546A

公开(公告)日：2011-12-01

申请号：JP2010113617

申请日：2010-05-17

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： TSUBAKI HIDEAKI ,  HIRANO SHUJI ,  KAWABATA KENJI ,  TSUCHIMURA TOMOTAKA ,  ITO TAKAYUKI

IPC: G03F7/039 ,  C08F212/14 ,  C08F220/10 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition for exposure by x-ray, electron beam or EUV light that is excellent in pattern collapse margin and bridge margin with no residue of a resist composition on a substrate and excellent in resistance to scattered (flare) light, and a resist film and a pattern forming method using the composition.SOLUTION: The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition for exposure by x-ray, electron beam or EUV light comprises: (a) a compound that generates an acid expressed by the general formula (I) below by irradiation with actinic rays or radiation; and (b) a resin which contains (meth) acrylic acid ester structure unit having an aryl group in a side chain and exhibits increased solubility in an alkali developer by the action of an acid.

Abstract translation: 要解决的问题：为了提供通过X射线，电子束或EUV光曝光的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，其具有优异的图案凹陷边缘和桥边缘，没有抗蚀剂组合物的残留物 在基板上，耐散射（辉光）光的优异性以及使用该组合物的抗蚀剂膜和图案形成方法。 解决方案：用于通过X射线，电子束或EUV光曝光的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物包括：（a）通过照射产生由以下通式（I）表示的酸的化合物 与光化射线或辐射; 和（b）含有侧链上具有芳基的（甲基）丙烯酸酯结构单元并通过酸作用而在碱性显影剂中表现出增加的溶解性的树脂。 版权所有（C）2012，JPO＆INPIT