멀티 광학 모듈 비전 검사 시스템
    71.
    发明公开
    멀티 광학 모듈 비전 검사 시스템 有权
    多光学模块视觉检测系统

    公开(公告)号:KR1020170069178A

    公开(公告)日:2017-06-20

    申请号:KR1020170059647

    申请日:2017-05-13

    Inventor: 김정훈 김영철

    Abstract: 본발명은멀티광학모듈비전검사시스템에관한것으로, 반도체소재및 디스플레이소재분야의다양한형태와사이즈를가진샘플제품에대하여진동저감을위한 Air Cylinder 구조의방진설비와스테이지유닛이송모듈과기구부를포함하는검사장비에서, 광학조명과비전검사시스템을사용하여검사대상제품의표면결함(이물, 스크래치, 패턴오류등)을검출하고양불여부를판단하여생산공정에서제품불량을줄이는효과가있다.

    Abstract translation: 本发明包括涉及一种多光学模块,视觉检查系统,气缸结构减振相对于各种形状和所述半导体材料和所述显示材料领域振动设备和工作台单元传送模块和的机构部件的尺寸的样品产物 在测试设备检测,使用光学照明和视觉检查系统的产物(异物,划痕,该图案错误等)的检查表面缺陷,则确定yangbul是否具有降低在生产过程中的产品缺陷的效果。

    다중 채널 후방 웨이퍼 검사
    79.
    发明公开
    다중 채널 후방 웨이퍼 검사 审中-实审
    多通道背面检测

    公开(公告)号:KR1020160101137A

    公开(公告)日:2016-08-24

    申请号:KR1020167019615

    申请日:2014-12-23

    Abstract: 다중채널포커스제어를이용하여웨이퍼의후방표면을검사하기위한시스템은, 위치설정된제1 검사서브시스템들및 추가검사서브시스템들을포함하는검사서브시스템들의세트를포함한다. 제1 및추가검사서브시스템들은, 광학어셈블리, 액추에이션어셈블리, 및광학어셈블리의일부분과웨이퍼의후방표면사이에위치특징을감지하도록구성된위치센서를포함하며, 광학어셈블리는액추에이션어셈블리상에배치된다. 시스템은웨이퍼의후방표면의하나이상의웨이퍼프로파일맵들을획득하고, 수신된하나이상의웨이퍼프로파일맵들에기반하여, 제1 검사서브시스템의제1 포커스위치또는추가검사서브시스템의추가포커스위치를조정하도록구성된제어기를더 포함한다.

    Abstract translation: 用于通过多通道聚焦控制来检查晶片的背面的系统包括一组检查子系统,包括定位的第一检查子系统和附加的检查子系统。 第一和附加检查子系统包括光学组件,致动组件,其中光学组件设置在致动组件上,以及位置传感器,其被配置为感测光学组件的一部分与背面侧面之间的位置特性 晶圆。 该系统还包括控制器,该控制器被配置为获取晶片的背面的一个或多个晶片轮廓图,并基于该第一检测子系统调整第一检查子系统的第一焦点位置或附加检查子系统的附加焦点位置 接收到一个或多个晶片轮廓图。

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