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公开(公告)号：CN1532305A
公开(公告)日：2004-09-29
申请号：CN200310124962.X
申请日：2003-10-15
Applicant: 长濑产业株式会社 , 长濑CMS科学技术株式会社
IPC: C23F1/08 , H01L21/306 , G02F1/13
Abstract: 本发明的课题在于容易使反复使用的金属性材料用蚀刻液中的伴随时间而变化的成分浓度基本保持一定。本发明的蚀刻液管理方法采用与金属性材料用的蚀刻液呈相反性的溶液，对该饰刻液进行滴定，与此同时测定该蚀刻液的导电度。采用已获得的测定值，计算蚀刻液中的不足成分量。采用成分原液和/或补充液，将已计算出的不足成分量补充到蚀刻液中。
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公开(公告)号：CN1461324A
公开(公告)日：2003-12-10
申请号：CN02801309.3
申请日：2002-02-21
Applicant: 东丽株式会社 , 长濑色彩及化学品株式会社 , 长濑产业株式会社
CPC classification number: C08K5/07 , C08K5/0008 , C08K5/3475 , C08L81/02 , D01F6/76 , Y10T428/2933 , Y10T428/2967
Abstract: 本发明提供一种不会抑制PPS特有的特征、对紫外线等光线的耐久性优良、即使在室外使用也不会变色的PPS构件。本发明PPS构件的特征是，基于JIS L－0842测定的对紫外线碳弧灯光的耐光牢度在1级以上。
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公开(公告)号：CN1421398A
公开(公告)日：2003-06-04
申请号：CN02152670.2
申请日：2002-11-29
Applicant: 长濑产业株式会社 , 长濑CMS科学技术株式会社
IPC: C02F1/44
Abstract: 本发明涉及废抗蚀剂剥离液再生装置和再生方法。根据本发明的废抗蚀剂剥离液再生装置是再生废抗蚀剂剥离液来得到抗蚀剂剥离再生液的装置，备有具有分离分子量为100～1500的膜，用上述膜将废抗蚀剂剥离液分离成浓缩液和透过液的膜分离装置(7)，用于贮存透过液，调整烷醇胺和有机溶剂的浓度的调整槽(17)，向调整槽(17)供给烷醇胺的装置(18)和向调整槽(17)供给有机溶剂的装置(22)。通过这样的构成，废抗蚀剂剥离液中的抗蚀剂不能透过膜，能够充分地减少透过液中的抗蚀剂浓度。因此，能够降低稀释抗蚀剂浓度的必要性，能够充分减少向调整槽(17)供给的烷醇胺和有机溶剂的供给量。
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公开(公告)号：CN1407411A
公开(公告)日：2003-04-02
申请号：CN02147039.1
申请日：2002-06-25
Applicant: 株式会社平间理化研究所 , 长濑产业株式会社 , 长濑CMS科学技术株式会社
IPC: G03F7/42 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/67253 , G03F7/422 , Y10T436/12
Abstract: 按照本发明的水系保护膜剥离液管理装置，是在调整槽内对在保护膜剥离设备中使用的水系保护膜剥离液进行管理的水系保护膜剥离液管理装置。在本装置中，在保护膜剥离处理槽(调整槽)中，通过管路将测定水系保护膜剥离液中的水分浓度的吸光光度计和测定劣化成分浓度的电导率计连接，基于这些测定值，向保护膜剥离处理槽中供给保护膜剥离原液、保护膜剥离再生液、纯水、以及预先调合的保护膜剥离新液中的至少任一种。由此，在使水系保护膜剥离液的保护膜剥离性能维持稳定的同时，能够谋求使用液量的削减以及操作停止时间的缩短。
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公开(公告)号：CN1402087A
公开(公告)日：2003-03-12
申请号：CN02130318.5
申请日：2002-08-16
Applicant: 株式会社平间理化研究所 , 长濑产业株式会社 , 长濑CMS科学技术株式会社
CPC classification number: G03F7/30 , G03F7/3021 , G03F7/322
Abstract: 本发明提供一种碱性加工液及其供给装置等，其能减少加工处理时的液体使用量和废液生成量，对曝光后的光致抗蚀剂等有机膜的溶解性好。本发明的显影液供给装置的组成如下：显影处理装置通过配管与接受槽连接，在接受槽后段连续设计了过滤器等的前处理部分、调整槽以及均一化槽等。另外，调整槽中，溶液供给系统和控制装置相连接，利用浓度计得到的实测值，调节使用后的液体中溶解的光致抗蚀剂成分和碱成分的浓度为一定值。将得到的再生液通过配管输送到显影处理装置中。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1373393A
公开(公告)日：2002-10-09
申请号：CN02103475.3
申请日：2002-02-06
Applicant: 长濑产业株式会社 , 株式会社平间理化研究所 , 长濑CMS科学技术株式会社
CPC classification number: G03D3/00 , Y10T137/0329
Abstract: 提供显影液制造装置及方法,该装置备有:供给且搅拌显影原液和纯水,调制碱系显影液的调制槽;测定调制槽内的碱系显影液的量的第一液量测定装置;测定调制槽内的碱系显影液的碱浓度的第一碱浓度测定装置;根据第一液量测定装置和第一碱浓度测定装置的测定值,调整调制槽内的碱系显影液的量的第一液量控制装置;以及根据第一液量测定装置和第一碱浓度测定装置的测定值,调整供给调制槽的显影原液的供给量及纯水的供给量这两者中的至少一者的液供给控制装置。
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公开(公告)号：CN1078359C
公开(公告)日：2002-01-23
申请号：CN97110797.1
申请日：1997-04-23
Applicant: 株式会社平间理化研究所 , 长濑产业株式会社
IPC: G03F7/42 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/425 , G05D11/138
Abstract: 光刻胶剥离液管理装置，为把光刻胶剥离液品质控制为恒定，削减液体使用量、减少工作时间和降低价格，构成为具有：光刻胶剥离液排出装置，用于用吸光光度计16检测光刻胶剥离液的溶解光刻胶浓度以排出光刻胶剥离液；第1补给装置，用于用液面水平计3检测光刻胶剥离液的液面水平以补给光刻胶剥离原液和纯水；第2补给装置，用于用吸光光度计15检测光刻胶剥离液的水分浓度以补给光刻胶剥离原液和纯水中的至少一方。
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公开(公告)号：CN1071035C
公开(公告)日：2001-09-12
申请号：CN94119237.7
申请日：1994-12-23
Applicant: 株式会社平间理化研究所 , 长濑产业株式会社
IPC: G03F7/42
Abstract: 一种用于液晶基板和半导体制造工艺的光刻胶剥离管理装置。此装置可恒定地控制光刻胶剥离液质量，且可削减液体用量、减少停机时间和降低成本，其包括用吸光光度计16检测剥离液中溶解的光刻胶浓度并排出剥离液的光刻胶剥离液置放装置，用液面高度仪3检测剥离液的液面高度并补给有机溶剂和MEA等烷醇基胺的第一补给装置以及用吸光光度计15检测剥离的MEA等烷醇基胺浓度并补给有机溶剂和烷醇基腔二者中至少一种的第二补给装置。
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公开(公告)号：CN114073023B
公开(公告)日：2024-05-31
申请号：CN202080044686.8
申请日：2020-04-24
Inventor： 伊东久雄
Abstract: 本发明提供一种能够进一步降低传输数据时的数据损坏风险的技术。数据块生成部(32g)基于传感器信息生成数据块(BD1)、数据块(BD2)、以及数据块(BD3)。第一处理部(33g)生成第二关联信息(FT1)，并将其作为第一关联信息(HD2)附加在数据块(BD2)中。第二处理部(34g)生成至少包含根据数据块(BD2)得到的哈希值的第二关联信息(FT2)，并附加在数据块(BD2)中。存储控制部(36g)执行以下控制：利用区块链技术将附加了第一关联信息(HD2)和第二关联信息(FT2)的数据块(BD2)与包含数据块(BD1)的一个以上的其他所述单位的数据进行关联，并存储在存储部(12g)中。由此，解决上述问题。
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公开(公告)号：CN117120480A
公开(公告)日：2023-11-24
申请号：CN202280026326.4
申请日：2022-03-31
IPC: C08B31/12
Abstract: 本发明提供生产效率高的水溶性聚合物的制造方法和吸水性能优异的吸水性树脂的制造方法。本发明涉及一种水溶性聚合物的制造方法，其包括：将淀粉低分子量化而得到淀粉的部分分解物的工序(a1)；以及向工序(a1)中得到的淀粉的部分分解物中导入离子性官能团的工序(a2)。
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