公开(公告)号：CN202494846U

公开(公告)日：2012-10-17

申请号：CN201220069513.4

申请日：2012-02-28

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 铃鹿真也

IPC: G03B5/00 ,  H04N5/232 ,  G03B17/04 ,  G02B7/04

CPC classification number: G02B27/646 ,  G03B2205/0015 ,  G03B2205/0092

Abstract: 一种用于光学元件的位置控制器，包括：前进/回缩部件、防抖移动部件、保持光学元件并且被所述防抖移动部件支撑以在插入位置和移出位置之间移动的可插入/可移出移动部件、在准备照相状态下将所述可插入/可移出移动部件保持在插入位置的插入保持器、被所述前进/回缩部件支撑在允许所述防抖移动部件在移动范围内移动的位置与用于将所述可插入/可移出移动部件移动到所述移出位置的被迫移出位置之间的移出驱动部件以及在所述准备照相状态下将所述移出驱动部件保持在插入允许位置以及在容纳状态下将所述移出驱动部件移动到所述被迫移出位置的插入/移出控制器。

公开(公告)号：CN202362574U

公开(公告)日：2012-08-01

申请号：CN201120377437.9

申请日：2011-09-29

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 奥田功

IPC: G03B17/17 ,  G03B11/04 ,  G02B7/00 ,  G03B17/02 ,  H04N5/225

CPC classification number: H04N5/2252 ,  G02B7/102 ,  G03B17/12 ,  G03B17/17 ,  G03B2205/0046 ,  G03B2217/002

Abstract: 一种成像单元，包括：入射侧反射表面，设置在外壳中，并反射物体发出的沿着外壳的纵向方向在外壳的厚度方向上进入外壳的光；可移动透镜组，可沿着外壳的纵向方向移动；出射侧反射表面，在外壳的厚度方向上反射光；图像传感器，设置在外壳中，并接收来自出射侧反射表面的光；以及多个光屏蔽框架，设置在外壳中且介于可移动透镜组与出射侧反射表面之间，所述多个光屏蔽框架布置在外壳的纵向方向上，并且当可移动透镜组执行功率改变操作时，所述多个光屏蔽框架在外壳的纵向方向上移动。

公开(公告)号：CN202362570U

公开(公告)日：2012-08-01

申请号：CN201120377920.7

申请日：2011-09-29

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 奥田功

IPC: G03B17/02 ,  G02B7/10 ,  H04N5/225

CPC classification number: H04N5/2252 ,  G02B7/102 ,  G03B17/12 ,  G03B17/17 ,  G03B2205/0046 ,  G03B2217/002

Abstract: 一种成像单元，包括：入射侧反射表面，设置在外壳中，并反射从物体发出的且从外壳的外部在外壳的厚度方向上进入外壳的光；可移动透镜组，可沿着外壳的纵向方向移动；出射侧反射表面，在外壳的厚度方向上反射光；图像传感器，设置在外壳中，并接收来自出射侧反射表面的光；光屏蔽框架，介于可移动透镜组与出射侧反射表面之间；以及光屏蔽框架位置调节机构，设置在外壳中，当可移动透镜组在第一移动范围中移动时，光屏蔽框架位置调节机构使可移动透镜组与光屏蔽框架之间的距离保持恒定，并且当可移动透镜组在第二移动范围中移动时，光屏蔽框架位置调节机构改变可移动透镜组与光屏蔽框架之间的距离。

公开(公告)号：CN202362569U

公开(公告)日：2012-08-01

申请号：CN201120377423.7

申请日：2011-09-29

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 奥田功

IPC: G03B17/02 ,  G02B7/18 ,  G02B17/08 ,  H04N5/225

CPC classification number: H04N5/2252 ,  G02B7/102 ,  G03B17/12 ,  G03B17/17 ,  G03B2205/0046 ,  G03B2217/002

Abstract: 一种成像单元，包括：壳体，具有开口；定位部分，设置于壳体中；成像光学系统，包括具有两个反射表面的弯曲光学系统，所述两个反射表面使成像光学系统的光路弯曲，弯曲光学系统的入射表面从壳体向外露出；图像传感器，安装在壳体中，并包括成像表面，所述成像表面接收被定位在成像光学系统的出射侧上的反射表面之一反射的光；电路板，电路板封闭开口的至少一部分，并且图像传感器固定地连接至电路板；以及盖，固定地装配至壳体，以封闭开口并朝着图像传感器挤压电路板，从而使得图像传感器或电路板与定位部分相接触。

公开(公告)号：CN114051386B

公开(公告)日：2025-05-06

申请号：CN202080048480.2

申请日：2020-12-25

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 细越泰嗣

IPC: A61B1/00 ,  A61B1/005

Abstract: 本发明提供一种硬度调整机构能流畅地操作的内窥镜。内窥镜具备：硬度调整线，其配置于插入部内，具有硬度调整护套(41)和插入所述硬度调整护套(41)内的硬度调整金属丝(44)、以及用于连结所述硬度调整护套(41)和所述硬度调整金属丝(44)的连结件；止动构件(441)，其在所述硬度调整线的操作部侧固定于所述硬度调整金属丝(44)上；凸轮机构(32)，在对所述硬度调整金属丝(44)施加张力时，其被连结至所述止动构件(441)；护套固定部(34)，其在所述硬度调整线的操作部侧连结至所述硬度调整护套(41)；以及导向架(35)，其配置于所述插入部和操作部之间，将所述凸轮机构(32)及所述护套固定部(34)保持为能分别独立地沿所述插入部的长度方向移动。

公开(公告)号：CN112142320B

公开(公告)日：2025-03-21

申请号：CN202010588162.7

申请日：2020-06-24

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 根岸智明

IPC: C03C3/068 ,  C03C21/00

Abstract: 本发明提供再热压制时玻璃材料的表面的结晶层不会侵入玻璃材料的内部这样的再热压制用玻璃材料、及其制造方法。本发明的再热压制用玻璃材料包含玻璃、以及包覆上述玻璃的表面改性层，上述玻璃含有Li成分、Na成分、K成分、Rb成分、Cs成分及Fr成分，且它们的合计含量为1.2质量％以下，上述表面改性层的Li成分、Na成分、K成分、Rb成分、Cs成分或Fr成分中的至少一种成分的含量多于上述玻璃的该成分的含量。

公开(公告)号：CN119118508A

公开(公告)日：2024-12-13

申请号：CN202411387909.7

申请日：2018-03-30

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 佐佐木勇人 ,  盐田勇树 ,  池西干男

IPC: C03C3/247 ,  C03C4/20 ,  G02B1/00

Abstract: 本发明提供光学玻璃和光学元件，上述光学玻璃包含P5+、Al3+、Nb5+、O2‑及F‑作为必要成分，Al3+的含量相对于P5+的含量的摩尔比(Al3+/P5+)为0.30以上，Nb5+的含量为1.0阳离子％以上，O2‑含有量为10～85阴离子％、F‑的含量为15～90阴离子％、O2‑的含量相对于P5+和Nb5+的合计含量的摩尔比(O2‑/(P5++Nb5+))为3.0以上。

公开(公告)号：CN111624848B

公开(公告)日：2024-07-16

申请号：CN202010111676.3

申请日：2020-02-24

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 田边胜 ,  浅川敬司 ,  安森顺一

IPC: G03F1/26 ,  G03F1/80

Abstract: 本发明提供光掩模坯料、光掩模的制造方法、及显示装置的制造方法，在以过度蚀刻时间对图案形成用薄膜进行湿法蚀刻而形成于透明基板上的转印图案中抑制在与透明基板的界面的浸入。光掩模坯料为用于形成光掩模的底版，光掩模为通过湿法蚀刻图案形成用薄膜而得到的、在透明基板上具有转印图案的光掩模，图案形成用薄膜含有过渡金属、硅、氧、氮，通过XPS分析得到的氧的含有率为1原子％以上且70原子％以下，且在将透明基板与图案形成用薄膜的界面定义为通过XPS分析得到的图案形成用薄膜中包含的过渡金属的含有率为0原子％的位置时，从界面起向上述图案形成用薄膜的表面30nm以内的区域中，氮相对于氧的比率存在最大值。

公开(公告)号：CN111752089B

公开(公告)日：2024-07-02

申请号：CN202010221760.0

申请日：2020-03-26

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 山口昇

IPC: G03F1/80 ,  G03F1/26

Abstract: 提供光掩模、光掩模的制造方法和显示装置的制造方法，提供可形成尺寸精度高的转印用图案的光掩模制造方法，其包括：准备在透明基板上依次形成有光学膜和抗蚀剂膜的光掩模基板的工序；初期显影工序，通过描绘、显影而在抗蚀剂膜形成抗蚀剂图案；预备蚀刻工序，以抗蚀剂图案为掩模，对光学膜实施蚀刻，形成由光学膜得到的预备图案；追加显影工序，在由预备蚀刻工序形成的预备图案的边缘的至少一部分处于与抗蚀剂图案对应的区域内的状态下，对抗蚀剂图案实施追加显影，使抗蚀剂图案边缘后退，使预备图案边缘露出；测定工序，测定预备图案规定部位的尺寸；和追加蚀刻工序，基于测定工序中测定的尺寸确定追加蚀刻量，进一步蚀刻光学膜，形成确定图案。

公开(公告)号：CN115023570B

公开(公告)日：2024-06-25

申请号：CN202180011355.9

申请日：2021-02-03

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 水田泰治

IPC: F21V5/00 ,  F21V19/00 ,  F21S2/00 ,  F21V3/02 ,  F21Y115/10

Abstract: 提供即使将光源模块以串联状配置多个、也能够适当地抑制光轴的位置偏移的光照射装置。一种光照射装置(10)，以串联状配置有多个光源模块(11)，其特征在于，所述光源模块具备：基板(12)；配置于该基板的主表面上的LED元件(13)；以及光学元件(14)，其具有立设于所述基板的侧部的侧壁部(14b)以及被该侧壁部支承且位于所述LED元件上的透镜部(14a)，所述光学元件是通过所述侧壁部以及透镜部利用相同的原材料一体成形而构成的元件，构成光源模块的基板的线膨胀系数、光学元件的线膨胀系数以及两者间的线膨胀系数差处于特定范围内。