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公开(公告)号：KR100802321B1
公开(公告)日：2008-02-13
申请号：KR1020060033931
申请日：2006-04-14
Applicant: (주)아모레퍼시픽
Abstract: 본 발명은 고 에너지 공급원을 이용하여 산처리로 표면을 에칭(etching)한 무기입자 및 그 에칭방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 본 발명은 고주파(Microwave) 에너지, 초음파(Ultrasonic) 에너지, 플라즈마(plazma), 열(Heat) 에너지 등의 고 에너지 공급원을 이용하여 불산, 질산, 아세트산, 염산, 인산 등의 산을 적정 농도로 무기입자의 표면을 에칭함으로써, 광택성, 사용감 등을 조절할 수 있는 방법에 관한 것이다.
산처리 * 에칭 * 고주파 에너지 * 플라즈마 * 가온 * 초음파 * 무기입자-
公开(公告)号：KR1020070102153A
公开(公告)日：2007-10-18
申请号：KR1020060033931
申请日：2006-04-14
Applicant: (주)아모레퍼시픽
CPC classification number: C04B41/91 , A61K8/0241 , A61K2800/61 , C04B41/0045 , C04B41/5016
Abstract: A method for etching the surfaces of inorganic particles by acid treatment using a high energy source is provided to control gloss and feeling of use in the inorganic particles. A method for etching the surfaces of inorganic particles by acid treatment using a high energy source includes the steps of: (1) adding inorganic particles into an acid, and stirring the admixture to prepare slurry; and (2) applying a high energy source to the slurry, and washing, filtering, drying, and grinding the inorganic particles. The acid is at least one selected from the group consisting of hydrofluoric acid, nitric acid, acetic acid, hydrochloric acid, and phosphoric acid. The high energy source is at least one selected from the group consisting of microwave energy, ultrasonic energy, plasma, and heating.
Abstract translation: 提供了通过使用高能源的酸处理来蚀刻无机颗粒表面的方法，以控制无机颗粒中的光泽和使用感。 通过使用高能量酸处理来蚀刻无机颗粒表面的方法包括以下步骤：（1）将无机颗粒加入到酸中，并搅拌混合物以制备浆料; 和（2）向浆料中施加高能量源，并且对无机颗粒进行洗涤，过滤，干燥和研磨。 酸是选自氢氟酸，硝酸，乙酸，盐酸和磷酸中的至少一种。 高能源是选自微波能量，超声能量，等离子体和加热中的至少一种。
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公开(公告)号：KR1020070050554A
公开(公告)日：2007-05-16
申请号：KR1020050107895
申请日：2005-11-11
Applicant: (주)아모레퍼시픽
CPC classification number: A61K8/26 , A61K8/11 , A61K8/19 , A61K8/25 , A61K8/27 , A61K8/28 , A61K8/29 , A61K8/585 , A61K8/70 , A61K8/891 , A61K8/895 , A61K2800/412 , A61K2800/436 , A61Q1/02 , A61Q1/04 , A61Q1/10 , A61Q1/12
Abstract: 본 발명은 간섭색 안료를 함유하는 메이크업 화장료 조성물 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 좀 더 구체적으로 판상의 산화알루미늄 표면에 금속산화물이 코팅되어 있는 간섭색 안료를 함유하는 메이크업 화장료 조성물 및 그의 제조방법에 관한 것이다.
본 발명의 상기 간섭색 안료는 판상의 산화알루미늄 표면에 금속산화물이 코팅되어 있거나, 또는 상기 판상의 산화알루미늄 표면에 금속산화물에 의한 1차 코팅에 더하여 실리콘 화합물에 의한 2차 코팅이 되어 있어, 이를 함유하는 메이크업 화장료 조성물은 간섭색을 나타내면서 광택이 적어, 여드름자국, 기미, 주근깨, 칙칙함 등의 피부색 트러블이나, 모공, 주름 등의 피부 결점이 보정되고, 피부에 입체감을 나타내며, 화장이 자연스럽고, 사용감이 개선되고, 피부의 광택 지속성도 개선되는 뛰어난 효과가 있다.
간섭색, 안료, 메이크업, 화장료, 조성물, 산화알루미늄, 금속산화물, 실리콘 화합물, 광택.-
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：KR101799035B1
公开(公告)日：2017-11-21
申请号：KR1020100118438
申请日：2010-11-26
Applicant: (주)아모레퍼시픽
Abstract: 본발명은별도의투명한상을포함하는메이크업화장료조성물에관한것으로서, 보다상세하게는유상및 수상중 하나이상의투명층을포함하여시각적으로차별화된외관을갖는동시에뛰어난피부밀착성또는부드러운발림성을가지는메이크업화장료조성물에관한것이다.
Abstract translation: 本发明涉及包含分开的透明相的化妆化妆品组合物，并且更具体地涉及具有视觉上不同的外观的化妆化妆品组合物，其包括至少一个油相和水相的透明层， Lt。
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公开(公告)号：KR101792070B1
公开(公告)日：2017-11-02
申请号：KR1020110094040
申请日：2011-09-19
Applicant: (주)아모레퍼시픽 , 성균관대학교산학협력단
IPC: C01G23/047 , C01G49/04 , A61K8/19 , A61Q17/04
Abstract: 본발명은중형기공성티타늄디옥사이드(TiO) 분자체; 및상기분자체의기공내에담지된자외선차단제;를포함하는중형기공성무기복합분체, 이의제조방법및 이를함유하는피부외용제조성물을제공한다.
Abstract translation: 本发明涉及介孔二氧化钛（TiO）分子筛; 并且在分子筛的孔中负载有紫外线遮蔽剂，其制造方法以及含有其的皮肤外用剂。
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公开(公告)号：KR101785316B1
公开(公告)日：2017-10-18
申请号：KR1020100120631
申请日：2010-11-30
Applicant: (주)아모레퍼시픽
Abstract: 본발명은수용성원료를함유하는메이크업화장료조성물및 이의제조방법에관한것으로, 보다상세하게는수용성원료를폴리메틸메타크릴레이트와에어제트밀로분쇄하여함유함으로써매끄럽고부드럽게발리는사용감을나타내는메이크업화장료조성물및 이의제조방법에관한것이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种化妆化妆品组合物和含有水溶性材料及其制备，更特别地是光滑轻轻巴利和化妆化妆品组合物，其通过含有粉碎聚甲基丙烯酸甲酯和空气喷射磨表示水溶性材料的感觉 及其制造方法。
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公开(公告)号：KR1020170091864A
公开(公告)日：2017-08-10
申请号：KR1020160012667
申请日：2016-02-02
Applicant: (주)아모레퍼시픽
CPC classification number: A61K8/19 , A61K8/25 , A61K8/29 , A61K8/891 , A61K8/894 , A61K8/92 , A61Q1/04
Abstract: 본발명은고발색의입술용화장료조성물에관한것으로, 보다상세하게는건조함을야기하는파우더의함량을낮추는대신에실리콘젤과페이스트화합물을최적조합으로사용하여색상의발색및 지속성은우수하면서도부드러운발림성과건조함이없는입술용화장료조성물에관한것이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种带电颜色的唇用化妆品组合物，更特别是使用有机硅凝胶和膏化合物代替降低粉末，以使干，优化组合的内容的，而颜色的颜色和耐久性优异的软 本发明涉及用于唇部免于涂抹和干燥的化妆品组合物。
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