公开(公告)号：KR1019980036114A

公开(公告)日：1998-08-05

申请号：KR1019960054604

申请日：1996-11-15

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김형진 ,  유재헌

IPC: H04N17/04

Abstract: 개시된 내용은 KBPS기능을 구비한 VCR 내지 TV 등의 제품생산공정 및 아프터서비스(A/S)상에서 KBPS모듈의 정상동작 여부를 쉽게 판단 및 확인할 수 있도록 한 KBPS모듈 테스트기능을 구비한 방송수신장치에 관한 것이다. 본 발명의 장치는 각 방송국의 전송가능한 KBPS데이타와 유사한 임의의 데이타를 기저장하고 있는 저장부와, KBPS기능을 수행하며 기저장된 임의의 데이타를 이용하여 테스트를 실행하는 KBPS모듈과, KBPS모듈 테스트를 위한 키입력신호를 인가하는 키입력부와, 키입력신호를 입력받아 KBPS모듈 테스트모드로 설정되면 KBPS모듈과 상호 통신하여 KBPS모듈내의 각 기능블록들에 대한 동작상태를 테스트하는 마이콤, 및 테스트결과를 사용자가 볼 수 있도록 화면표시해주는 디스플레이부로 구성된다. 따라서, 본 발명은 현재 방송의 상태 및 KBPS모듈의 상태를 사용자가 쉽게 알수 있는 효과를 제공한다.

公开(公告)号：KR100141202B1

公开(公告)日：1998-07-01

申请号：KR1019940006591

申请日：1994-03-30

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김형진

IPC: B41J2/315

Abstract: 본 발명은 열전사 프린터장치에 있어서 연속된 화면을 프레임 단위의 복수개의 정지화면으로 분할하여 디스플레이장치 상에서 관찰하면서 원하는 하나의 정지화면을 선택하여 편집 또는 프린트할 수 있는 순간화면선택방법을 제공하기 위한 것이다.

公开(公告)号：KR1019980016847A

公开(公告)日：1998-06-05

申请号：KR1019960036541

申请日：1996-08-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김형진

IPC: H01L27/108

Abstract: 고유전막 형성방법이 개시되어 있다. 이 방법은 반도체기판 상에 스토리지 전극용 또는 게이트 전극용 실리콘막을 형성하는 단계와, 상기 결과물 전면에 타이타늄막을 형성하는 단계와, 상기 타이타늄막이 형성된 결과물을 제1 열처리하여 상기 실리콘막 및 상기 타이타늄막 계면에 타이타늄 실리사이드막을 형성함과 동시에 상기 타이타늄막 표면에 타이타늄 산화막을 형성하는 단계와, 상기 타이타늄 산화막의 막질을 치밀하게 형성하기 위하여 상기 결과물을 제2 열처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 따라, 고성능 커패시터를 구현할 수 있을뿐만 아니라 저저항 게이트 전극을 구비하는 트랜지스터를 구현할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019980011951A

公开(公告)日：1998-04-30

申请号：KR1019960031058

申请日：1996-07-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김형진 ,  박현우

IPC: H01L21/30

公开(公告)号：KR100117886B1

公开(公告)日：1997-07-08

申请号：KR1019900009148

申请日：1990-06-21

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김형진

IPC: H04N1/00

公开(公告)号：KR1019970018264A

公开(公告)日：1997-04-30

申请号：KR1019950031330

申请日：1995-09-22

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김형진 ,  김진석 ,  이재철 ,  구본영

IPC: H01L21/336 ,  H01L29/423 ,  H01L29/78

Abstract: 본 발명은 폴리사이드의 게이트구조를 갖는 반도체장치의 제조방법에 관한 것으로서, 그 방법은 반도체기판(11)상에 게이트산화막(12), 다결정실리콘막(13), 금속배선막(14) 및 고온산화막(15)을 차례로 형성하는 공정과；상기 게이트산화막(12)상의 막들을 식각하여 게이트패턴을 형성하는 공정과；N
2 O의 가스분위기하에서 산화공정을 실행하는 공정을 포함한다. 본 발명에 의하면 N
2 O의 가스분위기에서 산화공정을 수행하면 상기 게이트산화막(12)과 상기 다결정실리콘막(13)의 계면의 가장자리에서는 라운드형상으로 산화되면서, 건식식각공정의 진행중에 상기 계면에서 발생된 식각손상이 다시 재생될 수 있게 된다.

公开(公告)号：KR1019930003622A

公开(公告)日：1993-02-24

申请号：KR1019910012830

申请日：1991-07-25

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김형진

IPC: H04M11/00

Abstract: 내용 없음.

公开(公告)号：KR2019920006867U

公开(公告)日：1992-04-22

申请号：KR2019900014415

申请日：1990-09-19

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김형진 ,  정해수

IPC: G10K9/12

公开(公告)号：KR101988384B1

公开(公告)日：2019-06-12

申请号：KR1020130025190

申请日：2013-03-08

Applicant: 삼성전자주식회사 ,  한국과학기술원

Inventor： 홍순혁 ,  이동화 ,  명현 ,  김정욱 ,  블루츠키,니콜라이 ,  신승영 ,  김형진

IPC: G06T5/20 ,  G06K9/46 ,  G06K9/62

公开(公告)号：KR101809178B1

公开(公告)日：2018-01-19

申请号：KR1020110039168

申请日：2011-04-26

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 권명근 ,  태원익 ,  김형진 ,  고재민 ,  조풍연

IPC: F24C15/18 ,  F24C15/16 ,  F24C15/08

CPC classification number: A21B1/00 ,  A47B81/00 ,  F24C7/06 ,  F24C15/16 ,  F24C15/18

Abstract: 본발명의일측면은조리실을분할하기위한디바이더를보관하도록디바이더보관부를구비하는조리기기를제공한다. 이를위해이를위해본 발명의사상에따른조리기기는본체와, 본체내부에형성된조리실과, 조리실을분할하도록조리실에분리가능하게장착되는디바이더와, 내부에수납공간이형성되고슬라이딩인입및 인출가능한드로어와, 드로어를수용하도록본체내부의조리실의하측에형성된드로어수용공간과, 조리실에서분리된디바이더를보관하도록드로어수용공간의상부에형성된디바이더보관부를포함한다.

Abstract translation: 本发明的一个方面提供了一种炊具，其具有用于存储用于分隔烹饪室的分隔件的分隔件壳体。 和组体烹调器在根据本发明的为此目的的教导，为了这个目的，和主体，其被可拆卸地安装在烹饪室划分烹饪室分隔内形成的烹饪室，内部设置在抽屉形成的存储空间可以滑动进入和离开和 包括形成在所述主体的所述烹饪室的下侧以接收抽屉在抽屉容纳空间，其中，形成在所述抽屉的顶部存储单元分隔容纳空间，以便保持从烹调室分隔分离。