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    FORMULACIONES CURABLES POR RADIACION.
    82.
    发明专利
    FORMULACIONES CURABLES POR RADIACION. 未知

    公开(公告)号：MX2010010170A

    公开(公告)日：2010-10-04

    申请号：MX2010010170

    申请日：2009-02-05

    Applicant: EVONIK DEGUSSA GMBH

    Inventor： SPYROU EMMANOUIL

    IPC: C08F290/00 ,  C09D175/00

    Abstract: La presente invención se refiere al uso de componentes de alcoxisilano en la presencia de fotoiniciadores generadores de ácido en formulaciones reticulables, libres de radicales, curables por radiación que en el estado curado ofrecen un grado particular de control de la corrosión para sustratos metálicos.

    SISTEMA DE POLIURETANO DE 1K, EXENTO DE METALES.
    86.
    发明专利
    SISTEMA DE POLIURETANO DE 1K, EXENTO DE METALES. 未知

    公开(公告)号：ES2341488T3

    公开(公告)日：2010-06-21

    申请号：ES06807255

    申请日：2006-10-13

    Applicant: EVONIK DEGUSSA GMBH

    Inventor： SPYROU EMMANOUIL ,  WEISS VOLKER

    IPC: C08G18/18 ,  C08G18/80 ,  C09D175/04

    Abstract: Sistemas de poliuretanos de un solo componente, que contienen la mezcla de A) por lo menos un componente de poliisocianato aromático, alifático, (ciclo)alifático y/o cicloalifático bloqueado; B) por lo menos un poliol monomérico, oligomérico y/o polimérico; C) por lo menos una sal cuaternaria de amonio, que contiene ya sea un hidróxido, un fluoruro o un carboxilato como ion de signo contrario, en una concentración de 0,001 a 3%, referida a la masa total de la formulación; D) por lo menos un agente captador de ácidos en una concentración de 0,1 a 5%, referida a la masa total de la formulación; E) opcionalmente otros monoalcoholes y otras mono- o diaminas; F) opcionalmente unos disolventes y/o agua; G) opcionalmente otras sustancias auxiliares y aditivas.

    COMPUESTOS DE POLIADICION DE BAJA VISCOSIDAD QUE CONTIENEN GRUPOS URETDIONA, PROCESO DE PRODUCCION Y UTILIZACION DE LOS MISMOS.
    87.
    发明专利
    COMPUESTOS DE POLIADICION DE BAJA VISCOSIDAD QUE CONTIENEN GRUPOS URETDIONA, PROCESO DE PRODUCCION Y UTILIZACION DE LOS MISMOS. 未知

    公开(公告)号：ES2336241T3

    公开(公告)日：2010-04-09

    申请号：ES06707869

    申请日：2006-01-27

    Applicant: EVONIK DEGUSSA GMBH

    Inventor： SPYROU EMMANOUIL ,  WEIHRAUCH THOMAS ,  MINDACH LUTZ

    IPC: C08G18/79 ,  C08G18/22 ,  C08G18/32

    Abstract: Compuestos de poliadición de baja viscosidad que contienen grupos uretdiona obtenidos por transformación sin disolvente a temperaturas superiores a 50ºC de A) al menos un poliisocianato alifático, (ciclo-)-alifático y/o cicloalifático que contiene grupos uretdiona con al menos dos grupos NCO y B) al menos un poliol monómero, oligómero y/o polímero que contiene al menos dos grupos OH; C) en presencia de compuestos orgánicos de bismuto de composición RnBiXm (I) en la cual significan R = res-to alquilo con 1 a 10 átomos de carbono y X = resto carboxilato de un ácido monocarboxílico con 1 a 20 átomos de carbono, y n = 0-2; m = 1-3 y n + m es = 3; en una concentración de 0,001 a 3% referida a la masa total; D) y opcionalmente otros monoalcoholes, monoaminas, di-aminas seleccionadas de dimetilamina, etilamina, dietilamina, propilamina, dipropilamina, butilamina, dibutilamina, hexilamina, dihexilamina, etilenodiamina, propilenodiamina, butilenodiamina, hexametilenodiamina, y/o agentes formadores de bloques; E) y/u opcionalmente otros poliisocianatos aromáticos, alifáticos, (ciclo)-alifáticos y/o cicloalifáticos; pudiendo estar contenidos otros adyuvantes y aditivos.

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