変性フェノール性水酸基含有化合物、変性フェノール性水酸基含有化合物の製造方法、感光性組成物、レジスト材料及びレジスト塗膜
    82.
    发明申请
    変性フェノール性水酸基含有化合物、変性フェノール性水酸基含有化合物の製造方法、感光性組成物、レジスト材料及びレジスト塗膜 审中-公开
    含有改性酚羟基的化合物,含有改性苯酚羟基的化合物的生产方法,感光性组合物,耐腐蚀材料和耐腐蚀涂膜

    公开(公告)号:WO2015174199A1

    公开(公告)日:2015-11-19

    申请号:PCT/JP2015/061676

    申请日:2015-04-16

    Inventor: 今田知之

    Abstract:  本発明は、光感度及び耐熱性に優れる変性フェノール性水酸基含有化合物、当該化合物を含有する感光性組成物、当該感光性組成物からなるレジスト材料、及び当該レジスト材料からなる塗膜を提供することを目的として、下記一般式(1)[式中、R 1 は3級アルキル基、アルコキシアルキル基、アリールオキシアルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロ原子含有環状脂肪族炭化水素基、又はトリアルキルシリル基を表し、R 2 は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、又はハロゲン原子を表し、R 3 は置換基を有していてもよいアルキル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。] で表される分子構造(但し、下記一般式(2)で表される分子構造を除く。)からなる変性フェノール性水酸基含有化合物を提供する。

    Abstract translation: 本发明的目的是提供:具有优异的光敏性和耐热性的含有改性酚羟基的化合物; 含有该化合物的光敏组合物; 包含该感光性组合物的抗蚀剂材料; 以及包含抗蚀剂材料的涂膜。 本发明提供含有改性酚羟基的化合物,其含有通式(1)表示的分子结构[其中,R1表示叔烷基,烷氧基烷基,芳氧基烷基,酰基,烷氧基羰基, 芳氧基羰基,含有杂原子的环状脂族烃基或三烷基甲硅烷基; R 2表示氢原子,烷基,烷氧基,可以具有取代基的芳基,可以具有取代基的芳烷基或卤素原子; R3表示可以具有取代基的烷基或可以具有取代基的芳基](其中不包括由通式(2)表示的分子结构)。

Patent Agency Ranking