基板处理装置和供给处理溶液的方法

    公开(公告)号:CN103377972A

    公开(公告)日:2013-10-30

    申请号:CN201310157005.0

    申请日:2013-04-28

    Abstract: 本发明涉及基板处理装置和供给处理溶液的方法。本发明提供了一种基板处理装置。该装置包括:处理腔室,其容纳基板并利用处理溶液处理基板;和供给单元,其为所述处理腔室供给处理溶液。供给单元包括:供给管路,处理溶液通过供给管路供给;初步加热器,其被安装在供给管路中并初步加热处理溶液;主加热器,其被安装在初步加热器下游处的供给管路上并二次加热处理溶液;第一绕行管路,其连接至供给管路以绕行至初步加热器并包括第一阀门;第二绕行管路,其连接至供给管路以绕行至初步加热器和主加热器或者绕行至主加热器并包括第二阀门;以及控制器,其控制第一阀门和第二阀门。

    一种可直接光刻图形化的纳米多孔材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN102689870A

    公开(公告)日:2012-09-26

    申请号:CN201210151084.X

    申请日:2012-05-15

    Applicant: 清华大学

    Inventor: 王晓红 申采为

    CPC classification number: G03F7/405 B05D1/00 G03F7/00 G03F7/0002 G03F7/26

    Abstract: 本发明公开了属于多孔材料及微加工技术领域的一种可直接光刻图形化的纳米多孔材料及其制备方法。该类材料的前驱体为纳米模板材料与光刻胶的混合物,混合物仍具有光刻胶的基本物理性质,通过标准光刻工艺在衬底上成膜并实现微小尺寸的图形结构。直接对具有图形结构的混合物进行化学刻蚀去除模板材料,形成多孔聚合物膜;或者将具有图形结构的混合物在高温下碳化,再去除模板材料,形成多孔碳膜。本发明通过一步标准光刻工艺及一次刻蚀直接在衬底上实现了具有微米尺寸图形的纳米多孔聚合物或碳膜,其操作简单,成本低,且具有极好的与其他微型电子机械系统集成的优点。

    液处理装置、液处理方法和存储介质

    公开(公告)号:CN102194663A

    公开(公告)日:2011-09-21

    申请号:CN201110052791.9

    申请日:2011-03-03

    CPC classification number: B05D1/02 B05C11/00 B05D1/00 B05D1/30

    Abstract: 本发明提供在基板上进行液处理的液处理装置中,在构成装置的各部处于无法使用的状态时,能够抑制生产率降低的装置。构成具备第一喷嘴、第二喷嘴的液处理装置。在该液处理装置中,控制基板搬送机构,通常状态下,在第一罩组和第二罩组之间交替交接基板,在两罩组中,按顺序使用罩,并且,在基板保持部、处理液供给系统或喷嘴支撑机构处于无法使用的状态造成的第一罩组和第二罩组中的一个无法进行基板处理的状态时,为了使该一个罩组中的能够使用的罩处理基板,担当另一个罩组的喷嘴进行移动。

    改进的预涂敷铝合金零件制备方法

    公开(公告)号:CN1224467C

    公开(公告)日:2005-10-26

    申请号:CN99124496.6

    申请日:1999-11-24

    Applicant: 波音公司

    Abstract: 本发明提供一种用于制备一铝合金飞机零件的方法,该制备方法是:把铝合金零件坯件提供给一具有一流化床或雾气装置的涂敷装置,使铝合金零件坯件在沿铅直方向离开装置底部某一距离处悬浮在流化床装置之中,以及把一种含有酚醛树脂的涂敷材料送入涂敷装置,以便当铝合金零件坯件悬浮在流经涂敷装置的气流之中时涂敷这些零件。这种非接触式、流化床或雾气涂敷方法为在较短时间内批量规模加大而涂层厚度和均匀性方面的变异减小的涂敷作业创造了条件。

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