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公开(公告)号：CN108059208A
公开(公告)日：2018-05-22
申请号：CN201711479230.0
申请日：2017-12-29
Applicant: 安力斯(天津)环保设备制造有限公司
IPC: C02F1/32
CPC classification number: C02F1/325 , C02F2201/3227 , C02F2201/324 , C02F2201/328 , C02F2303/04
Abstract: 本发明涉及一种一体式大型紫外线消毒腔体。包括由圆柱管和锥形管构成的腔管，在圆柱管的表面开设排空口、排污口及多个消毒模块的安装口，还包括可自安装口插入的紫外消毒模块；在圆柱管内部的顶面、底面、两侧壁均设置多个沿腔管长度方向排列的用于辅助水流经过紫外消毒模块的导流板，侧壁上的导流板沿水流方向逐渐向腔管中心倾斜；所述紫外消毒模块包括安装架和多个灯管，所述安装架包括封板及封板下方的固定板，在封板与固定板之间设置支撑杆，在封板和固定板上开设有供灯管插入的固定孔，在灯管外套设有套管。本发明提供一种效率较高、占地面积较小、成本及能耗较低的便于运行维护的一体式大型紫外线消毒腔体。
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公开(公告)号：CN107200380A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201710646805.7
申请日：2017-08-01
Applicant: 北京科泰兴达高新技术有限公司
IPC: C02F1/32
CPC classification number: C02F1/325 , C02F2201/3227 , C02F2201/324 , C02F2303/04
Abstract: 本发明涉及一种紫外线消毒装置，主要包括：主体（1），主体内安装的石英套管（8），所述石英套管（8）内安装的紫外灯管（9），以及用于石英套管（16）的机械清洗装置（10），所述石英套管（8）和内部的紫外灯管（9）有6组，构造呈正六边形，所述清洗装置（10）包括：用于每个石英套管的至少一个清洗头（14），用于固定清洗头的清洗板（12），用于清洗板来回往复移动的丝杆（11），所述丝杆使用电机（13）进行驱动工作。本发明的紫外消毒装置用于废水和饮用水的杀菌、消毒，可以在不停机的情况下自动进行清洁，大大提高了紫外消毒装置的杀菌消毒效果。
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公开(公告)号：CN107098433A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201710494695.7
申请日：2017-06-26
Applicant: 深圳清华大学研究院
CPC classification number: C02F1/325 , C02F1/722 , C02F1/78 , C02F2101/30 , C02F2201/3221 , C02F2201/3223 , C02F2201/3225 , C02F2201/3227 , C02F2201/324 , C02F2303/04
Abstract: 本发明提供一种立式无压紫外线水体消毒反应器及包括该反应器的水体消毒系统。所述反应器包括紫外线发生器和立式固定架，所述紫外线发生器竖直安装在所述立式固定架上，所述立式固定架为非密封体，所述立式固定架使所述紫外线发生器在竖直方向上供应紫外线，所述紫外线发生器的上部用于露在液面之上；通过使明渠中的水体流动的方向和紫外线供应的方向均为竖直方向以使水体接受到的紫外线剂量均匀。所述水体消毒系统包括上述反应器和竖直水流催生器。在本发明中，只需供应稍高于设计的紫外线剂量即可对水体进行消毒，避免了紫外线供应量的浪费，从而节省能量。
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公开(公告)号：CN106064861A
公开(公告)日：2016-11-02
申请号：CN201610702963.5
申请日：2016-08-23
Applicant: 沈阳东源环境科技有限公司
IPC: C02F9/08
CPC classification number: C02F9/00 , C02F1/32 , C02F1/34 , C02F1/722 , C02F1/725 , C02F1/78 , C02F2201/324 , C02F2201/782
Abstract: 本发明公开了一种多化学机制耦合处理高浓度有机废水的系统，主要包括氧气分离器、盘旋有散热管的臭氧发生器和1个以上的反应处理单元。反应处理单元包括：反应器、微气泡发生器、反作用力搅拌装置和尾气处理装置；反应器中设置有紫外线灯管和超声波清洗器，分别用来催化反应器中的氧化还原反应和去除粘在紫外线灯管上的污物；反作用力搅拌装置安装于反应器的底部，反作用力搅拌装置的上游侧与微气泡发生器相连，下游侧通入反应器中；氧气分离器与臭氧发生器相连；臭氧发生器与反应处理单元相连。本系统利用双氧水，紫外线，臭氧微气泡对高浓度有机废水进行联合催化氧化，具有高效搅拌、余热利用、紫外线灯催化、超声清洗等特点。
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公开(公告)号：CN103298549B
公开(公告)日：2015-10-14
申请号：CN201180060558.3
申请日：2011-12-13
Applicant: 特洁安技术公司
CPC classification number: A61L2/10 , C02F1/325 , C02F2201/3225 , C02F2201/3227 , C02F2201/324 , C02F2201/328
Abstract: 描述了一种用于在流体处理系统中使用的辐射源模块。所述辐射源模块包括：壳体，所述壳体具有入口、出口和设置在其间的流体处理区。所述流体处理区包括由底板表面相互连接的第一壁表面和第二壁表面。所述第一壁表面、所述第二壁表面和所述底板表面配置为接收通过所述流体处理区的流体流。所述辐射源模块进一步包括至少一个辐射源组件和模块移动耦合元件，所述辐射源组件相对于所述第一壁表面和所述第二壁表面紧固，并且所述模块移动耦合元件连接至所述壳体并且配置为耦合至模块移动元件，从而准许所述辐射源模块被安装在所述流体处理系统中和从所述流体处理系统中抽出。还描述了包括所述辐射源模块的流体处理系统。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102992447B
公开(公告)日：2015-09-23
申请号：CN201210270200.X
申请日：2012-07-31
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C02F1/32
CPC classification number: C02F1/325 , C02F1/283 , C02F1/52 , C02F1/76 , C02F2201/3227 , C02F2201/324 , C02F2201/328 , C02F2303/04
Abstract: 本发明提供能够防止收纳紫外线灯的保护管破损的紫外线照射装置。实施方式的紫外线照射装置具备：处理槽、紫外线照射构件、支撑构件。处理槽具有：给水口，供给作为处理对象的处理水；和排水口，将处理水排出，处理水沿从给水口朝向排水口的第一方向经过。紫外线照射构件在处理槽的内部设置于与第一方向交叉的第二方向，对朝向第一方向经过的处理水照射紫外线。支撑构件设置在沿着紫外线照射构件所设置的第二方向的方向上，两端部固定于处理槽的壁面，抑制该处理槽的变形。
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公开(公告)号：CN102295319B
公开(公告)日：2015-05-13
申请号：CN201110033982.0
申请日：2011-01-31
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C02F1/32
CPC classification number: C02F1/325 , C02F2201/004 , C02F2201/3225 , C02F2201/3227 , C02F2201/324 , C02F2303/04
Abstract: 本发明涉及利用了紫外线的紫外线水处理装置，即使在水的种类和水量变化时也能充分进行紫外线处理。该紫外线水处理装置具备：紫外线灯机构，在两端设置第1配管用凸缘接头，在内部设有由紫外线灯和保护该紫外线灯的灯保护管构成的紫外线照射管；清扫装置驱动机构，在两端设置第2配管用凸缘接头，对清扫上述灯保护管的表面的清扫装置进行驱动。紫外线灯机构和清扫装置驱动机构通过第1和第2配管用凸缘接头部分连结。
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公开(公告)号：CN102992447A
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN201210270200.X
申请日：2012-07-31
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C02F1/32
CPC classification number: C02F1/325 , C02F1/283 , C02F1/52 , C02F1/76 , C02F2201/3227 , C02F2201/324 , C02F2201/328 , C02F2303/04
Abstract: 本发明提供能够防止收纳紫外线灯的保护管破损的紫外线照射装置。实施方式的紫外线照射装置具备：处理槽、紫外线照射构件、支撑构件。处理槽具有：给水口，供给作为处理对象的处理水；和排水口，将处理水排出，处理水沿从给水口朝向排水口的第一方向经过。紫外线照射构件在处理槽的内部设置于与第一方向交叉的第二方向，对朝向第一方向经过的处理水照射紫外线。支撑构件设置在沿着紫外线照射构件所设置的第二方向的方向上，两端部固定于处理槽的壁面，抑制该处理槽的变形。
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公开(公告)号：CN102674501A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210070972.9
申请日：2012-03-16
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C02F1/32
CPC classification number: C02F1/325 , C02F1/008 , C02F2201/322 , C02F2201/324 , C02F2201/326 , C02F2209/008 , C02F2209/40
Abstract: 一种紫外线照射系统，包括：紫外线照射装置，具有多个紫外线灯，向所流入的处理水照射紫外线，排出照射了紫外线的处理水；流量计，测量通过紫外线照射装置的处理水的流量；以及紫外线照射量监视控制装置，进行紫外线照射装置的紫外线照射量的监视和紫外线灯的输出控制。多个紫外线灯包括第1紫外线灯和多个第2紫外线灯。紫外线照射装置包括：第1测量头，测量从第1紫外线灯发出的紫外线的强度；和多个第2测量头，分别测量从多个紫外线灯发出的紫外线的强度。并且，第1紫外线灯与第1测量头之间的距离被设定为，由第1测量头测量的紫外线强度与第1紫外线灯的输出控制值为100％时由第1测量头测量的紫外线强度之比和换算等效紫外线照射量的关系成为一个一次函数直线。
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公开(公告)号：CN102596436A
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201080051184.4
申请日：2010-11-10
Applicant: 特洁安科技有限公司
CPC classification number: B08B1/008 , B08B9/023 , C02F1/325 , C02F2201/3225 , C02F2201/3227 , C02F2201/324 , Y10T137/4238
Abstract: 描述有一种用于流体处理系统中的表面（例如，辐射源组件）的清洗设备。该清洗设备的较佳实施例包括：用于与表面的至少一部分接触的擦拭构件；连接到用于切削与该表面接触的细长的碎屑的擦拭构件的至少一个切削构件；以及用于在第一位置和第二位置之间移动托架的运动构件。当前清洗设备的这个较佳实施例特别地有利于从配置在流体处理系统中的一个以上的辐射源组件去除细长的碎屑。在当前清洗设备的这个较佳实施例中利用的方法要包含沿着辐射源组件的外部被移动的至少一个切削构件。该切削构件被连接到在第一位置和第二位置之间转移的擦拭构件。当擦拭构件从第一位置被移动到第二位置时，它将倾向于朝向辐射源组件的远端部推动细长的碎屑。在这个转移步骤期间，有可能一些碎屑可以通过切削构件被切削。当擦拭构件接近辐射源组件的远端部时，它将倾向于向下夹住细长的碎屑，以及当移动的力被连续地施加时，该切削构件将切削细长的碎屑。一旦细长的碎屑被切削，将更容易地从辐射源组件离开，而且通过经过辐射源组件的流体流来促进这个动作。
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