紫外辐射水消毒装置
    81.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1759068A

    公开(公告)日:2006-04-12

    申请号:CN200480006343.3

    申请日:2004-03-25

    Inventor: P·吉罗代

    CPC classification number: C02F1/325 C02F2201/3227 C02F2201/326

    Abstract: 本发明涉及一种用于敞开的通道(1)的紫外辐射水消毒装置,其中待消毒的水沿着一个方向D流动。装置包括多个形成UV灯的纵向构件(6)。各个构件(6)都包括一个UV灯(6a);一个保护罩(6b),所述保护罩(6b)用UV可穿透的材料制成;和若干连接器。所述连接器基本上在纵向上沿着方向D设置,并分布到多个竖立的模块(3)中。每个模块都包括一个梁(4),至少两个形成竖直支承件(5)的构件固定到上述梁(4)上。所述形成竖直支承件(5)的构件安装有至少一个系列的上述形成灯的构件(6)。这些形成灯的构件(6)设置在上述梁(4)的下方,一个构件在另一个构件上。本发明其特征在于,上述上游形成支承件的构件安装在n个平面(N,N′,N″)中,上述n个平面(N,N′,N″)基本上垂直于上述方向D,此处n为大于1。

    流体处理系统和流体处理方法

    公开(公告)号:CN1438971A

    公开(公告)日:2003-08-27

    申请号:CN01806381.0

    申请日:2001-03-12

    Abstract: 通常希望在高流体速度下操作紫外(UV)水处理系统,例如当需要低的紫外剂量时,被处理的水的紫外透射率是高的时候,或者当使用高强度辐射源时。明渠紫外流体处理系统在高流速下的操作导致不成比例量的水穿过顶部灯之上的较低强度区域。这样导致了不均匀的紫外剂量传送以及不好的反应器性能。在本发明的一个实施方案中,通过将通向流体处理系统的辐射区的入口相对于出口升高,可以减少穿过顶部灯之上的水量,改善系统整体性能。升高的部件可以包括渠道内的台阶和斜坡,或两者的结合。根据升高的幅度,可以获得大约两倍的最大流速。实践中,必须设置防止在低流量期间升高的排的暴露的辐射源损坏的部件。这可以由在检测到低水位或高温的时候关闭受影响的灯的机构、或灯冷却部件构成。

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