公开(公告)号：CN117108945A

公开(公告)日：2023-11-24

申请号：CN202311108213.1

申请日：2023-08-30

Applicant: 江西沃格光电股份有限公司

Inventor： 易伟华 ,  张迅 ,  黄幸浩 ,  黄燕鸿 ,  吴明飞 ,  贺道兵

IPC: F21K9/90 ,  B05D1/00 ,  F21V5/00 ,  F21V17/10 ,  F21Y115/10

Abstract: 本发明公开了一种Mini LED灯板的封胶装置及方法，其中Mini LED灯板的封胶装置包括承载板，承载板上设置有用于灌注透明胶水的光学透镜腔体，光学透镜腔体的开放端能够与Mini LED灯板相接触，透明胶水固化后所形成的光学透镜能够与Mini LED灯板粘结为一体。上述Mini LED灯板的封胶装置不仅能够提高Mini LED灯板的封胶效率，还能够有效提升Mini LED灯板封胶的一致性，最终增大Mini LED灯板的发光角度以提升最终出光的均匀性。

公开(公告)号：CN114369846B

公开(公告)日：2023-11-24

申请号：CN202111609462.X

申请日：2021-12-24

Applicant: 复旦大学

Inventor： 李伟 ,  张威 ,  杨东 ,  赵东元

IPC: C25B11/091 ,  C25B11/031 ,  C25B1/55 ,  B05D7/24 ,  B05D1/00

Abstract: 本发明涉及功能材料制备技术领域，尤其是涉及一种氮掺杂介孔金属氧化物薄膜及其制备方法；该制备方法具体为首先将前驱体、表面活性剂、氮源和催化剂溶解在有机溶剂中，得到混合液；将混合液通过旋转涂膜的方式涂在基底上后干燥挥发有机溶剂；最后高温焙烧去除表面活性剂，得到所述氮掺杂介孔金属氧化物薄膜。本发明制得的氮掺杂介孔金属氧化物薄膜厚度为50‑5000nm，介孔孔径为5‑40nm，比表面积为100‑2800m/g。本制备方法普适性强，可以合成一系列氮掺杂金属氧化物薄膜。本发明方法简单，原料易得，适于放大生产。

公开(公告)号：CN117092887A

公开(公告)日：2023-11-21

申请号：CN202311066729.4

申请日：2023-08-23

Applicant: 沈阳芯达科技有限公司

Inventor： 魏猛 ,  王阳 ,  李冬海 ,  刘岩

IPC: G03F7/16 ,  B05D1/00

Abstract: 本发明提供一种超高粘度光刻胶旋涂方法，涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种超高粘度光刻胶旋涂方法。真空吸盘带动所述晶圆旋转；滴胶装置移动至晶圆的中心处进行滴胶，接着所述滴胶装置沿着所述晶圆的中心朝所述晶圆的径向移动；使光刻胶涂满整个晶圆时再次滴胶。本发明从晶圆中心开始的滴胶方法，使得高粘度光刻胶的涂敷更加均匀；且可以节省光刻胶用量。

公开(公告)号：CN116638291B

公开(公告)日：2023-11-03

申请号：CN202310486397.9

申请日：2023-04-28

Applicant: 浙江尧亮照明科技有限公司

Inventor： 吴胜红 ,  瞿宏伟 ,  陈叶烜 ,  邹伟 ,  王瑞刚

IPC: B23P19/04 ,  B23P19/06 ,  B23P21/00 ,  B05D1/00

Abstract: 本发明公开了一种照明灯灯罩辅助安装装置与灯罩安装工艺，包括定位套，定位套内滑动连接安装有驱动盘，驱动盘内设有气道孔二，气道孔二外接负压发生装置，气道孔二延伸至驱动盘下端，驱动盘包括位于上端的延伸部,延伸部通过旋转气缸带动旋转，旋转气缸包括凸柱，凸柱插入延伸部，凸柱可带动延伸部转动，并且延伸部可沿凸柱上下移动。本发明提供一种照明灯灯罩辅助安装装置与灯罩安装工艺，可自动定位灯罩与灯体，生产效率高。

公开(公告)号：CN111762809B

公开(公告)日：2023-11-03

申请号：CN202010562062.7

申请日：2020-06-18

Applicant: 苏州大学

Inventor： 马万里 ,  卢坤媛 ,  刘泽柯

IPC: C01G21/21 ,  C01B19/04 ,  B05D7/24 ,  B05D1/00 ,  H01L31/032 ,  H01L31/0352 ,  H01L31/06 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00

Abstract: 本发明公开了一种铅氧族化合物二聚体纳米晶、导电薄膜及制备方法和应用。利用铅试剂、有机酸和1‑十八烯制备铅前驱体；利用二(三甲基硅烷基)氧族化合物、1‑十八烯与得到的铅前驱体进行反应，对得到的溶液进行冷冻处理后，再通过后处理得到卤素掺杂的铅氧族化合物纳米晶。本发明提供的铅氧族化合物二聚体纳米晶在沉积薄膜过程中能使纳米晶的排列更加无序，避免晶界的形成，可以进一步避免后续配体交换过程中裂缝的形成。利用本发明提供的制备方法，可以大幅简化纳米晶太阳能电池器件的制备工艺。

公开(公告)号：CN116925606A

公开(公告)日：2023-10-24

申请号：CN202210320685.2

申请日：2022-03-29

Applicant: 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司

Inventor： 宗坚

IPC: C09D129/02 ,  C09D139/00 ,  C09D135/00 ,  C09D5/00 ,  C08F116/04 ,  C08F126/02 ,  C08F122/02 ,  C08F2/52 ,  B05D1/00 ,  B05D5/00 ,  B05D7/24

Abstract: 本发明具体实施方式的涂层，所述涂层由烯烃单体等离子体聚合形成，其中，所述烯烃单体由碳碳双键结构和位于碳碳双键上选自于氢原子、卤素原子、甲基、乙基和带有亲水端基的饱和链基团组成，并且所述带有羟基、羧基或氨基亲水端基的饱和链基团至少具有两个，分别位于烯烃双键的两个碳原子上，采用所述结构的烯烃单体等离子体聚合形成的涂层具有优异的耐磨性同时，具有更为优异的亲水性能，并且色差小、透光率优异，十分适合用于亲水防雾涂层。

公开(公告)号：CN116913400A

公开(公告)日：2023-10-20

申请号：CN202310783417.9

申请日：2023-06-29

Applicant: 中国电子科技集团公司第十研究所

Inventor： 仝晓刚 ,  刘强强

IPC: G16C20/10 ,  B05D1/00 ,  G16C10/00

Abstract: 本发明提供一种C型聚对二甲苯二聚体的成膜速率匹配方法，包括如下步骤：S100，分别构建升华速率计算公式、裂解速率计算公式和成膜速率计算公式；S200，利用所述升华速率计算公式、裂解速率计算公式和成膜速率计算公式分别计算升华速率、裂解速率和成膜速率，通过调整相应的升华温度、裂解温度以及成膜温度，实现升华速率、裂解速率和成膜速率相等，从而达到C型对二甲苯二聚体成膜过程的速度匹配。利用本发明，可显著提高C型聚对二甲苯二聚体的成膜效率，缩短产品加工时间40％以上，提高C型聚对二甲苯二聚体的原料利用率，同时提高了C型聚对二甲苯二聚体的成膜质量，大幅减少了成膜过程中的C残留物质。

公开(公告)号：CN116851231A

公开(公告)日：2023-10-10

申请号：CN202310833466.9

申请日：2023-07-07

Applicant: 中国航发北京航空材料研究院

Inventor： 周邦阳 ,  崔永静 ,  王长亮 ,  焦健 ,  聂梓杏 ,  郭孟秋 ,  宇波

IPC: B05D1/00 ,  C09D1/00 ,  C09D167/00 ,  C09D7/61 ,  B05D3/00 ,  B05D3/12 ,  B05D3/14 ,  B05D1/36 ,  B05D3/02 ,  B05D7/00

Abstract: 本发明提供了一种硅酸镱基自愈合/可磨耗/环境障涂层，由内向外依次包括HfO2‑Si+X粘结层、Yb2Si2O7‑M自愈合层、(Yb0.25RE10.25RE20.25RE30.25)2Si2O7环境障层和Yb2Si2O7‑聚酯可磨耗面层；所述HfO2‑Si+X粘结层与基体材料相接触。本发明中的涂层耐温1350℃，且在该温度下具有热导率低、与基体热匹配度高、可磨耗和抗水氧腐蚀性能优等优势，可有效提高CMC涡轮外环的服役温度和服役寿命。本发明还提供了一种硅酸镱基自愈合/可磨耗/环境障涂层的制备方法和应用。

公开(公告)号：CN115463803B

公开(公告)日：2023-09-22

申请号：CN202111532888.X

申请日：2021-12-15

Applicant: 上海交通大学

Inventor： 刘景全 ,  阮涛 ,  林祖德 ,  刘武 ,  王晓林

IPC: B05D1/00 ,  B05C11/10 ,  B05C9/02

Abstract: 本发明提供一种化学气相沉积装置以及高厚度Parylene‑N膜的制备方法，该装置包括通过管道依次相连的蒸发室、裂解炉、沉积室和冷阱；所述冷阱通过真空泵与所述沉积室连通；所述沉积室的底部设有用于与所述冷阱连通的连通口，所述连通口处设有节流片，所述节流片用于调节所述连通口的大小；所述沉积室内还设有降温平台，所述降温平台位于所述沉积室的腔室底部，所述降温平台用于降低衬底的温度。本发明的高厚度Parylene‑N膜的制备方法，使用该装置，并通过控制裂解温度和沉积压力等参数，可以实现微米级别的Parylene‑N膜的快速沉积，且只需要在常见的Parylene沉积设备上进行改进和调节参数即可实现，有利于减少制造成本。

公开(公告)号：CN109046817B

公开(公告)日：2023-09-05

申请号：CN201810830620.6

申请日：2018-07-13

Applicant: 金华职业技术学院

Inventor： 张向平 ,  赵永建

IPC: B05B5/08 ,  B05B5/03 ,  B05D1/00

Abstract: 本发明涉及材料制备领域，一种大分子沉积方法，泵组抽真空；将溶液通入；缓冲气体通入缓冲气体腔，通过出气口进入喷雾腔，最终从缓冲气出口排出；在外管和内管之间施加电压，使得溶液中的部分待沉积分子成为离子形式，并且溶液在电喷雾装置出口形成雾化的液滴，调节电压，调整电喷雾装置位置；部分电喷雾装置出口形成雾化的液滴依次通过出气口II、缓冲气体腔进入真空腔，液滴中剩下待沉积分子的离子、溶剂分子及杂质组成的离子束流；当离子束流通过分流器I时，溶剂分子由于与分流器I壁碰撞而受热并被蒸发从而偏离离子束流；杂质由于与分流器II壁碰撞而受热并被散射从而偏离离子束流；离子束流中部分离子沉积在挡板上；待沉积分子沉积在样品上。