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公开(公告)号：KRDM094564S
公开(公告)日：2016-06-30
申请号：KRDM094564S
申请日：2016-06-30
Designer： David Quijano, **** E Harmony Rd., C-*LG*, Fort Collins, CO *****-****, US , Jonathan D Bassett, **** E Harmony Rd., C-*LG*, Fort Collins, CO *****-****, US , Owen Richard, **** E Harmony Rd., C-*LG*, Fort Collins, CO *****-****, US , Jack Godfrey Wood, * Garden Walk, London EC*A *EQ, GB , Harc Lee, * Garden Walk, London EC*A *EQ, GB , Marcus Hoggarth, * Garden Walk, London EC*A *EQ, GB
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公开(公告)号：KRDM089834S
公开(公告)日：2015-09-04
申请号：KRDM089834S
申请日：2015-09-04
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公开(公告)号：KRDM092582S
公开(公告)日：2016-08-16
申请号：KRDM092582S
申请日：2016-08-16
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公开(公告)号：KRDM092187S
公开(公告)日：2016-08-12
申请号：KRDM092187S
申请日：2016-08-12
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公开(公告)号：KRDM095824S
公开(公告)日：2016-06-21
申请号：KRDM095824S
申请日：2016-06-21
Designer： Joshua Glenn Little, **** Page Mill Rd., Palo Alto, CA *****-****, US , Glenn A. Wong, **** West Maude Ave, Sunnyvale, CA *****, US , Jack Godfrey Wood, * Garden Walk, London, EC*A *EQ, GB , Seongmin Hwang, * Garden Walk, London, EC*A *EQ, GB , Marcus Hoggarth, *a Tabernacle Street, London, EC*A *LU, GB
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KRDM092797S
公开(公告)日：2016-03-31
申请号：KRDM092797S
申请日：2016-03-31
Designer： Saro Nalbandian, **** Page Mill Rd., Palo Alto, CA *****-****, US , Glenn A. Wong, **** West Maude Ave., Sunnyvale, CA *****, US , John William Pennington Jr., **** Page Mill Rd., Palo Alto, CA *****-****, US , Jack Godfrey Wood, * Garden Walk, London, EC*A *EQ, GB , Joshua Glenn Little, **** Page Mill Rd., Palo Alto, CA *****-****, US , Marcus Hoggarth, * Garden Walk, London, EC*A *EQ, GB , Hare Lee, * Garden Walk, London, EC*A *EQ, GB
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公开(公告)号：JP2017537000A
公开(公告)日：2017-12-14
申请号：JP2017523300
申请日：2014-10-31
Applicant: ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル.ピー.Hewlett‐Packard Development Company, L.P. , ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル.ピー.Hewlett‐Packard Development Company, L.P.
Inventor： ゴフヤディノフ，アレキサンダー , リチャーズ，ポール，エイ , バッカー，クリス
CPC classification number: B41J2/1404 , B41J2/14056 , B41J2/14201 , B41J2/175 , B41J2002/14306 , B41J2202/12
Abstract: 【課題】流体噴射素子におけるインク閉塞、及び/又は詰まりの低減。【解決手段】流体噴射装置は、流体スロットと、流体スロットと連通している少なくとも1つの流体噴射室と、少なくとも1つの流体噴射室内の液滴噴射素子と、流体スロット及び少なくとも1つの流体噴射室と連通している流体循環通路と、流体循環通路と連通している流体循環素子とを含む。流体循環素子は、流体循環通路、及び少なくとも1つの流体噴射室を通して、流体スロットからの流体のオンデマンド循環を提供するように構成される。【選択図】図6B
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公开(公告)号：JP2017536999A
公开(公告)日：2017-12-14
申请号：JP2017523274
申请日：2014-10-30
Applicant: ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル.ピー.Hewlett‐Packard Development Company, L.P. , ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル.ピー.Hewlett‐Packard Development Company, L.P.
Inventor： ホワイト，ローレンス，エイチ , アガーワル，アルン，ケイ , バーンズ，ロン
CPC classification number: B41J2/1433 , B41J2/1404 , B41J2/1412 , B41J2/175 , B41J2202/11
Abstract: プリントヘッド及びプリンタが本明細書で説明される。一例において、プリントヘッドは、異なるサイズのインク滴を吐出するように構成された複数のノズルを含み、低い液滴重量(LDW)の液滴が、円形ボア(CB)のノズルを介して吐出され、高い液滴重量(HDW)の液滴が、非円形ボア(NCB)のノズルを介して吐出される。【選択図】図5
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公开(公告)号：JP2017535451A
公开(公告)日：2017-11-30
申请号：JP2017523312
申请日：2014-11-14
Applicant: ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル.ピー.Hewlett‐Packard Development Company, L.P. , ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル.ピー.Hewlett‐Packard Development Company, L.P.
Inventor： バイヨーナ，フェルナンド , エンクレナス，ミッシェル，ジョルジュ , クレスピ，アルベルト , ミラヴェット，ヨアン，アルベルト , ヘルナンデス，マルチネス，ビーシュマ
CPC classification number: B41J2/17596 , B41J2/175
Abstract: 本開示の1側面にしたがう例示的な装置は、印刷可能組成物用の第1の容器と、該第1の容器及び第2の容器に流体結合したポンプと、該第2の容器から該ポンプへの逆流を防止するための弁とを備える。該弁は、閾値ポンプ圧力に基づいて該第2の容器を該ポンプから選択的に分離することができ、この場合、該弁は、該閾値ポンプ圧力下で閉じる。【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2017535448A
公开(公告)日：2017-11-30
申请号：JP2017515957
申请日：2014-09-23
Applicant: ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル.ピー.Hewlett‐Packard Development Company, L.P. , ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル.ピー.Hewlett‐Packard Development Company, L.P.
Inventor： スミス，デイヴィッド，イー
CPC classification number: B41J11/0015 , B41J11/002 , F26B3/04 , F26B13/10 , F26B21/10 , F26B23/04
Abstract: ヒータアセンブリが開示される。ヒータアセンブリは、第1の開口部および第2の開口部を有するフレームを備える。第1の開口部に位置するヒータ要素が存在する。フローバルブは、フレームに取り付けられ、第1の位置から第2の位置まで移動可能である、第1の位置にある場合、フローバルブが、第1の開口部を通る気流を遮断する。第2の位置にある場合、フローバルブが、第2の開口部を通る気流を遮断する。フローバルブが第1の位置と第2の位置との間にある場合、フローバルブが、第1の開口部を通る気流の少なくとも一部を遮断し且つ第2の開口部を通る気流の少なくとも一部を遮断する。【選択図】図1
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