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1.发明专利反射対物鏡、ミラーを有する広帯域対物光学系、及び屈折レンズを有する光学撮像システム、及び２つ以上の結像経路を有する広帯域光学撮像システム 有权具有目标目镜的光学成像系统，具有镜面和折射镜的宽带目标光学，以及具有两个或更多成像片段的宽带光学成像系统
公开(公告)号：JP2015057656A
公开(公告)日：2015-03-26
申请号：JP2014210549
申请日：2014-10-15
Applicant: ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation , Kla-Tencor Corp , ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation
Inventor： HWANG SHIOW-HWEI , GREGORY L KIRK , HWAN J JEONG , DAVID SHAFER , RUSSELL HUDYMA
CPC classification number: G02B17/0808 , G02B17/0652 , G02B17/084 , G02B21/04
Abstract: 【課題】反射対物光学系、反射屈折対物光学系の使用、及び複数の波長帯域及び/または検査モードの同時使用に好適な光学系を提供する。【解決手段】試料検査用の光学システムにおいて、最外部のミラーを含む少なくとも1つのミラーを具えた対物光学系142と、対物光学系に光結合され、1つ以上の屈折光学素子を含む焦点調節光学系とを具え、対物光学系は、0.7以上の開口数、瞳孔内の35%以下の中心不明瞭化で結像を行い、最外部のミラー115’の試料側のアスペクト比が20:1以下である。【選択図】図1b
Abstract translation: 要解决的问题：提供适合使用反射物镜光学和反折射物镜光学的光学器件，以及同时使用多个波长带和/或检查模式。解决方案：用于样品检查的光学系统包括：具有至少一个 镜子包括最外面的镜子; 并且聚焦光学器件光学耦合到物镜光学元件并且包括一个或多个折射光学元件。 目标光学器件以0.7或更大的数值孔径执行成像，并且在瞳孔中进行35％或更小的中心遮蔽。 样品侧的最外镜115'的纵横比为20:1或更小。
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公开(公告)号：JP2015043099A
公开(公告)日：2015-03-05
申请号：JP2014217099
申请日：2014-10-24
Applicant: ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation , Kla-Tencor Corp , ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation
Inventor： YUNG-HO ALEX CHUANG , VLADIMIR LEVINSKI , LIU XUEFENG
CPC classification number: G01N21/9501 , G01N2021/479
Abstract: 【課題】非常に短い時間量でスペックルパターンを十分に抑制することができる計測システムのための照明方法および/またはサブシステムを提供する。【解決手段】光のコヒーレントパルスを発生するように構成された光源10と、光のコヒーレントパルスの経路中に配置された分散素子であって、分散素子が、光のパルス中の光分布の空間的特性と時間的特性とを混合することによって、光のパルスのコヒーレンスを低減するように構成された分散素子と、分散素子から出る光のパルスの経路中に配置された電気光学変調器であって、電気光学変調器が、光のパルス中の光分布を時間的に変調することによって、光のパルスのコヒーレンスを低減するように構成され、照明サブシステムが、電気光学変調器からの光のパルスを、計測システム中に配置された試験片に導くように構成された、電気光学変調器16とを備える。【選択図】図1
Abstract translation: 要解决的问题：提供用于度量系统的照明方法和/或子系统，其能够在短时间内充分抑制散斑图案。解决方案：计量系统的照明子系统包括：光源10，其被配置为产生 相干脉冲的光; 位于光相干脉冲的路径中的分散元件被配置为通过混合光脉冲中的光分布的空间和时间特征来减小光脉冲的相干性; 以及电光调制器16，其位于离开色散元件的光的脉冲的路径中，并且被配置为通过暂时调制光脉冲中的光分布来减小光脉冲的相干性。 照明子系统被配置为将来自电光调制器的光的脉冲引导到位于计量系统中的样本。
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公开(公告)号：JP5635011B2
公开(公告)日：2014-12-03
申请号：JP2011545386
申请日：2010-01-04
Inventor： アデル・マイケル・イー． , マナッセン・アムノン , カンデル・ダニエル
CPC classification number: G03F7/70683 , G03F7/705 , G03F7/70633 , H01L22/12
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公开(公告)号：JP2015043452A
公开(公告)日：2015-03-05
申请号：JP2014210335
申请日：2014-10-15
Applicant: ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation , Kla-Tencor Corp , ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation
Inventor： ADELE MICHAEL , JOHN FIELDEN , AMIR WIDMANN , JOHN ROBINSON , CHOI DONGSUB
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70258 , G03F7/705 , G03F7/70525 , G03F7/70616 , G03F7/70783
Abstract: 【課題】パターンニング・エラーを削減し、高い精度と少ない設計ルールを要求するプロセスの収率を改善するリソグラフィック・プロセスに於けるプロセス制御の方法と装置を提供する。【解決手段】基板上でリソグラフィック・パターンニング・プロセスを実施する前か、或いは後のいずれかに計測学を基板上で実施する。実施された計測学に基づき、リソグラフィック・パターンニング・プロセスへの一つまたは複数の修正可能な値を生成する。基板上(または次の基板上)で実施されるリソグラフィック・パターンニング・プロセスを修正可能な値を用いて調節する。【選択図】図1
Abstract translation: 要解决的问题：提供用于光刻工艺中的工艺控制的方法和装置，其减少图案化错误并提高需要高精度和小设计规则的工艺的产量。解决方案：在执行之前或之后在衬底上进行计量 在衬底上的平版印刷图案化工艺。 基于所进行的计量，产生光刻图案化过程的一个或多个可修正的。 在可校正的基板（或随后的基板）上执行的平版印刷图案处理被调整。
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公开(公告)号：JP2015038624A
公开(公告)日：2015-02-26
申请号：JP2014210337
申请日：2014-10-15
Applicant: ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation , Kla-Tencor Corp , ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation
Inventor： J JOSEPH ARMSTRONG
CPC classification number: G02B17/0808 , G02B17/0856 , G02B21/0016 , G02B21/04 , G02B21/125 , G03F7/70225
Abstract: 【課題】暗視野検査を容易にする反射屈折対物光学系を含む検査システムを提供する。【解決手段】対物光学系は、試料の方向に向いた外側要素部分反射性表面を有し、かつ、前記試料から最も遠い位置に配置された外側要素と、前記試料から離れる方向に向いた内側要素部分反射性表面を有し、かつ、前記試料に最も近い位置に配置された内側要素と、外側レンズ及び内側レンズの間に位置する中央要素とを備える。前記外側要素、前記内側要素及び前記中央要素のうち、少なくとも一つの要素は、非球面の表面を有する。前記内側要素は、前記試料の暗視野検査を容易にするよう、空間的に構成される。【選択図】図3
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种包括有助于暗场检查的反折射物镜光学系统的检查系统。解决方案：一种物镜光学系统包括离被检体的外部元件最远的部分，该外部元件具有朝向标本的外部元件部分反射表面， 最靠近试样的内部元件具有远离试样的内部元件部分反射表面，以及定位在外部透镜和内部透镜之间的中心元件。 外部元件，内部元件和中心元件中的至少一个具有非球面。 内部元件在空间上构造以便于对样品进行暗视场检查。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP5663504B2
公开(公告)日：2015-02-04
申请号：JP2012009434
申请日：2012-01-19
Inventor： アデル・マイケル , ギノブカー・マーク , ミーハー・ウォルター・ディーン
IPC: G03F9/00 , H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70633
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公开(公告)号：JP5634989B2
公开(公告)日：2014-12-03
申请号：JP2011514595
申请日：2009-06-15
Inventor： アームストロング・ジェイ．・ジョセフ
IPC: G02B13/00 , G02B17/08 , G02B21/04 , G02B21/10 , H01L21/027
CPC classification number: G02B17/0808 , G02B17/0856 , G02B21/0016 , G02B21/04 , G02B21/125 , G03F7/70225
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公开(公告)号：JP2014222239A
公开(公告)日：2014-11-27
申请号：JP2014140065
申请日：2014-07-07
Applicant: ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation , Kla-Tencor Corp , ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation
Inventor： ZHAO GUOHENG , MEHDI VAEZ-IRAVANI , SCOTT YOUNG , BHASKAR KRIS
IPC: G01N21/956 , G01B11/30 , H01L21/66
CPC classification number: G01N21/9501 , G01N21/8806 , G01N2021/8822
Abstract: 【課題】スペックルノイズの影響を低減した暗視野ウエハ検査システムを提供する。【解決手段】サンプル表面の粗度によるスペックルノイズを最小限に抑える暗視野検査システムは、ウェハ104上に合成集束照射線を生成するための、複数のビーム成形経路101を含み得る。各ビーム成形経路101は、傾斜角でウェハ104を照射することができる。複数のビーム成形経路101は、リング状照射を形成することができる。このリング状照射は、スペックルの影響を低減することにより、SNRを改善することができる。対物レンズは、ウェハ104からの散乱光を捕捉することができ、画像センサーは、対物レンズの出力を受け取ることができる。ウェハ104の照射が傾斜角で実施されるため、対物レンズは高いNAを有し得、このことによって、画像センサーの光学解像度、および結果的に得られる信号レベルが改善される。【選択図】図1A
Abstract translation: 要解决的问题：提供减少斑点噪声影响的暗视场晶片检查系统。解决方案：使由于样品表面粗糙度引起的散斑噪声最小化的暗场检查系统可以包括多个光束整形路径101，用于产生 复合聚焦照明线路。每个光束整形路径101可以以倾斜角度照射晶片104。 多个光束整形路径101可以形成环形照明。 这种环形照明可以减少斑点效应，从而提高SNR。 物镜可以捕获来自晶片104的散射光，成像传感器可以接收物镜的输出。 由于晶片104的照射以倾斜角发生，所以物镜可以具有高NA，从而提高成像传感器的光学分辨率和所得到的信号电平。
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公开(公告)号：JP2014211447A
公开(公告)日：2014-11-13
申请号：JP2014141486
申请日：2014-07-09
Applicant: ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation , Kla-Tencor Corp , ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation
Inventor： PETER HILL , ROBERT DANEN , WANG CHARLES
IPC: G01N21/88 , G01B11/30 , G01N21/956
CPC classification number: G01N21/9501 , G01N21/21 , G01N21/8806 , G01N21/956 , G03F7/7065
Abstract: 【課題】高感度および高スループットのウェーハ検査のための深紫外線、フレキシブル明視野および暗視野画像化システムを含む、広帯域紫外線の偏光制御を提供する。【解決手段】表面検査システムは、線形偏光子105およびアポクロマートの位相子107のうちの少なくとも1つを含む偏光制御アセンブリ103、開口制御機構109、およびビームスプリッタ113、を含み、対象の表面上へ放射線を指向する放射線指向アセンブリと、線形偏光子119およびアポクロマートの位相子121のうちの少なくとも1つを含む偏光制御アセンブリ117、開口制御機構123、および少なくとも1つの放射線検出装置127、を含み、前記対象の前記表面から反射する放射線を収集する放射線収集アセンブリと、を含む。【選択図】図1A
Abstract translation: 要解决的问题：提供宽带紫外线的偏振控制，包括深紫外线，柔性明场和暗场成像系统，用于具有高灵敏度和高吞吐量的晶片检测。解决方案：表面检测系统包括：辐射导向组件 目标辐射到物体的表面上，辐射导向组件包括偏振控制组件103，偏振控制组件103包括线性偏振器105和复消色差延迟器107中的至少一个，辐射导向组件还包括孔径控制机构109和分束器113 ; 用于收集从物体表面反射的辐射的辐射收集组件，所述辐射收集组件包括包括线性偏振器119和复消色差延迟器121中的至少一个的偏振控制组件117，所述辐射收集组件还包括孔径控制机构 123和至少一个辐射感测装置127。
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公开(公告)号：JP2015018279A
公开(公告)日：2015-01-29
申请号：JP2014196625
申请日：2014-09-26
Applicant: ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation , Kla-Tencor Corp , ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation
Inventor： SHAFER DAVID ROSS , CHUANG YUNG-HO , TSAI BIN-MING BENJAMIN
IPC: G01N21/33 , G02B17/08 , G02B13/14 , G02B15/14 , G02B15/15 , G02B15/16 , G02B21/00 , G02B21/02 , G02B21/04 , G02B21/16 , G03C5/16 , G03F1/84 , G03F3/00 , G03F7/20 , H04N5/225
CPC classification number: G03F7/70616 , G02B17/0808 , G02B17/0856 , G02B17/0892 , G02B21/16 , G03F1/84 , G03F7/70225 , G03F7/70275 , G03F7/7065
Abstract: 【課題】広範囲ズーム機能を備えた超広帯域紫外(UV)カタディオプトリック映像顕微鏡システムを提供する。【解決手段】カタディオプトリックレンズ群及びズーミングチューブレンズ群139を含む顕微鏡システムは、極UV波長で高光学解像度と、連続的に調整可能な倍率と、高開口数とを有する。このシステムは、部品点数を削減し、システムの製造プロセスを簡単化するため、対物レンズ、チューブレンズ及びズーム光学系のような顕微鏡モジュールを統合する。全屈折ズーミングチューブレンズと組み合わせることにより、非常に広い極紫外スペクトル域に亘って優れた画質が得られる。ズーミングチューブレンズは、一般的に性能を制限する高次色収差を補償するように変更される。【選択図】図4
Abstract translation: 要解决的问题：提供具有宽范围变焦能力的超宽带紫外（UV）反折射成像显微镜系统。解决方案：包括反折射透镜组和变焦管透镜组139的显微镜系统具有高光学 分辨率在深紫外波长，连续可调放大倍数和高数值孔径。 该系统集成了诸如目标，管镜和变焦光学的显微镜模块，以减少部件数量，并简化系统制造过程。 通过与全折射变焦管镜头结合，可以获得在非常宽的深紫外光谱范围内的优异图像质量。变焦管镜头被修改以补偿通常限制性能的高阶色差。
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