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公开(公告)号：JP2011518250A
公开(公告)日：2011-06-23
申请号：JP2011505473
申请日：2009-04-20
Inventor： コーネリス エメ コーニング , ロバート ドゥシャトー , マウリセ ルードヴィクス ジョセフィーナ フレインス
IPC: C08G64/34 , C09D5/00 , C09D5/03 , C09D169/00
CPC classification number: C08G64/34 , C08G18/44 , C09D169/00
Abstract: 重合が連鎖移動剤の存在下で単一ステップで実行されることを特徴とする。 好ましい連鎖移動剤は、ポリオールである。 本発明は、官能性ヒドロキシル末端基を有する分岐ポリカーボネートにも関する。
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公开(公告)号：JP2010539264A
公开(公告)日：2010-12-16
申请号：JP2010524443
申请日：2008-08-22
Inventor： コーネリス コーニング , ロバート ドゥシャトー , バート ノールドオーバー , ダニエル ハーフェマン , ベンセム ルドルフス ファン
IPC: C08G64/00 , C09D5/02 , C09D5/03 , C09D169/00
CPC classification number: C08G64/0208 , C08G18/44 , C08G18/792 , C08G18/8074 , C08G64/183 , C09D169/00 , C09D175/06
Abstract: 【要訳】
本発明は、多糖から作製可能であるジアンヒドロヘキシトール残基およびポリオール残基を含むポリカーボネートであって、該ポリカーボネートは、ポリマー１ｇあたり０．２〜５ｍｍｏｌの水酸基を有する、ポリカーボネートに関する。 ポリカーボネートは、分岐していてよく、適切な架橋剤と反応することができる官能基を有する。 ポリカーボネートは、例えばコーティング組成物に使用されることができる。-
公开(公告)号：JP2009513321A
公开(公告)日：2009-04-02
申请号：JP2008536933
申请日：2005-10-26
Inventor： ゴヒー，ジーン−フランソワ , シューベルト，ウルリッヒ・エス , マイヤー，マイケル
CPC classification number: C08L53/00 , C08L53/005 , C08L2666/02
Abstract: 選択された星形ブロックコポリマーを含有する単分子ミセルを含む金属ナノ粒子が開示される。 これらの単分子ミセルは、炭素−炭素結合を形成するカップリング反応において触媒として、例えば、ヘック反応での触媒として使用することができる。
【選択図】 なし-
公开(公告)号：JP2007523242A
公开(公告)日：2007-08-16
申请号：JP2006553520
申请日：2005-02-14
Inventor： セバーン，ジョン，リヒャルト , チャドウィック，ジョン，クレメント
IPC: C08F4/638 , C08F4/639 , C08F4/6392 , C08F10/02 , C08F20/00 , C08F110/02
CPC classification number: C08F10/02 , C08F4/63912 , C08F4/6392 , C08F10/00 , C08F110/02 , C08F4/63916 , C08F4/68112 , C08F4/022 , C08F4/64044 , C08F2500/03 , C08F4/7006
Abstract: 式（Ｉ）：
MgT
2
. yAlQ
j (OU)
3-j (I)
（式中、Tは塩素、臭素または沃素であり；Uは直鎖状または分枝鎖状のC
1 -C
10 アルキル基であり；yは6.00〜0.05の範囲であり；jは3〜0.1の範囲であり； Q置換基は１〜２０の炭素原子を含む炭化水素基である）
の付加物を、式(II)、(III)および(IV)：
（式中、M
1 は周期律表のグループ１３〜１７から選択される遷移金属原子であり；R
1 、R
2 、R
3 、R
4 、R
5 およびR
8 はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子または炭化水素基であり；LおよびL
1 は２価または３価の炭化水素基であり；T
1 はルイス塩基であり；A1およびA2は酸素、硫黄または窒素含有基であり；Xは水素、ハロゲンまたは炭化水素基である）
から選択される少なくとも一つの化合物と接触させて得られる物質を含む、担持された触媒システム。-
公开(公告)号：JP2007522300A
公开(公告)日：2007-08-09
申请号：JP2006552574
申请日：2005-02-14
Inventor： セバーン，ジョン，リヒャルト , チャドウィック，ジョン，クレメント
IPC: C08F4/6592 , C08F4/659 , C08F10/00 , C08F110/02
CPC classification number: C08F110/02 , C08F4/65912 , C08F4/6592 , C08F4/65925 , C08F4/65927 , Y10S526/943 , C08F4/65916 , C08F4/022 , C08F2500/03
Abstract: 式（Ｉ）：
MgT
2
. yAlQ
j (OR)
3-j (I)
（式中、Ｔは塩素、臭素または沃素であり、Ｒは直鎖もしくは分枝鎖状のC
1 -C
10 アルキル基であり；ｙは１．００〜０．０５の範囲であり；ｊは０．０１〜３．００の範囲である）
の付加物を、中心金属としてチタンを有する少なくとも一つのメタロセン化合物およびシクロペンタジエニル骨格を有する少なくとも一つのリガンドと接触させることを含む方法により得られる触媒システム。-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2011513571A
公开(公告)日：2011-04-28
申请号：JP2010550215
申请日：2009-03-13
Inventor： ヨゲシュ シェシュラオ デシュムク , ジュールス ハーリングス , エスター フィンケン , サンジェイ ラストギ
CPC classification number: C08L77/00 , C08J3/05 , C08J2377/00 , D01D1/02 , D01F6/60
Abstract: 本発明は、ポリアミド、水及び塩を含む、低減された結晶化度を有する組成物を作製する方法であって、a． 前記ポリアミド、水及び塩を混合するステップと、b． 前記混合物を、前記ポリアミドのBrill温度より120℃低い温度とBrill温度より50℃高い温度との間の範囲内であって100℃より高い温度に、当該温度での蒸気圧より高い圧力下で加熱するステップと、c． 任意に前記混合物を冷却するステップとを有する新しい方法に関する。
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公开(公告)号：JP2010508667A
公开(公告)日：2010-03-18
申请号：JP2009535035
申请日：2007-11-06
Inventor： ゲレーロ，サンチェス・カルロス , シューベルト，ウルリッヒ・エス , ラサ，ミルチェア
IPC: H01F1/34 , C10M133/04 , C10M133/40 , C10M133/44 , C10M135/10 , C10M137/04 , C10M137/12 , C10M169/04 , C10N20/06 , C10N30/00 , C10N40/14 , F16J15/14 , F16J15/43 , H01F1/44
CPC classification number: H01F1/447
Abstract: Disclosed are magnetic fluids containing ionic liquids and containing no stabilisation agents or containing selected stabilisation agents. These magnetic fluids can be used in different fields of industry, for example as an ink, as a damping fluid, as a sealing fluid, in imaging applications, in sink flotation techniques, in biomedical applications, as a reaction medium to perform chemical reactions, as a reversible seal for occluding blood vessels in living organisms in medical therapy or as a transportation means and/or delivery means for chemical substances at a selected location within a chemical or biological system.
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公开(公告)号：JP2009510747A
公开(公告)日：2009-03-12
申请号：JP2008532675
申请日：2006-09-28
Inventor： シューベルト，ウルリヒ・エス , デ・ガンス，ベレント・ヤン , ペレラエー，ヨルケ
CPC classification number: H05K3/1283 , H01L21/288 , H01L21/76838 , H05K3/125 , H05K3/22 , H05K2203/013 , H05K2203/102 , H05K2203/1105
Abstract: 金属表面構造物を発生させる方法およびそのための装置に関する。 基材に金属粒子をコーティングし、そのコートした基材を、マイクロ波放射を用いて加熱することにより、その基材上に導電性表面パターンを生じさせる方法が開示される。 この方法は、実施するのが容易であり、金属パターンを低コストで発生させるために使用することができる。
【選択図】 なし-
公开(公告)号：JP2011516677A
公开(公告)日：2011-05-26
申请号：JP2011503422
申请日：2009-04-07
Inventor： リンチェ ピーター シーベスマ , イツロ トマツ , コーネリス ウィルヘルムス マリア バスティアーンセン , ダーク ヤン ブロアー , コー ヘルマンズ
Abstract: The invention relates to a process for the preparation of a polymeric relief structure comprising the steps a) coating a substrate with a coating composition comprising one or more radiation-sensitive ingredients, b) locally treating the coated substrate with electromagnetic radiation having a periodic, non periodic or random radiation-intensity pattern, forming a latent image, c) polymerizing and/or crosslinking the resulting coated substrate, wherein the coating composition comprises a compound A comprising at least one radiation curable group and having a transition temperature between 30 °C and 120 °C and a photoinitiator. The invention also relates to polymeric relief structures having a high aspect ratio despite a very thin coated layer.
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公开(公告)号：JP5314689B2
公开(公告)日：2013-10-16
申请号：JP2010524443
申请日：2008-08-22
Inventor： バート ノールドオーバー , ロバート ドゥシャトー , コーネリス コーニング , ベンセム ルドルフス ファン , ダニエル ハーフェマン
IPC: C09D169/00 , C08G64/02 , C09D5/03
CPC classification number: C08G64/0208 , C08G18/44 , C08G18/792 , C08G18/8074 , C08G64/183 , C09D169/00 , C09D175/06
Abstract: The invention relates to polycarbonate containing a dianhydrohexitol residue, obtainable from a polysaccharide, and a polyol residue, wherein the polycarbonate comprises between 0.2 and 5 mmol hydroxyl groups per gram polymer. The polycarbonate may be branched and comprises functional groups that can react with suitable crosslinkers. The polycarbonate can be used in for example coating compositions.
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