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公开(公告)号:JP2016525013A
公开(公告)日:2016-08-22
申请号:JP2016520306
申请日:2014-06-12
Applicant: トルンプフ レーザー− ウント ジュステームテヒニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングTRUMPF Laser− und Systemtechnik GmbH , トルンプフ レーザー− ウント ジュステームテヒニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングTRUMPF Laser− und Systemtechnik GmbH
Inventor: ヴィートマン ドミニク , ヴィートマン ドミニク
CPC classification number: B23Q1/0009 , H02G11/006
Abstract: 機械本体(2)に関して水平のガイド(3)に沿って線状に移動可能なキャリッジ(4)と、前記機械本体(2)と前記キャリッジ(4)とに取り付けられた、半円形に上方に向かって曲げ返された少なくとも1つのフレキシブルな供給ライン(5)とを備えた、ワーク加工用の加工機械(1)において、本発明の構成では、前記供給ライン(5)が、キャリッジ(4)に取り付けられた第1のライン区分(5a)と、機械本体(2)に取り付けられた第2のライン区分(5b)とを有し、第1および第2の両ライン区分は、水平方向で相並んで配置されており、第1および第2の両ライン区分(5a,5b)の他方のライン端部は、同じ高さで互いにU字形を成して結合されており、前記供給ライン(5)は、第1および第2の両ライン区分(5a,5b)が平らに相並んで展開されている運搬位置と、第1および第2の両ライン区分(5a,5b)がそれぞれ半円形に上方に向かって曲げ返されていて、かつ当該加工機械(1)に取り付けられている、前記運搬位置に対して、より高い位置に位置する作業位置との間で、フラップ式に旋回可能である。
Abstract translation: 一个可移动的滑架(4)沿着水平导轨(3)相对于所述机器本体(2)线性地安装在所述机器主体(2)和滑架(4),上部半圆形 双头弯曲返回至少一个柔性供给管线(5)并配有,在加工机的工件加工(1),在本发明的结构中,电源线(5)是一个滑架(4) 到被连接的第一线部分(5a)中,并且被附接至机器主体(2)的第二线部分(5b)中,该第一和第二的两个线部分是在水平方向上 通过并排布置,第一和第二线部分的另一端线(5A,5B)被耦合以形成一个U形彼此相同的高度处,所述供给管线( 5)中,第一和第二线部分(5A,5B)和运输位置被部署沿着平坦的相位,所述第一和第二线部分(5A,5B )并已分别向后弯曲向上半圆形,并且附接至加工机(1),相对于所述运输位置,位于较高位置的工作位置,翼片之间 它是方程式中摆动。
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2.
公开(公告)号:JP2016502764A
公开(公告)日:2016-01-28
申请号:JP2015545694
申请日:2013-12-05
Applicant: トルンプフ レーザー− ウント ジュステームテヒニク ゲゼルシャフトミット ベシュレンクテル ハフツングTRUMPF Laser− und Systemtechnik GmbH , トルンプフ レーザー− ウント ジュステームテヒニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングTRUMPF Laser− und Systemtechnik GmbH
Inventor: シュヴァント マークス , シュヴァント マークス , クヌプファー シュテファン , クヌプファー シュテファン , マール ゲロルト , マール ゲロルト
IPC: H01S3/038
CPC classification number: H01S3/097 , H01S3/038 , H01S3/0388 , H01S3/2232
Abstract: 拡散冷却方式ガスレーザ装置(1)であって、当該ガスレーザ装置(1)は、第1の電極(2)と、第2の電極(5)と、当該第1の電極(2)と第2の電極(5)との間に配置されている放電ギャップ(4)とを有しており、前記2つの電極のうちの少なくとも1つの電極(5)上の、放電ギャップ側に、誘電体(13)が配置されているガスレーザ装置において、前記放電ギャップ(4)内の放電分布に影響を与える、当該誘電体(13)の誘電厚d/εresは、前記誘電体(13)が上部に配置されている前記電極(5)の少なくとも1つのディメンジョンに沿って変化し、ここで、dは前記誘電体(13)の厚みであり、εresは前記誘電体(13)の、結果として生じる誘電率であり、前記誘電体の最も厚い箇所の厚さは少なくとも1mmである、または、電極の長さの100分の1を上回る、または、入力されるべき高周波電力の周波数によって決まる波長の1000分の1を上回る。
Abstract translation: 扩散的冷却系统的气体激光装置(1),所述气体激光装置(1)包括第一电极(2),和第二电极(5),所述第一电极(2)和第二 (5)具有一个设置在该放电间隙(4),所述至少在两个电极的电极中的一个之间的电极(5),所述放电间隙侧,电介质(13 )在气体激光装置被布置成影响的在介电厚度d的放电间隙(4)的排出分布/电介质(13)的εres,所述电介质(13)被布置在上 和电极(5)沿着至少一个维度而变化,其,其中,d为介电(13)的厚度的,Ipushironres是电介质(13),产生的介电常数的 还有,电介质的最厚部分的厚度为至少1毫米,或电极的长度大于1%,或者,要输入的高频电力的周 比由数目所确定的波长的千分之一。
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公开(公告)号:JP5611401B2
公开(公告)日:2014-10-22
申请号:JP2013075818
申请日:2013-04-01
Applicant: トルンプフ レーザー− ウント ジュステームテヒニク ゲゼルシャフトミット ベシュレンクテル ハフツングTRUMPF Laser− und Systemtechnik GmbH , トルンプフ レーザー− ウント ジュステームテヒニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングTRUMPF Laser− und Systemtechnik GmbH
Inventor: シュルツ ヨアヒム , シュルツ ヨアヒム , ミュラー オリヴァー , ミュラー オリヴァー
CPC classification number: H01S3/10038 , H01S3/034 , H01S3/076 , H01S3/10015 , H01S3/2232
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4.
公开(公告)号:JP2015514329A
公开(公告)日:2015-05-18
申请号:JP2015504895
申请日:2013-03-25
Applicant: トルンプフ レーザー− ウント ジュステームテヒニク ゲゼルシャフトミット ベシュレンクテル ハフツングTRUMPF Laser− und Systemtechnik GmbH , トルンプフ レーザー− ウント ジュステームテヒニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングTRUMPF Laser− und Systemtechnik GmbH
Inventor: ベーヴァー トーマス , ベーヴァー トーマス , ドーベリッチュ ヨヘン , ドーベリッチュ ヨヘン , レーア アンドレアス , レーア アンドレアス , ティーフェンターラー マヌエル , ティーフェンターラー マヌエル
IPC: H01S3/041
CPC classification number: H01S3/0407 , H01S3/036 , H01S3/041 , H01S3/076 , H01S3/2232
Abstract: 本発明は、ガスレーザ用のレーザガスを冷却する冷却装置(16)に関する。冷却装置(16)は、第1冷却循環路(21)と、第1循環路とは独立した第2冷却循環路(22)を含み、第1冷却循環路(21)は、第1冷却装置(17)と、ブロワ(11)からガスレーザの共振器(2)へ流れるレーザガスを冷却する少なくとも1つの第1熱交換器(26)を備え、第2冷却循環路(22)は、第2冷却装置(18)と、共振器(2)からブロワ(11)へ流れるレーザガスを冷却する少なくとも1つの第2熱交換器(27)を備える。冷却装置(16)において第2冷却循環路(22)は、ブロワ(11)から共振器(2)へ流れるレーザガスを付加的に冷却するため、少なくとも1つの別の熱交換器(28)を有する。本発明はさらに、この種の冷却装置(16)を備えたガスレーザ、並びにガスレーザ用のレーザガスを冷却するための対応する方法にも関する。
Abstract translation: 本发明涉及一种冷却装置,用于冷却激光气体用于气体激光器(16)。 冷却装置(16)包括第一冷却回路(21),并且所述第一循环路径包括与第二冷却回路和第(22)独立地,所述第一冷却回路(21)包括第一冷却装置 和(17),包括从所述气体激光谐振器(2),用于冷却流入到(26)的激光气体,第二冷却回路(22)的至少一个第一热交换器,所述第二冷却的鼓风机(11) 包括装置(18),谐振器(2),用于从(27)冷却流向送风机(11)的激光气体的至少一个第二热交换器。 在冷却装置中的第二冷却回路(16)(22)具有以另外冷却从所述鼓风机(11)的阀腔(2),至少一个另外的热交换器中流动的激光气体(28) 。 本发明还提供了一种具有这种冷却装置(16)的气体激光器,以及用于冷却所述激光气体的气体激光涉及一种相应的方法。
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公开(公告)号:JP2016529108A
公开(公告)日:2016-09-23
申请号:JP2016537149
申请日:2014-07-16
Applicant: トルンプフ レーザー− ウント ジュステームテヒニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングTRUMPF Laser− und Systemtechnik GmbH , トルンプフ レーザー− ウント ジュステームテヒニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングTRUMPF Laser− und Systemtechnik GmbH
Inventor: ハーゲンロッハー トビアス , ハーゲンロッハー トビアス , ヴァーデーン ヴォルフ , ヴァーデーン ヴォルフ
IPC: B23K26/00 , B23K26/03 , B23K26/382
CPC classification number: B23K26/03 , B23K26/042 , B23K26/0884 , G05B19/402 , G05B2219/45165
Abstract: 複数の移動軸に沿って移動可能に支承された、レーザ加工機械(1)のレーザ加工ヘッド(2)の実際位置が、このレーザ加工ヘッド(2)の目標位置と等しいかまたはこれから偏差しているかを確定する本発明の方法には、以下のステップが含まれる。すなわち、a)レーザ加工ヘッド(2)から送出されるレーザビーム(4)が、レーザ加工機械(1)に固定された被加工物(3)の同じ目標ポジションを向く、レーザ加工ヘッド(2)の少なくとも2つの異なる加工位置(x1,y1,z1,b1,c1,x2,y2,z2,b2,c2)を選択するステップと、b)選択した第1加工位置(x1,y1,z1,b1,c1)にレーザ加工ヘッド(2)を移動し、レーザビーム(4)を用い、被加工物(3)の目標ポジションまたはこの目標ポジションの周りで被加工物(3)に開口部(7)を穿孔するステップと、c)選択した別の第2加工位置(x2,y2,z2,b2,c2)にレーザ加工ヘッド(2)を移動して、レーザビーム(4)と被加工物(3)との間の相互作用によって形成される放射を検出するステップとを有しており、レーザ加工ヘッド(2)の実際位置は、放射が検出されない場合には、開口部(7)の寸法と、レーザ加工ヘッド(2)の2つの加工位置とに依存する値よりも小さい値でその目標位置から偏差しているか、または、放射が検出される場合には、この値よりも大きい値で偏差している。
Abstract translation: 沿着多个移动轴可移动地支撑,所述激光加工机(1)的激光加工头(2)的等于实际位置和或偏离该激光加工头的目标位置(2) 本发明的方法来确定海豚,包括以下步骤。 从激光加工头发送的,一)的激光束(2)(4),定向在其被固定到所述激光加工机(1工件的同一目标位置)(3),激光加工头(2) 在选择的至少两个不同的工作位置(X1,Y1,Z1,B1,C1,X2,Y2,Z2,B2,C2),b)第一加工位置选择(X1,Y1,Z1,B1 移动在C1中的激光加工头(2)),利用激光束(4),所述工件(3目标位置或周围的目标位置的工件)(3)在开口(7) 包括钻出的步骤,c)中的不同的第二处理位置选择(X2,Y2,Z2,B2,通过移动激光加工头(2)至C2),所述激光束(4)和所述工件(3 )具有检测由交互激光加工头(2),当未检测到辐射时的实际位置之间形成辐射的步骤中,所述开口的尺寸(7) 中,两个激光加工头(2)的 如果它们从目标位置偏离以比所述加工位置与所述依赖的值小的值,或者如果检测到的辐射是与比该值大的值的错误。
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6.透明の、ガラス状の、ガラス質の、セラミックのかつ/又は結晶質の層を有する板状のワークピースを加工する方法、並びにこのようなワークピース用の分離装置、並びにこのようなワークピースから成る製品 审中-公开
Title translation: 透明的,玻璃状,玻璃体,用于处理具有陶瓷和/或结晶的层的板状工件的工件的方法,以及这样的分离装置,以及从这样的工件 产品,其包括公开(公告)号:JP2016534008A
公开(公告)日:2016-11-04
申请号:JP2016532240
申请日:2013-08-07
Applicant: トルンプフ レーザー− ウント ジュステームテヒニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングTRUMPF Laser− und Systemtechnik GmbH , トルンプフ レーザー− ウント ジュステームテヒニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングTRUMPF Laser− und Systemtechnik GmbH
CPC classification number: C03B33/0222 , B23K26/0838 , B23K26/364 , B23K26/40 , B23K2203/50 , B23K2203/52 , B28D1/221 , C03B33/033 , C03C15/00 , H01J9/20
Abstract: 透明の、ガラス状の、ガラス質の、セラミックのかつ/又は結晶質の層(2)を有する板状のワークピースを加工する方法、特に、ディスプレイ用パネル製造用の板状のワークピースを加工する方法が記載される。前記板状のワークピースから複数の部分片(17)を残りのワークピースからまずは不完全に分離する。このとき、前記部分片(17)の外輪郭(22)に沿って、層厚さ方向で少なくとも前記1つの層(2)を貫通する複数の孔(23)が設けられ、前記部分片(17)は少なくとも前記1つの層(2)でそれぞれ少なくとも1つのウェブ状の残留接続部(24)によって前記残りのワークピースに結合されたままである。その後初めて、前記部分片(17)を、前記ウェブ状の残留接続部(24)を分離することにより個別化する。さらに、分離装置(4)、並びに、透明の、ガラス状の、ガラス質の、セラミックのかつ/又は結晶質の層(2)を有する板状のワークピースから成る製品が記載される。
Abstract translation: 透明的,玻璃状,玻璃体,处理具有结晶层(2)陶瓷和/或板状的工件,特别是,用于加工面板生产用于显示的板状工件的方法 如何将其描述。 第一不完全分离的多个从板状工件的工件的其余部分件(17)的。 此时,沿着所述臂的组分(17)的外轮廓(22),多个通孔中的至少所述一个层在层厚度方向上,部分片提供(2)(23)(17 )保持联接到由所述工件的其余部分的至少所述一个层(2)至少一个残余连接部分的分别幅材(24)。 只有这样,该部分件(17),通过分离残余连接(24)的腹板个体化。 此外,所述分离装置(4),以及透明的,玻璃状,玻璃体,该产品被描述,其包括具有结晶层的陶瓷和/或板状的工件(2)。
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公开(公告)号:JP2013214746A
公开(公告)日:2013-10-17
申请号:JP2013075818
申请日:2013-04-01
Applicant: Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh , トルンプフ レーザー− ウント ジュステームテヒニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングTRUMPF Laser− und Systemtechnik GmbH
Inventor: SCHULZ JOACHIM , OLIVER MUELLER
CPC classification number: H01S3/10038 , H01S3/034 , H01S3/076 , H01S3/10015 , H01S3/2232
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device for amplifying a laser beam having an especially simple structure, which can be configured compactly while decreasing the number of components.SOLUTION: A device 21 for amplifying a laser beam 10 includes at least one amplification chamber 22 internally containing a laser active material, at least one permeable optical element 23 for limiting at least one amplification chamber 22, disposed to form a predetermined inclination angle α for a plane set in a direction perpendicular to the optical axis 26 of the laser beam 10, and a detection unit 24 disposed to detect a laser beam 27 reflected on the permeable optical element 23 and returning therefrom.
Abstract translation: 要解决的问题:提供一种用于放大具有特别简单结构的激光束的装置,其可以在减少部件数量的同时紧凑地构造。解决方案:用于放大激光束10的装置21包括至少一个放大室22 内部包含激光活性材料,至少一个用于限制至少一个放大室22的可渗透光学元件23,其设置成对垂直于激光束10的光轴26的方向设置的平面形成预定的倾斜角α, 以及检测单元24,其设置为检测在可渗透光学元件23上反射并从其返回的激光束27。
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8.
公开(公告)号:JP2015521781A
公开(公告)日:2015-07-30
申请号:JP2015516546
申请日:2013-05-29
Applicant: トルンプフ レーザー− ウント ジュステームテヒニク ゲゼルシャフトミット ベシュレンクテル ハフツングTRUMPF Laser− und Systemtechnik GmbH , トルンプフ レーザー− ウント ジュステームテヒニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングTRUMPF Laser− und Systemtechnik GmbH
Inventor: ランベアト マーティン , ランベアト マーティン , シュルツ ヨアヒム , シュルツ ヨアヒム
CPC classification number: G21K5/04 , B23K26/0676 , H01S3/005 , H01S3/2391 , H05G2/005 , H05G2/008
Abstract: 本発明によるEUV励起光源(1)は、少なくとも1つのレーザービーム(10,12)を放射するための少なくとも1つのレーザービーム光源(9,9′)と、前記少なくとも1つのレーザービーム(10,12)を操作するためのビーム案内装置(22)とを備え、前記ビーム案内装置(22)は、前記少なくとも1つのレーザービーム(10,12)から少なくとも2つの分離ビーム(10′,11,12′,13)を生成するための少なくとも1つのビームスプリッタ(2)と、前記分離ビーム(10′,11,12′,13)のうちの少なくとも1つを操作するための、少なくとも1つのミラー(4,5,15,16,17,18)若しくは少なくとも1つのレンズと、少なくとも2つの分離ビーム(10″,11′″,12″,13′″)を重畳するための重畳ミラー(3)と、前記少なくとも2つの分離ビーム(10″,11′″,12″,13′″)の各焦点を生成するための集束装置(6)とを有している。
Abstract translation: 根据本发明的EUV激励光源(1),至少一个激光束源,用于发射至少一个激光束(10,12)(9,9“),所述至少一个激光束(10,12 )和一个光束用于操作(22)引导装置,所述光束导向装置(22),从所述至少一个激光束(10,12)(10的至少两个分离的光束”,11,12' 和至少一个分束器(2)用于生产13),所述分离的光束(10”,11,12' ,用于操作13的至少一个),至少一个反射镜(4 ,5,15,16,17,18)或至少一个透镜,至少两个单独的光束(10“ 11' ”,12' ,13‘’和用于叠加一个叠加反射镜)(3), 它在所述至少两个分离的光束(10“ 11' ”,12' ,13‘’)具有焦点聚焦装置,用于生成的(6)。
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公开(公告)号:TW201347329A
公开(公告)日:2013-11-16
申请号:TW102109646
申请日:2013-03-19
Applicant: 創浦雷射與系統科技有限公司 , TRUMPF LASER-UND SYSTEMTECHNIK GMBH
Inventor: 休茲 喬哈勤 , SCHULZ, JOACHIM , 穆勒 奧利佛 , MUELLER, OLIVER
CPC classification number: H01S3/10038 , H01S3/034 , H01S3/076 , H01S3/10015 , H01S3/2232
Abstract: 本發明提供一種用於放大一雷射光束(10)之裝置(21)。該裝置(21)包含至少一其中提供有一雷射活性材料之放大腔體(22)、至少一界定該放大腔體(22)且被設置於相對於一平面具傾斜角(α)之透射光學部件(23),其中該平面係對於該雷射光束(10)之一光學軸(26)為水平定位者,及至少一偵測單元(24)。該雷射光束(10)藉由該透射光學部件被反射成一背向反射雷射光束(27),及該偵測單元(24)被設置使得其偵測該背向反射雷射光束(27)。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种用于放大一激光光束(10)之设备(21)。该设备(21)包含至少一其中提供有一激光活性材料之放大腔体(22)、至少一界定该放大腔体(22)且被设置于相对于一平面具倾斜角(α)之透射光学部件(23),其中该平面系对于该激光光束(10)之一光学轴(26)为水平定位者,及至少一侦测单元(24)。该激光光束(10)借由该透射光学部件被反射成一背向反射激光光束(27),及该侦测单元(24)被设置使得其侦测该背向反射激光光束(27)。
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10.用於光束成形的光學系統、雷射處理設備、雷射光束之光束成形的方法、雷射材料處理的方法、光束外形應用於雷射材料處理的用途 有权
Simplified title: 用于光束成形的光学系统、激光处理设备、激光光束之光束成形的方法、激光材料处理的方法、光束外形应用于激光材料处理的用途公开(公告)号:TWI595265B
公开(公告)日:2017-08-11
申请号:TW104137861
申请日:2015-11-17
Applicant: 創浦雷射與系統科技有限公司 , TRUMPF LASER-UND SYSTEMTECHNIK GMBH
Inventor: 庫卡 馬特 , KUMKAR, MALTE , 克萊納 瓊那斯 , KLEINER, JONAS , 葛羅斯曼 丹尼爾 , GROSSMANN, DANIEL , 富蘭 丹尼爾 , FLAMM, DANIEL , 凱瑟 馬里亞姆 , KAISER, MYRIAM
IPC: G02B27/09 , B23K26/064
CPC classification number: B23K26/064 , B23K26/0057 , B23K26/53 , B23K2203/54 , G02B5/1871 , G02B27/0927 , G02B27/0944
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