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公开(公告)号：WO2009125745A1
公开(公告)日：2009-10-15
申请号：PCT/JP2009/057064
申请日：2009-04-06
Applicant: ギガフォトン株式会社 , 永井 伸治 , 吉田 文香 , 若林 理 , 柿崎 弘司
IPC: H01S3/034 , G02B5/30 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: H01S3/034 , G02B1/02 , G02B5/3091 , H01S3/0346 , H01S3/08054 , H01S3/0816 , H01S3/225 , H01S3/2251
Abstract: 機械応力（ウインドウホルダやレーザガス圧力）及び光の吸収による熱応力等により破損する現象を低減し、出力レーザの直線偏光度を高くすると共に、強い紫外線（特にＡｒＦ）レーザ光照射による劣化を抑制するフッ化カルシウム結晶を用いたガス放電チャンバを提供する。ガス放電チャンバの第１ウィンドウ（２）及び第２ウィンドウ（３）は、入射平面及び射出平面がフッ化カルシウム結晶の（１１１）結晶面に平行であり、チャンバ（１）内部から見て、フッ化カルシウム結晶内に入射したレーザ光が、第１ウィンドウ（２）及び第２ウィンドウ（３）それぞれの＜１１１＞軸と＜００１＞軸を含む面を通過する配置に対して、第１ウィンドウ（２）及び第２ウィンドウ（３）は、＜１１１＞軸を中心として同じ角度回転した位置に設置されることを特徴とする。
Abstract translation: 公开了一种使用氟化钙晶体的气体放电室，减少了机械应力（窗口支架或激光气体压力）的损伤和光吸收的热应力，增加了输出激光器的线性极化，并抑制了强烈的紫外线 （特别是ArF）激光照射。 气体放电室的第一窗口（2）和第二窗口（3）的入射面和出射面与氟化钙晶体的（111）晶面平行。 对于进入氟化钙晶体内部的激光穿过包括第一窗口（2）和第二窗口（3）的<111>轴和<001>轴的平面的布置，从内部观察 （1），第一窗口（2）和第二窗口（3）设置在以<111>轴为中心的相同角度旋转的位置。
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公开(公告)号：WO2004095661A1
公开(公告)日：2004-11-04
申请号：PCT/JP2004/005490
申请日：2004-04-16
IPC: H01S3/23
CPC classification number: H01S3/2308 , G03F7/70025 , H01S3/083
Abstract: 本発明は、ＭＯＰＯ方式の高安定性、高出力効率、細い線幅である利点を活かしつつ、空間コヒ−レンスを低くした半導体露光装置用に適した２ステ−ジレ−ザ装置に関するものであり、発振段レ−ザ（５０）と増幅段レ−ザ（６０）とからなる露光用２ステ−ジレ−ザ装置であって、発振段レ−ザ（５０）として発振レ−ザ光に発散を有するものが用いられ、増幅段レ−ザ（６０）は入力側ミラ−（１）と出力側ミラ−（２）とからなるファブリペロ−エタロン型共振器を備え、その共振器は安定共振器を構成している。
Abstract translation: 提供了适用于具有高稳定性，高输出效率和MOPO方法的窄线宽度以及低空间相干性的半导体曝光装置的2级激光装置。 用于曝光的2级激光器件包括振荡级激光器（50）和放大级激光器（60）。 振荡台激光器（50）振荡具有发散的激光束。 放大级激光器（60）包括由输入侧反射镜（1）和输出侧反射镜（2）组成的法布里 - 珀罗标准具共振器，谐振器构成稳定的谐振器。
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公开(公告)号：WO2005015699A1
公开(公告)日：2005-02-17
申请号：PCT/JP2004/011434
申请日：2004-08-09
Applicant: ギガフォトン株式会社 , 有我 達也 , 若林 理 , 柿崎 弘司
IPC: H01S3/134
CPC classification number: G03F7/70041 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/10007 , H01S3/104 , H01S3/1301 , H01S3/134
Abstract: 発振用レーザ１００のパルスエネルギーＰoscが増幅飽和領域の下限エネルギーＥs0以上になるように、発振用レーザ１００の発振用高電圧パルス発生器１２に設けられた主コンデンサＣ0への充電電圧Ｖoscを一定制御する。そして、増幅用レーザ３００の増幅用高電圧パルス発生器３２に設けられた主コンデンサＣ0への充電電圧Ｖampを制御し、増幅用レーザ３００のパルスエネルギーＰampを目標エネルギーＰatgtにする。こうして２ステージレーザのパルスエネルギー制御を行いパルスエネルギーを安定させる。
Abstract translation: 被控制为恒定值的充电电压Vosc被提供给布置在用于振荡振荡激光器（100）的高电压脉冲发生器（12）中的主电容器C0，使得振荡激光器（100）的脉冲能量Posc不是 小于放大饱和区域的下限能量Es0。 此外，通过控制提供给布置在用于放大放大激光器（300）的高压脉冲发生器（32）中的主电容器C0的充电电压Vamp，将放大激光器（300）的脉冲能量Pamp设定为目标 能源公司 因此，通过进行两级激光脉冲能量控制，能够稳定脉冲能量。
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公开(公告)号：JPWO2019069397A1
公开(公告)日：2020-11-19
申请号：JP2017036130
申请日：2017-10-04
Applicant: ギガフォトン株式会社
IPC: B23K26/046 , B23K26/53 , C03B33/09
Abstract: 紫外線のパルスレーザ光を出力するレーザ装置と、パルスレーザ光を透過する転写パターンが形成された転写マスクと、パルスレーザ光が転写パターンを透過することによって形成され転写パターンに応じた形状の転写像を転写する転写光学系とを備えたレーザ加工システムを用いて、紫外線に対して透明な透明材料に対してレーザ加工を施すレーザ加工方法は、以下のステップを備える:A.パルスレーザ光の光軸方向において、転写光学系によって転写される転写像の転写位置と、透明材料との相対的な位置決めを行う位置決めステップであって、転写位置が、光軸方向において透明材料の表面から所定の深さΔZsfだけ透明材料の内部に進入した位置となるように位置決めを行う位置決めステップ;B.パルス幅が1〜100nsの範囲であって、かつ、転写位置でのビームの直径が10μm以上150μm以下のパルスレーザ光を透明材料に照射する照射ステップ。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JPWO2018100638A1
公开(公告)日：2019-10-17
申请号：JP2016085410
申请日：2016-11-29
Applicant: ギガフォトン株式会社
Abstract: レーザ加工システムは、酸素が光吸収する波長である吸収ラインと、吸収ラインより酸素による光吸収量が少ない波長である非吸収ラインのそれぞれのレーザ光を出力する波長可変レーザ装置と、被加工物にレーザ光を照射する光学システムと、波長可変レーザ装置を制御するレーザ制御部であって、酸素を含むガス中において被加工物の表面をレーザ加工する際に、波長可変レーザ装置が出力するレーザ光の波長を非吸収ラインに設定し、かつ、酸素を含むガス中において被加工物の表面をオゾン洗浄する際に、波長可変レーザ装置が出力するレーザ光の波長を吸収ラインに設定するレーザ制御部と、を備えている。
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公开(公告)号：JP2019145810A
公开(公告)日：2019-08-29
申请号：JP2019069773
申请日：2019-04-01
Applicant: 国立大学法人九州大学 , ギガフォトン株式会社
IPC: H01L21/22 , H01L21/268 , H01L21/228
Abstract: 【課題】SiC、ダイヤモンド、GaN等のようなパワーデバイスに使用される半導体材料に電気的特性の低下を抑制し、充分なドーピング深さを達成する。 【解決手段】半導体材料の所定領域にパルスレーザ光を照射してドーピングを行うレーザドーピング装置において、所定領域に、ドーパントを含む溶液を供給する溶液供給システム46と、ドーパントを含む溶液を透過するパルスレーザ光を出力する少なくとも1つのレーザ装置2と、パルスレーザ光のパルス時間波形を調節するパルス時間波形調節装置と、を含む。 【選択図】図2
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公开(公告)号：JP6434404B2
公开(公告)日：2018-12-05
申请号：JP2015522866
申请日：2014-06-12
Applicant: ギガフォトン株式会社
CPC classification number: H05G2/008 , G03F7/2006 , G03F7/70033 , H05G2/006
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公开(公告)号：JPWO2017134745A1
公开(公告)日：2018-11-22
申请号：JP2016053068
申请日：2016-02-02
Applicant: ギガフォトン株式会社
IPC: H01S3/137
CPC classification number: H01S3/11 , H01S3/034 , H01S3/038 , H01S3/08009 , H01S3/134 , H01S3/137 , H01S3/2207 , H01S3/2222
Abstract: 狭帯域化レーザ装置は、第1のバースト発振と、第1のバースト発振の次に行われる第2のバースト発振と、を含む複数回のバースト発振を行ってパルスレーザ光を出力する狭帯域化レーザ装置であって、レーザ共振器と、レーザ共振器の間に配置されたチャンバと、チャンバに配置された一対の電極と、一対の電極にパルス電圧を印加する電源と、レーザ共振器に配置された波長選択素子と、レーザ共振器に配置されたスペクトル幅可変部と、波長選択素子の選択波長を変更する波長可変部と、第1のバースト発振が終了した時から第2のバースト発振が開始される時までの間のスペクトル幅可変部の制御量に基づいて、波長可変部を制御する制御部と、を備えてもよい。
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公开(公告)号：JP6381520B2
公开(公告)日：2018-08-29
申请号：JP2015506552
申请日：2013-12-10
Applicant: ギガフォトン株式会社
CPC classification number: H05G2/008 , G03F7/70033 , G03F7/7085 , G21K1/067 , H05G2/003 , H05G2/005
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