公开(公告)号：WO2003023775A1

公开(公告)日：2003-03-20

申请号：PCT/JP2002/008942

申请日：2002-09-03

Applicant: ソニー株式会社 ,  今西 慎悟 ,  黒臼 朝男 ,  豊川 満 ,  荒川 宣之

Inventor： 今西 慎悟 ,  黒臼 朝男 ,  豊川 満 ,  荒川 宣之

IPC: G11B7/26

CPC classification number: G11B7/261 ,  G11B7/263

Abstract: A method for manufacturing an original disk used for manufacturing an optical disk. Uneven pattern is formed on a photoresist layer by exposing and developing the photoresist layer provided on a substrate, the photoresist layer with the uneven pattern formed thereon is irradiated with ultraviolet rays, and then, irradiated with infrared rays after irradiation of ultraviolet rays on the photoresist layer.

Abstract translation: 一种用于制造用于制造光盘的原盘的方法。 通过曝光和显影设置在基板上的光致抗蚀剂层，在光致抗蚀剂层上形成不均匀图案，在其上形成有不均匀图案的光致抗蚀剂层用紫外线照射，然后在紫外线照射后在光致抗蚀剂上照射红外线 层。

公开(公告)号：JP6299600B2

公开(公告)日：2018-03-28

申请号：JP2014541992

申请日：2013-08-30

Applicant: ソニー株式会社

Inventor： 竹内 太一 ,  今西 慎悟

IPC: G01N21/53 ,  G01N21/21 ,  G01N21/64 ,  G01N15/14

CPC classification number: G01N15/1436 ,  G01N15/1429 ,  G01N15/1434 ,  G01N15/1459 ,  G01N21/21 ,  G01N21/47 ,  G01N21/49 ,  G01N21/53 ,  G01N21/645 ,  G01N2015/0065 ,  G01N2015/1006 ,  G01N2021/6478 ,  G01N2201/06113 ,  G01N2201/0638 ,  G01N2201/0683

公开(公告)号：JP6206404B2

公开(公告)日：2017-10-04

申请号：JP2014519863

申请日：2013-04-03

Applicant: ソニー株式会社

Inventor： 新田 尚 ,  今西 慎悟 ,  竹内 太一

IPC: G01N15/14

CPC classification number: G01N21/64 ,  G01B21/00 ,  G01N15/1429 ,  G01N15/1459 ,  G01N2015/1006 ,  G01N2015/1415 ,  G01N21/05 ,  G01N21/21 ,  G01N21/53 ,  G01N21/645

公开(公告)号：JP2018025559A

公开(公告)日：2018-02-15

申请号：JP2017172191

申请日：2017-09-07

Applicant: ソニー株式会社

Inventor： 新田 尚 ,  今西 慎悟 ,  竹内 太一

IPC: G01N15/14

CPC classification number: G01N21/64 ,  G01B21/00 ,  G01N15/1429 ,  G01N15/1459 ,  G01N21/05 ,  G01N21/21 ,  G01N21/53 ,  G01N21/645 ,  G01N2015/1006 ,  G01N2015/1415

Abstract: 【課題】微小粒子の流路内の通流位置のばらつきによって生じる測定誤差を効果的に補正して、蛍光及び散乱光の強度及びスペクトルを高精度に測定することが可能な技術を提供する。 【解決手段】流路Cを通流する微小粒子Pに光1を照射して微小粒子から発生する光を検出可能で、光の強度情報を取得する強度検出手順と、微小粒子の位置情報を取得可能な位置検出手順と、位置情報に基づいて強度情報を補正するデータ補正手順を有する。データ補正方法は、位置検出手順において、微小粒子から発生する散乱光から分離され、非点収差を与えられたS偏光成分5を検出器51により受光し、該検出器におけるS偏光成分の受光位置を位置情報として取得する。 【選択図】図1

公开(公告)号：JP2021076451A

公开(公告)日：2021-05-20

申请号：JP2019202585

申请日：2019-11-07

Applicant: ソニー株式会社

Inventor： 畠山 丈司 ,  今西 慎悟 ,  岡本 好喜

IPC: G01N21/27 ,  G02B21/00 ,  G01N15/14

Abstract: 【課題】被検物から対物レンズまでの光路で発生する球面収差を補正する。 【解決手段】検出光学系は、光源によって照らされる被検物からの光の光路に沿って、被検物側から順に配置される、対物レンズと、第1リレーレンズと、第2リレーレンズと、結像レンズと、を備える。第1リレーレンズと第2リレーレンズとの間の光路上には一次結像面が設けられる。第2リレーレンズと結像レンズとの間に位置する、対物レンズの瞳位置と略共役となる位置には、球面収差を補正する非球面補正板が配置される。 【選択図】図2

公开(公告)号：JP6428883B2

公开(公告)日：2018-11-28

申请号：JP2017172191

申请日：2017-09-07

Applicant: ソニー株式会社

Inventor： 新田 尚 ,  今西 慎悟 ,  竹内 太一

IPC: G01N15/14

CPC classification number: G01N21/64 ,  G01B21/00 ,  G01N15/1429 ,  G01N15/1459 ,  G01N21/05 ,  G01N21/21 ,  G01N21/53 ,  G01N21/645 ,  G01N2015/1006 ,  G01N2015/1415

公开(公告)号：JP5720233B2

公开(公告)日：2015-05-20

申请号：JP2010282167

申请日：2010-12-17

Applicant: ソニー株式会社

Inventor： 伊藤 達巳 ,  角田 正也 ,  今西 慎悟 ,  新田 尚 ,  二村 孝治 ,  高清水 亨 ,  芦崎 浩二 ,  古木 基裕

IPC: G01N15/14

CPC classification number: B01L3/502776 ,  B01L3/502761 ,  B01L2200/0652 ,  B01L2200/0668 ,  B01L2300/0816 ,  B01L2300/0864 ,  B01L2300/0867 ,  B01L2400/0418 ,  B01L2400/0439 ,  B01L2400/049 ,  B01L2400/0622 ,  G01N15/1484 ,  G01N2015/1409