反応管の洗浄方法、半導体装置の製造方法、及び基板処理装置

    公开(公告)号:JP2021118226A

    公开(公告)日:2021-08-10

    申请号:JP2020009396

    申请日:2020-01-23

    Abstract: 【課題】フッ素化合物を含む薬液による洗浄を行っても、フッ素化合物の反応管の内周面への残留を抑制する技術を提供する。 【解決手段】反応管をアニールする第1アニール工程、前記第1アニール工程後の前記反応管の内周面を、第1濃度のフッ素化合物を含む液で洗浄する第1洗浄工程、及び、前記第1洗浄工程で用いた前記フッ素化合物を純水により洗い流す第1リンス工程を有し、且つ、前記第1リンス工程を1回以上行うサイクルを1サイクルとして、該1サイクルを1回又は複数回行う工程と、反応管をアニールする第2アニール工程と、該第2アニール工程後の反応管の内周面を、第1濃度よりも高い第2濃度のフッ素化合物を含む液体で洗浄する第2洗浄工程と、該第2洗浄工程で用いたフッ素化合物を純水により洗い流す第2リンス工程と、を有し、該第2リンス工程を2回以上行う、技術が提供される。 【選択図】図1

    熱反射部材及び熱反射層付きガラス部材の製造方法

    公开(公告)号:JP2021054679A

    公开(公告)日:2021-04-08

    申请号:JP2019179740

    申请日:2019-09-30

    Abstract: 【課題】高い反射率を維持しながら、製作時および使用時の高温環境でも破損せず、使用時にダスト発生がなく、薬液による洗浄が可能な熱反射部材、及び該熱反射部材として好適な熱反射層付きガラス部材の製造方法を提供する。 【解決手段】シリカ質焼結粉体層の上面及び下面に石英ガラス層が形成されてなる積層構造を有する熱反射部材であり、前記熱反射部材の端部の前記シリカ質焼結粉体層部分に、少なくとも該シリカ質焼結粉体層の1/2の厚みより厚い、気体又は液体を浸透しない非透過層と、該非透過層と該シリカ質焼結粉体層の間に、非透過層から焼結体粉体層に向かって密度が変化する緩衝層と、を有するようにした。 【選択図】図1

    反射部材及びガラス積層部材の製造方法

    公开(公告)号:JP2021042114A

    公开(公告)日:2021-03-18

    申请号:JP2019167467

    申请日:2019-09-13

    Abstract: 【課題】使用時にダスト発生がなく、破壊強度が大きく、高い反射率を維持しながら、製作時および使用時の高温環境でも破損を防ぐことができる反射部材、及び該反射部材として好適なガラス積層部材の製造方法を提供する。 【解決手段】不透明シリカ質焼結粉体層の上面及び下面に透明石英ガラス部材が形成されてなる積層構造を有する反射部材であり、前記不透明シリカ質焼結粉体層の厚さが0.1mm以上であり、膜厚の分布が±0.05mm以下であり、前記積層構造の上面及び下面の透明石英ガラス部材に、積層構造と平行な方向で荷重をかけた時、破壊する荷重が1cm 2 あたり5N以上であり、前記積層構造の、不透明シリカ質焼結粉体層と透明石英ガラス部材の境目において、両者の中間の不透明度となる半透明度部分の幅が0.01mm以下であるようにした。 【選択図】図1

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