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    ペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物の製造方法、及び新規なペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物
    1.
    发明申请
    ペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物の製造方法、及び新規なペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物 审中-公开
    生产氟化芴基苯并噻唑化合物的方法和新型卟啉二苯并噻吩化合物

    公开(公告)号：WO2009028514A1

    公开(公告)日：2009-03-05

    申请号：PCT/JP2008/065218

    申请日：2008-08-26

    Applicant: 宇部興産株式会社 ,  西野 繁栄 ,  島 秀好 ,  小俣 洋治 ,  小田 広行

    Inventor： 西野 繁栄 ,  島 秀好 ,  小俣 洋治 ,  小田 広行

    IPC: C07C381/00 ,  C09K19/20 ,  C09K19/22 ,  C09K19/30

    CPC classification number: C09K19/2007 ,  C07C381/00 ,  C09K19/16 ,  C09K19/20 ,  C09K19/22 ,  C09K19/3048 ,  C09K19/3059 ,  C09K19/3066 ,  C09K19/3068

    Abstract: 　式（１）で表されるペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物と、Ｒ 1 ＯＨ、Ｒ 1 ＣＯＯＨ、Ｒ 1 ＨＣ＝ＣＨ 2 、Ｒ 1 Ｘ、Ｒ 1 Ｃ≡ＣＨ等（Ｒ 1 はアルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基等を示す）から選ばれる１種以上とを反応させる、式（３）で表されるペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物の工業的に有利な製造方法、及び新規なペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物である。 （式中、Ａは、ハロゲン原子、－ＯＨ、－ＣＯＯＨ、－ＨＣ＝ＣＨ 2 、－ＣＨ 2 Ｘ（Ｘは脱離性基）、－ＢＹ 2 （Ｙはヒドロキシ基等）等を示す。） （式中、Ｚは、－Ｏ－、－ＯＣＨ 2 －、－ＣＨ 2 Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＨＣ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－等の連結基を示し、ｎは０又は１である。）

    Abstract translation: 公开了一种商业上有利的制备由下式（3）表示的五氟硫烷基苯化合物的方法，其中由下式（1）表示的五氟硫烷基苯化合物与一种或多种选自R 1 OH，R 1 COOH，R 1 HC = CH 2，R 1 X ，R1C = CH（其中R1表示烷基，环烷基，芳烷基，芳基等）等。 还公开了一种新的五氟硫烷基苯化合物。 （1）（式中，A表示卤素原子，-OH，-COOH，-HC = CH2，-CH2X（其中X表示离去基团），-BY2（其中，Y表示羟基或 （3）（3）式中，Z表示-O-，-OCH 2 - ， - CH 2 O-，-COO-，-OCO-，-HC = CH- 和-C = C-，n表示0或1.）

    Ｎ，Ｎ’−ジアルコキシ−Ｎ，Ｎ’−ジアルキルオキサミドの製法
    2.
    发明申请
    Ｎ，Ｎ’−ジアルコキシ−Ｎ，Ｎ’−ジアルキルオキサミドの製法 审中-公开
    制备N，N'-二烷氧基-N，N'-二烷氧基酰胺的方法

    公开(公告)号：WO2005026108A1

    公开(公告)日：2005-03-24

    申请号：PCT/JP2004/013136

    申请日：2004-09-09

    Applicant: 宇部興産株式会社 ,  西野 繁栄 ,  敷田 庄司 ,  小俣 洋治

    Inventor： 西野 繁栄 ,  敷田 庄司 ,  小俣 洋治

    IPC: C07C259/06

    CPC classification number: C07C259/06

    Abstract: A method for producing N,N'-dialkoxy-N,N'-dialkyl oxamide represented by the general formula (3): wherein R and R are as defined below, is characterized in that an oxalate diester represented by the general formula (1): wherein R and R may be the same or different and respectively represent a hydrocarbon group, is reacted with N-alkyl-O-alkylhydroxylamine represented by the general formula (2): R O

    Abstract translation: 由通式（3）表示的制备N，N'-二烷氧基-N，N'-二烷基草酰胺的方法：其中R 2和R 3如下所定义，其特征在于草酸二酯表示 通式（1）表示：其中R 1和R 1'可以相同或不同并分别表示烃基，与由通式（2）表示的N-烷基-O-烷基羟胺反应， ：R 2 O

    ４－ハロカテコール化合物の製法
    4.
    发明申请
    ４－ハロカテコール化合物の製法 审中-公开
    生产4-卤代醇化合物的方法

    公开(公告)号：WO2007020964A1

    公开(公告)日：2007-02-22

    申请号：PCT/JP2006/316149

    申请日：2006-08-17

    Applicant: 宇部興産株式会社 ,  西野 繁栄 ,  中村 明 ,  小田 広行 ,  小俣 洋治

    Inventor： 西野 繁栄 ,  中村 明 ,  小田 広行 ,  小俣 洋治

    IPC: C07C41/22 ,  C07C43/225 ,  C07D317/62

    CPC classification number: C07C41/22 ,  C07C43/225 ,  C07D317/62

    Abstract: 　本発明は、カテコール化合物と、1,3-ジハロ-5,5-ジメチルヒダントインとを反応させることを特徴とする、4-ハロカテコール化合物の製法及びメチレンジオキシベンゼンの含有量が0.5質量％以下で、且つ4,5-ジクロロメチレンジオキシベンゼンの含有量が0.5質量％以下であることを特徴とする、高純度4-クロロメチレンジオキシベンゼン及びその製法に関する。

    Abstract translation: 公开了4-卤代儿茶酚化合物的制造方法，其特征在于，使儿茶酚化合物与1,3-二卤代-5,5-二甲基乙内酰脲反应。 还公开了高纯度4-氯亚甲基二氧基苯，其特征在于亚甲二氧基苯含量不超过0.5质量％，4,5-二氯亚甲二氧基苯含量不超过0.5质量％，以及制备这种 高纯度4-氯亚甲二氧基苯。

    2−メチルスピロ(1,3−オキサチオラン−5,3’)キヌクリジン硫酸塩の製造方法
    9.
    发明专利
    2−メチルスピロ(1,3−オキサチオラン−5,3’)キヌクリジン硫酸塩の製造方法 审中-公开

    公开(公告)号：JP2019052093A

    公开(公告)日：2019-04-04

    申请号：JP2016016881

    申请日：2016-02-01

    Applicant: 宇部興産株式会社

    Inventor： 島 秀好 ,  小俣 洋治 ,  山本 康仁 ,  高間 昭 ,  米田 康洋

    IPC: C07D497/20

    Abstract: 【課題】 本発明の課題は、3−ヒドロキシ−3−メルカプトメチルキヌクリジンから、異性体の分別や異性化工程を必要とすることなく、高い異性体比率(シス/トランス)で2−メチルスピロ(1,3−オキサチオラン−5,3’)キヌクリジン硫酸塩を得る方法を提供するものである。 【解決手段】 本発明の課題は、 金属ハロゲン化物及びアセトアルデヒド化合物を混合した後に、3−ヒドロキシ−3−メルカプトメチルキヌクリジンを更に混合して反応させて、遊離の2−メチルスピロ(1,3−オキサチオラン−5,3’)キヌクリジンを得る工程と、 前記遊離の2−メチルスピロ(1,3−オキサチオラン−5,3’)キヌクリジン(2)と硫酸とを−5〜45℃で接触させて、2−メチルスピロ(1,3−オキサチオラン−5,3’)キヌクリジン硫酸塩に変換する工程とを含む、 2−メチルスピロ(1,3−オキサチオラン−5,3’)キヌクリジン硫酸塩の製造方法によって解決される。 【選択図】 なし

    高純度ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物及びその製造方法
    10.
    发明专利
    高純度ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物及びその製造方法 审中-公开
    高纯度二羟基双酚二吖啶化合物及其制备方法

    公开(公告)号：JP2015163601A

    公开(公告)日：2015-09-10

    申请号：JP2015013861

    申请日：2015-01-28

    Applicant: 宇部興産株式会社

    Inventor： 米田 康洋 ,  小俣 洋治 ,  島 秀好 ,  島野 哲郎

    IPC: H01L51/40 ,  H01L51/30 ,  C07D513/04

    Abstract: 【課題】有機半導体材料の合成中間体として使用可能な程十分高純度なジハロゲノベンゾビスチアゾール化合物及びその製造方法の提供。 【解決手段】硫黄含有量が1重量%以下の式(1)の高純度ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物及び製造方法。塩基の存在下テトラアミノベンゼン化合物(塩基含む)とハロゲン化剤を、ハロゲン化炭化水素溶媒中で反応させ、粗ジハロゲノベンゾビスチアゾール化合物を得、得られた該化合物とハロゲン化炭化水素を接触処理し、高純度ジハロゲノベンゾビスチアゾールを得る。 【選択図】なし

    Abstract translation: 要解决的问题：提供一种具有足够高的纯度以用作有机半导体材料的合成中间体的二卤代苯并噻唑化合物及其制备方法。解决方案：提供了一种高纯度二卤代二苯并噻二唑化合物（式 1），其含硫量为1重量％以下，以及高纯度二卤代苯二溴二噻唑化合物的制造方法。 在卤代烃溶剂中，在碱的存在下使四氨基苯化合物（包括碱）和卤化剂反应，生成粗二卤代苯并噻唑化合物，对所得化合物和卤代烃进行接触处理， 纯度二卤代苯双噻唑。

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