公开(公告)号：WO2004113307A1

公开(公告)日：2004-12-29

申请号：PCT/JP2004/008640

申请日：2004-06-18

Applicant: 宇部興産株式会社 ,  西野 繁栄 ,  弘津 健二 ,  島 秀好 ,  鈴木 忍

Inventor： 西野 繁栄 ,  弘津 健二 ,  島 秀好 ,  鈴木 忍

IPC: C07D239/90

CPC classification number: C07D487/04 ,  C07D239/90 ,  C07D239/91 ,  C07D471/04 ,  C07D495/04

Abstract: 【課題】　入手が容易で、危険性が低い原料化合物を用い、比較的簡単で穏和な反応条件により、ピリミジン−４−オン化合物を高い収率で製造することのできる新規な方法を提供する。 【解決手段】　アリールアミノカルボン酸化合物を、含窒素化合物の存在下にて、有機酸化合物と反応させてピリミジン−４−オン化合物を製造する方法。                                                                         

Abstract translation: 本发明提供了一种在相对简单，温和的反应条件下从容易获得且低危险的原料化合物中高产率制备嘧啶-4-酮化合物的新方法。 解决问题的手段制造嘧啶-4-酮化合物的方法包括在含氮化合物的存在下使芳基氨基羧酸化合物与有机酸化合物反应。

公开(公告)号：WO2005005406A1

公开(公告)日：2005-01-20

申请号：PCT/JP2004/010010

申请日：2004-07-14

Applicant: 宇部興産株式会社 ,  西野 繁栄 ,  弘津 健二 ,  島 秀好 ,  岩本 圭司 ,  原田 崇司 ,  鈴木 忍

Inventor： 西野 繁栄 ,  弘津 健二 ,  島 秀好 ,  岩本 圭司 ,  原田 崇司 ,  鈴木 忍

IPC: C07D309/14

CPC classification number: C07D309/10 ,  C07D309/14

Abstract: A process for the production of 4-aminotetrahydropyrans represented by the general formula (2) and salts thereof with acids: [wherein R is hydrogen or a hydrocarbon group], characterized by subjecting a 4-hydrazinotetrahydropyran represented by the general formula (1) or a salt thereof with an acid: [wherein R is as defined above] to decomposition in the presence of at least one compound selected from among Raney nickel, noble metal catalysts, and metal oxides; intermediates for the process; and a process for the production of the intermediates.

Abstract translation: 由通式（2）表示的4-氨基四氢吡喃及其与酸的盐的制备方法：[其中R是氢或烃基]，其特征在于使由通式（1）表示的4-肼基四氢吡喃或 其盐与酸：[其中R如上定义]在至少一种选自阮内镍，贵金属催化剂和金属氧化物的化合物存在下分解; 中间体的过程; 以及生产中间体的方法。

公开(公告)号：WO2008059862A1

公开(公告)日：2008-05-22

申请号：PCT/JP2007/072076

申请日：2007-11-14

Applicant: 宇部興産株式会社 ,  横山 修司 ,  親 潤一 ,  鈴木 忍 ,  山田 修二

Inventor： 横山 修司 ,  親 潤一 ,  鈴木 忍 ,  山田 修二

IPC: C07D211/34

CPC classification number: C07D211/34

Abstract: 　本発明は、(a) ロジウム化合物及び光学活性ビヘテロアリールジホスフィン配位子、(b) ロジウム化合物と光学活性ビヘテロアリールジホスフィン配位子との反応によって得られるロジウム錯体、(c) ロジウム化合物及び光学活性シクロファンジホスフィン配位子、又は(d) ロジウム化合物と光学活性シクロファンジホスフィン配位子との反応によって得られるロジウム錯体の存在下、一般式（１）： 式中、Ｒは、炭素数１～４のアルキル基を示す、 で示される2-(2'-ピペリジリデン)酢酸エステルと水素を反応させることを特徴とする、一般式（２）： 式中、Ｒは、前記と同義であり、＊は、不斉炭素を示す、 で示される光学活性2-(2'-ピペリジニル)酢酸エステルの製法に関する。

Abstract translation: 公开了由下述通式（2）表示的光学活性的2-（2'-哌啶基）乙酸酯的制备方法，其特征在于由通式（1）表示的2-（2'-哌啶基）乙酸酯， （a）铑化合物和光学活性双杂芳基二膦配体的存在下，与氢反应，（b）通过铑化合物和光学活性双杂芳基二膦配体之间的反应获得的铑络合物，（c）铑 化合物和光学活性环戊烷二膦配体，或（d）通过铑化合物和光学活性环戊烷二膦配体之间的反应获得的铑络合物。 在式（1）中，R表示具有1-4个碳原子的烷基。 在式（2）中，R如上定义，*表示不对称碳原子。

公开(公告)号：WO2003104215A1

公开(公告)日：2003-12-18

申请号：PCT/JP2003/007357

申请日：2003-06-10

Applicant: 宇部興産株式会社 ,  西野 繁栄 ,  弘津 健二 ,  島 秀好 ,  鈴木 忍

Inventor： 西野 繁栄 ,  弘津 健二 ,  島 秀好 ,  鈴木 忍

IPC: C07D309/12

CPC classification number: C07D309/12

Abstract: A process for producing tetrahydropyran-4-ol, characterized by comprising: a cyclization step in which 3-buten-1-ol, a formaldehyde compound, and formic acid are reacted to form tetrahydropyranyl 4-formate, which is represented by the formula (1); (1) and a solvolysis step in which the tetrahydropyranyl 4-formate is solvoyzed to form tetrahydropyran-4-ol, which is represented by the formula (2).

Abstract translation: 一种制备四氢吡喃-4-醇的方法，其特征在于包括：使3-丁烯-1-醇，甲醛化合物和甲酸反应形成4-甲酸四氢吡喃基酯的环化步骤，其由式（ 1）; （1）和溶剂解步骤，其中四氢吡喃基4-甲酸酯溶剂化形成四氢吡喃-4-醇，其由式（2）表示。

公开(公告)号：WO2005061479A1

公开(公告)日：2005-07-07

申请号：PCT/JP2004/018949

申请日：2004-12-17

Applicant: 宇部興産株式会社 ,  西野 繁栄 ,  弘津 健二 ,  島 秀好 ,  鈴木 忍

Inventor： 西野 繁栄 ,  弘津 健二 ,  島 秀好 ,  鈴木 忍

IPC: C07D309/30

CPC classification number: C07D309/38 ,  C07C45/00 ,  C07C49/185 ,  C07D309/30

Abstract: 　本発明は、式（２）： 　　　式中、 　　　は単結合又は二重結合を表す、 で示されるジヒドロピラン-4-オン及びピラン-4-オンの少なくとも一種と水素とを、 （ａ）金属触媒の存在下、非プロトン性溶媒とアルコール溶媒の混合溶媒中、又は （ｂ）含水金属触媒を脱水処理させた無水金属触媒の存在下、疎水性有機溶媒中で反応させることを特徴とする、式（１）： で示されるテトラヒドロピラン-4-オンの製法に関する。

Abstract translation: 由式（1）表示的四氢吡喃-4-酮的制备方法，其特征在于使由式（2）表示的二氢吡喃-4-酮和吡喃-4-酮中的至少一种反应：（ 2）（其中（A）表示单键或双键），氢或（a）在包含非质子溶剂和醇溶剂的混合溶剂中，在金属催化剂存在下，或（b）在疏水性有机溶剂中 在通过使含水金属催化剂脱水得到的无水金属催化剂存在下进行。

公开(公告)号：WO2005012264A1

公开(公告)日：2005-02-10

申请号：PCT/JP2004/010965

申请日：2004-07-30

Applicant: 宇部興産株式会社 ,  西野 繁栄 ,  弘津 健二 ,  島 秀好 ,  小田 広行 ,  鈴木 忍

Inventor： 西野 繁栄 ,  弘津 健二 ,  島 秀好 ,  小田 広行 ,  鈴木 忍

IPC: C07D239/88

CPC classification number: C07D239/88 ,  C07C67/31 ,  C07C69/92

Abstract: 【課題】　２−アミノ−４，５−ビス（２−メトキシエトキシ）安息香酸エチルから高い収率で６，７−ビス（２−メトキシエトキシ）キナゾリン−４−オンを得る方法を提供する。 【解決手段】　２−アミノ−４，５−ビス（２−メトキシエトキシ）安息香酸エチルとギ酸化合物とをカルボン酸アンモニウムの存在下にて反応させることからなる６，７−ビス（２−メトキシエトキシ）キナゾリン−４−オンの製造法。                                                                         

Abstract translation: [问题]从2-氨基-4,5-双（2-甲氧基乙氧基）苯甲酸乙酯以高产率获得6,7-双（2-甲氧基乙氧基）喹唑啉-4-酮的方法。 解决问题的方法6,7-双（2-甲氧基乙氧基）喹唑啉-4-酮的制造方法包括使2-氨基-4,5-双（2-甲氧基乙氧基）苯甲酸乙酯与甲酸化合物反应 羧酸铵的存在。

公开(公告)号：WO2003064399A1

公开(公告)日：2003-08-07

申请号：PCT/JP2003/000805

申请日：2003-01-28

Applicant: 宇部興産株式会社 ,  西野 繁栄 ,  弘津 健二 ,  島 秀好 ,  原田 崇司 ,  小田 広行 ,  高橋 毅 ,  鈴木 忍

Inventor： 西野 繁栄 ,  弘津 健二 ,  島 秀好 ,  原田 崇司 ,  小田 広行 ,  高橋 毅 ,  鈴木 忍

IPC: C07D239/88

CPC classification number: C07D239/88 ,  C07C67/31 ,  C07C69/92 ,  C07C201/08 ,  C07C205/59 ,  C07C205/60 ,  C07C227/04 ,  C07C229/56 ,  C07C229/64 ,  C07D239/90

Abstract: A process for producing a quinazolin−4−one derivative represented by the following formula (2): (2) (wherein R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 each represents a group not participating in the reaction and R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 may be bonded to each other to form a ring) which comprises reacting an anthranilic acid derivative represented by the following formula (1): (1) (wherein R 5 represents hydrogen or a hydrocarbon group) with a formic acid derivative in the presence of an ammonium carboxylate.

Abstract translation: 一种制备由下式（2）表示的喹唑啉-4-酮衍生物的方法：（2）（其中R 1，R 2，R 3，R 3， 和R 各自表示不参与反应的基团，R 1，R 2，R 3， （1）表示的邻氨基苯甲酸衍生物：（1）（其中R 和R < > 5 代表氢或烃基）与甲酸衍生物在羧酸铵存在下反应。

公开(公告)号：JP5724119B2

公开(公告)日：2015-05-27

申请号：JP2013123695

申请日：2013-06-12

Applicant: 宇部興産株式会社

Inventor： 西野 繁栄 ,  弘津 健二 ,  島 秀好 ,  鈴木 忍

IPC: C07D309/30

CPC classification number: C07D309/38 ,  C07C45/00 ,  C07C49/185 ,  C07D309/30