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公开(公告)号：JPWO2020195995A1
公开(公告)日：2021-12-23
申请号：JP2020011329
申请日：2020-03-16
Applicant: 富士フイルム株式会社
Inventor： 中村 敦
IPC: C08F261/04 , C08F251/00 , G03F7/11
Abstract: 基材、有機層、保護層及び感光層をこの順に含み、上記保護層が樹脂を含み、上記樹脂が分岐部と上記分岐部に結合した分子鎖を有し、上記分子鎖が式(1−1)〜式(5−1)のいずれかで表わされる繰返し単位のうち、少なくとも1種の繰り返し単位を有し、上記感光層は現像液を用いた現像に供せられ、上記保護層は剥離液を用いた除去に供せられる、積層体、上記積層体に含まれる保護層又は感光層の形成に用いられる組成物、及び、上記積層体の形成に用いられる積層体形成用キット;式中、R 11 は水素原子又はメチル基を表し、R 21 は水素原子又はメチル基を表し、R 31 〜R 33 はそれぞれ独立に、置換基又は水素原子を表し、R 41 〜R 49 はそれぞれ独立に、置換基又は水素原子を表し、R 51 〜R 54 はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。
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公开(公告)号：JP6450452B2
公开(公告)日：2019-01-09
申请号：JP2017508229
申请日：2016-03-14
Applicant: 富士フイルム株式会社
IPC: B32B7/12 , B32B27/00 , C09J201/00 , C09J7/35 , H01L21/301 , B32B7/06
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公开(公告)号：JP6379210B2
公开(公告)日：2018-08-22
申请号：JP2016551964
申请日：2015-09-25
Applicant: 富士フイルム株式会社
IPC: C08K5/00 , C08K3/014 , C08L53/00 , C09J7/00 , C09J153/00 , B32B7/00 , B32B27/30 , H01L21/3065 , C08L21/00
CPC classification number: C09J11/06 , B32B7/04 , B32B7/06 , B32B7/12 , B32B9/043 , B32B15/06 , B32B25/04 , B32B25/12 , B32B25/14 , B32B25/16 , B32B25/18 , B32B25/20 , B32B27/06 , B32B27/08 , B32B27/36 , B32B2250/03 , B32B2255/10 , B32B2255/26 , B32B2270/00 , B32B2307/306 , B32B2307/51 , B32B2307/58 , B32B2307/732 , B32B2307/748 , B32B2457/14 , C08J3/092 , C08J5/18 , C08J2309/06 , C08J2353/02 , C09J7/00 , C09J7/10 , C09J121/00 , C09J153/025 , C09J2201/622 , C09J2203/326 , C09J2453/00 , H01L21/02 , H01L21/6836 , H01L2221/68327 , H01L2221/6834 , H01L2221/68386
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公开(公告)号：JP2018077533A
公开(公告)日：2018-05-17
申请号：JP2018014891
申请日：2018-01-31
Applicant: 富士フイルム株式会社
IPC: G03F7/11 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/40 , C08F16/06 , C08F26/10 , C08F20/26 , C08F12/22 , G03F7/20 , G03F7/004
Abstract: 【課題】有機半導体上に良好なパターンを形成可能な積層体の提供。 【解決手段】有機半導体膜の表面に少なくとも水溶性樹脂膜および化学増幅型感光性樹脂組成物からなるレジスト膜をこの順に有する積層体が有するレジスト膜形成用の化学増幅型感光性樹脂組成物であって、化学増幅型感光性樹脂組成物は下記に示す分解率が80モル%以上となる光酸発生剤を含有し、レジスト膜の露光部が有機溶剤を含む現像液に難溶となることでマスクパターンを形成でき、マスクパターンを形成後エッチングのマスクとしてマスクパターンが利用される、化学増幅型感光性樹脂組成物; 【選択図】なし
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP5894762B2
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：JP2011236456
申请日：2011-10-27
Applicant: 富士フイルム株式会社
CPC classification number: G03F7/094 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/091 , G03F7/095 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/325
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7.发明专利パターン形成方法、積層レジストパターン、有機溶剤現像用の積層膜、レジスト組成物、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス 有权图案的形成方法，多层抗蚀剂图案，用于有机溶剂显影的层叠膜，所述抗蚀剂组合物，电子器件制造方法和电子装置
公开(公告)号：JP5723744B2
公开(公告)日：2015-05-27
申请号：JP2011236455
申请日：2011-10-27
Applicant: 富士フイルム株式会社
IPC: G03F7/038 , G03F7/32 , G03F7/11 , H01L21/027 , G03F7/095
CPC classification number: G03F7/095 , G03F7/038 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , G03F7/091 , G03F7/094 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/325 , H01L21/0271
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公开(公告)号：JPWO2020184406A1
公开(公告)日：2021-12-09
申请号：JP2020009565
申请日：2020-03-06
Applicant: 富士フイルム株式会社
Abstract: 基材、有機層、保護層及び感光層をこの順に含み、上記感光層が縮合環構造、架橋環構造及びスピロ環構造よりなる群から選ばれた少なくとも1種の環構造を含む基を有するアニオン部を有するオニウム塩型光酸発生剤を含み、上記感光層は現像液を用いた現像に供せられ、上記保護層は剥離液を用いた除去に供せられる、積層体、上記積層体に含まれる保護層又は感光層の形成に用いられる組成物、及び、上記積層体の形成に用いられる積層体形成用キット。
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公开(公告)号：JP2021128183A
公开(公告)日：2021-09-02
申请号：JP2020020687
申请日：2020-02-10
Applicant: 富士フイルム株式会社
Abstract: 【課題】形成されるパターンのパターン剥がれが抑制されるパターン形成方法、上記パターン形成方法に用いられる感光性樹脂組成物、上記パターン形成方法を含む積層体の製造方法、及び、上記パターン形成方法を含む電子デバイスの製造方法を提供すること。 【解決手段】感光性樹脂組成物から形成された感光膜を選択露光する露光工程及び現像工程を含み、露光工程が第一の波長を有する光による露光と第二の波長を有する光による露光とを含み、上記光の少なくとも一方がレーザー光であり、第一の波長と第二の波長の差が5nm以上であり、第一の波長による露光領域と第二の波長による露光領域の少なくとも一部が重なり、上記組成物が感光性化合物と特定の樹脂とを含むパターン形成方法、上記パターン形成方法に用いられる感光性樹脂組成物、上記パターン形成方法を含む積層体の製造方法、及び、上記パターン形成方法を含む電子デバイスの製造方法。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2018521459A
公开(公告)日：2018-08-02
申请号：JP2017561999
申请日：2016-06-27
Applicant: アイメック・ヴェーゼットウェー , IMEC VZW , 富士フイルム株式会社
Inventor： ク・トゥン・フエイ , パヴェウ・マリノフスキー , 中村 敦
CPC classification number: H01L51/0018 , H01L51/0085 , H01L51/0508 , H01L51/42 , H01L51/56 , Y02E10/549
Abstract: 有機電子デバイスの有機半導体層のような、有機層をフォトリソグラフィパターニングする方法が提供され、この方法は、有機層の上に水溶性遮蔽層を設けるステップと、遮蔽層上にフォトレジスト層を設けるステップと、フォトレジスト層をフォトリソグラフィパターニングし、それによってパターン化フォトレジスト層を形成するステップと、パターン化フォトレジスト層をマスクとして使用して遮蔽層および有機層をエッチングし、それによって、パターン化遮蔽層およびパターン化有機層を形成するステップと、その後、パターン化遮蔽層を除去するステップと、を含む。この方法は、水溶性遮蔽層を設ける前に、有機層上に疎水性上面を有する疎水性保護層を設けるステップを含むことを特徴とする。
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