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公开(公告)号：JPWO2017179396A1
公开(公告)日：2019-02-28
申请号：JP2017011968
申请日：2017-03-24
Applicant: 富士フイルム株式会社
Abstract: ガス透過性とガス分離選択性を所望の高いレベルで実現することができ、さらに可塑化不純物の存在下においても上記の優れた分離膜性能(ガス透過性、分離選択性)を持続的に発現することができるガス分離膜、それを用いたガス分離モジュール、ガス分離装置、ガス分離方法、ガス分離膜用組成物、及び上記ガス分離膜の製造方法を提供する。ガス分離膜は、下記式(1)で表される構造単位を含むポリイミド化合物を有する。 式(1)中、R a1 は特定構造の母核を示す。L a は、n+1価の連結基を示し、nは1以上の整数である。Aはアミノ基以外の基であって、CLogP値が0.5以下の親水性基を示す。
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公开(公告)号：JPWO2017098802A1
公开(公告)日：2018-10-11
申请号：JP2016080238
申请日：2016-10-12
Applicant: 富士フイルム株式会社
CPC classification number: B01D69/127 , B01D53/22 , B01D53/228 , B01D67/0006 , B01D67/0088 , B01D67/009 , B01D69/02 , B01D69/12 , B01D71/64 , B01D71/70 , B01D2323/34 , B01D2323/345 , B01D2323/46 , B01D2325/04 , B32B9/00
Abstract: 初期のガス透過性能、耐擦性および耐曲げ性が良好である保護層付きガス分離膜を提供する。保護層付きガス分離膜が、シロキサン結合を有する化合物を含む樹脂層を有する等の特定の条件を満たすガス分離膜と、ガス分離膜におけるシロキサン結合を有する化合物を含む樹脂層の上に位置する保護層と、多孔質層と、をこの順で有する。上記保護層付きガス分離膜を製造する。ガス分離膜モジュール及びガス分離装置は、上記保護層付きガス分離膜を有する。
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公开(公告)号：JPWO2017098887A1
公开(公告)日：2018-09-13
申请号：JP2016084198
申请日：2016-11-18
Applicant: 富士フイルム株式会社
CPC classification number: B01D69/127 , B01D53/22 , B01D53/228 , B01D67/0006 , B01D67/0088 , B01D67/009 , B01D69/02 , B01D69/12 , B01D71/64 , B01D71/70 , B01D2323/34 , B01D2323/345 , B01D2323/46 , B01D2325/04 , B32B5/00 , C08J7/047 , C08J9/365 , C08J9/405 , C08J2333/20 , C08J2479/08 , C08J2483/06 , C09D183/06 , Y02C20/20
Abstract: 耐擦性試験前のガス透過性能および耐擦性試験後のガス透過性能が良好である保護層付きガス分離膜の製造方法を提供する。保護層付きガス分離膜の製造方法が、シロキサン結合を含む樹脂層前駆体を表面酸化処理して、シロキサン結合を有する化合物を含む樹脂層を有し、かつ、特定の条件を満たすガス分離膜を形成する工程と、巻き取りの前に、前記樹脂層の上に保護層を付与する工程と、を含む。上記保護層付きガス分離膜の製造方法により保護層付きガス分離膜を製造する。ガス分離膜モジュール及びガス分離装置は、上記保護層付きガス分離膜の製造方法によって製造される。
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公开(公告)号：JP6316778B2
公开(公告)日：2018-04-25
申请号：JP2015146306
申请日：2015-07-24
Applicant: 富士フイルム株式会社
CPC classification number: B01D71/70 , B01D53/228 , B01D69/02 , B01D69/125 , B01D71/64 , B01D2256/10 , B01D2256/16 , B01D2256/24 , B01D2256/245 , B01D2257/302 , B01D2257/304 , B01D2257/308 , B01D2257/404 , B01D2257/504 , B01D2323/12 , Y02C10/10
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP6001013B2
公开(公告)日：2016-10-05
申请号：JP2014136830
申请日：2014-07-02
Applicant: 富士フイルム株式会社
CPC classification number: B01D63/10 , B01D53/228 , B01D61/38 , B01D63/103 , B01D69/10 , B01D69/142 , C10K1/024 , B01D2053/221 , B01D2256/16 , B01D2256/245 , B01D2257/504 , B01D2313/105 , Y02C10/10 , Y02P20/152
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公开(公告)号：JP2016026860A
公开(公告)日：2016-02-18
申请号：JP2014165489
申请日：2014-08-15
Applicant: 富士フイルム株式会社
CPC classification number: B01D53/228 , B01D63/10 , B01D71/021 , B01D2053/221 , B01D2257/504 , B01D2311/13 , B01D2313/143 , Y02C10/10
Abstract: 【課題】促進輸送膜の損傷を防止して、長期に渡って所定の性能を発揮する酸性ガス分離モジュールを提供する。 【解決手段】促進輸送膜を有する酸性ガス分離層を含む積層体を巻回してなるスパイラル型の酸性ガス分離モジュールにおいて、促進輸送膜を通過した酸性ガスの流路となり、かつ、酸性ガスの流路を規制する流路規制部材を有する透過ガス流路用部材が、流路規制部材を形成された領域と、それ以外の領域とで、高圧変形量の差を100μm以下とすることにより、この課題を解決する。 【選択図】図3
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种酸性气体分离组件，其能够防止对促进的输送膜的损害并确保长期展现预定的性能。解决方案：螺旋酸性气体分离模块，其通过将包含酸性气体分离 构成为使形成有流路限制部件的渗透气体流路部件的区域与其他区域之间的高压变形量的差设定为100μm以下的具有促进输送膜的层 作为通过便携式输送膜的酸性气体的流路的透过气体流路构件，包括限制酸性气体流路的流路限制构件，由此解决问题。图3
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公开(公告)号：JP2015107473A
公开(公告)日：2015-06-11
申请号：JP2013251965
申请日：2013-12-05
Applicant: 富士フイルム株式会社
CPC classification number: B01D67/0088 , B01D53/228 , B01D2323/42 , B01D71/70
Abstract: 【課題】多孔質支持体に促進輸送膜を形成してなる酸性ガス分離膜において、多孔質支持体に促進輸送膜が入り込むことを防止するためのシリコーン樹脂層を、適性に形成できる複合体の製造方法を提供する。 【解決手段】ロール・トゥ・ロールによってシリコーン樹脂層となるシリコーン塗布液を塗布するものであり、かつ、多孔質支持体として、最大孔径が5μm以下のものを用い、さらに、塗布時におけるシリコーン塗布液の粘度を300cp以上とすることにより、この課題を解決する。 【選択図】図2
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够适当形成用于防止促进转移膜进入多孔载体的有机硅树脂层的复合制造方法，在通过在多孔载体上形成促进转移膜而形成的酸性气体分离膜中。 ：将成为有机硅树脂层的有机硅涂布液用辊对辊涂布，作为多孔载体，使用最大孔径为5μm以下的多孔载体。 此外，为了解决上述问题，涂布时的硅酮涂布液的粘度为300cp以上。
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公开(公告)号：JPWO2017145432A1
公开(公告)日：2018-11-22
申请号：JP2016079205
申请日：2016-10-03
Applicant: 富士フイルム株式会社
CPC classification number: B01D71/64 , B01D53/22 , B01D53/229 , B01D69/10 , B01D69/12 , B01D2256/245 , B01D2257/504 , B32B27/34 , C07C211/51 , C08G73/10 , C08G73/12 , C08L79/08 , Y02C10/10 , Y02P20/152
Abstract: ガス透過性と分離選択性に優れ、可塑化耐性にも優れたガス分離膜、ガス分離モジュール、ガス分離装置及びガス分離方法を提供する。上記ガス分離膜のガス分離層を形成するのに好適なガス分離層形成用組成物及びこの組成物を用いたガス分離膜の製造方法を提供する。上記ガス分離膜のガス分離層の原料として好適なポリイミド化合物及びこのポリイミド化合物を合成するのに好適なジアミンモノマーを提供する。ガス分離層を有するガス分離膜が、架橋ポリイミド化合物を含有する。ガス分離膜、それを用いたガス分離モジュール、ガス分離装置及びガス分離方法が、上記架橋ポリイミド化合物が特定の架橋構造部を有する。上記ガス分離膜のガス分離層を形成するのに好適なガス分離層形成用組成物及びこの組成物を用いたガス分離膜の製造方法、上記ガス分離膜のガス分離層の原料として好適なポリイミド化合物及びこのポリイミド化合物を合成するのに好適なジアミンモノマーを提供する。
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公开(公告)号：JP6071004B2
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：JP2014026265
申请日：2014-02-14
Applicant: 富士フイルム株式会社
IPC: B01D71/40 , B01D69/00 , B01D53/22 , B01D69/10 , B01D69/12 , B01D71/36 , B01D71/32 , B01D71/70 , C08J5/22 , B01D71/38
CPC classification number: B01D69/12 , B01D53/228 , B01D63/10 , B01D67/0002 , B01D69/10 , B01D69/142 , B01D71/38 , B01D71/80 , B01J19/2475 , C09D153/005 , B01D2256/16 , B01D2256/20 , B01D2257/304 , B01D2257/504 , B01D2323/30 , B01D53/22 , B01D71/32 , B01D71/40 , B01J2219/24 , Y02C10/10
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