公开(公告)号：JP2016000664A

公开(公告)日：2016-01-07

申请号：JP2012229519

申请日：2012-10-17

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 澁谷 崇 ,  岡畑 直樹 ,  岡田 奈緒子 ,  青峰 信孝 ,  志堂寺 栄治

IPC: C03C15/00 ,  C03C27/06

CPC classification number: C03C15/00 ,  C03C17/3613 ,  C03C17/3639 ,  C03C17/3647 ,  C03C17/366 ,  C03C17/3681

Abstract: 【課題】可視光反射率をより容易に低減させることができ、可視光透過率を高め、断熱性能を高めることが可能な複層ガラスを提供する。 【解決手段】間隔をあけて配置された複数枚のガラス板11,12を有しており、前記複数枚のガラス板11,12の表面11A,11B,12A,12Bのうち、少なくとも1つの面について、フッ化水素によりエッチング処理を施すことにより反射防止面が形成され、前記複数枚のガラス板11,12の表面11A,11B,12A,12Bのうち、少なくとも1つの面にLow−E膜が形成されている複層ガラス10。 【選択図】図1

Abstract translation: 要解决的问题：提供可以容易地降低可见光反射率，提高可见光透射率和提高隔热性能的多个玻璃。解决方案：多个玻璃10具有多个玻璃板11,12，其布置在 间隔。 多个玻璃板11,12的表面11A，11B，12A，12B中的至少一个用氟化氢蚀刻以形成抗反射表面，并且多个玻璃板11,12的表面11A，11B，12A，12B中的至少一个 玻璃板11,12具有形成在其上的Low-E膜。

公开(公告)号：WO2009123290A1

公开(公告)日：2009-10-08

申请号：PCT/JP2009/056902

申请日：2009-04-02

Applicant: 旭硝子株式会社 ,  海田 由里子 ,  坂本 寛 ,  見矢木 崇平 ,  桜井 宏巳 ,  池田 康宏 ,  志堂寺 栄治 ,  川本 昌子

Inventor： 海田 由里子 ,  坂本 寛 ,  見矢木 崇平 ,  桜井 宏巳 ,  池田 康宏 ,  志堂寺 栄治 ,  川本 昌子

IPC: G02B5/30 ,  G02F1/1335

CPC classification number: G02B5/3058 ,  G02F1/133536 ,  G02F2001/133548

Abstract: 　可視光領域において、表面側から入射する光に対して高い偏光度、ｐ偏光透過率およびｓ偏光反射率を示し、かつ裏面側から入射する光に対して低いｓ偏光反射率を示すワイヤグリッド型偏光子およびその製造方法を提供する。 　光透過性基板１４の表面にピッチ（Ｐｐ）で形成された凸条１２を有し、凸条１２の上面１６、第１の側面１８、第２の側面２０の計３面が金属細線２２で被覆されたワイヤグリッド型偏光子１０であって、（ａ）第１の側面１８を被覆している金属細線２２の厚さＤｍ１および第２の側面２０を被覆している金属細線２２の厚さＤｍ２が２０ｎｍ以下であり、（ｂ）上面１６を被覆している金属細線２２の厚さＨｍおよび凸条１２の高さＨｐが４０ｎｍ≦Ｈｍ≦０．５×Ｈｐを満足し、（ｃ）Ｄｍ１、Ｄｍ２、Ｐｐおよび凸条１２の幅ＤｐがＤｍ１＋Ｄｍ２≦０．４×（Ｐｐ－Ｄｐ）を満足する。

Abstract translation: 公开了一种线栅偏振器，其对于从表面侧入射的光呈现出高度的偏振度，p偏振透射率和s偏振反射率，以及从背面进入的光的低s偏振反射率。 还公开了一种用于制造线栅偏振器的方法。 线栅偏振器（10）在形成有间距Pp的透光基板（14）的表面上具有脊（12），并且每个脊（12）的三个表面 - 上表面（16），第一侧 表面（18）和第二侧表面（20）被薄金属线覆盖，其中：（a）覆盖第一侧表面（18）的细金属丝的厚度Dm1和薄金属线的厚度Dm2 覆盖第二侧面（20）的线材为20nm以下; （b）覆盖上表面（16）的细金属丝（22）的厚度Hm和脊（12）的高度Hp满足关系40nm = Hm = 0.5xHp; 和（c）Dm1，Dm2，Pp和脊（12）的宽度Dp满足关系Dm1 + Dm2 = 0.4x（Pp-Dp）。

公开(公告)号：WO2004038061A1

公开(公告)日：2004-05-06

申请号：PCT/JP2003/013481

申请日：2003-10-22

Applicant: 旭硝子株式会社 ,  山田 朋広 ,  志堂寺 栄治 ,  光井 彰 ,  尾山 卓司 ,  神山 敏久

Inventor： 山田 朋広 ,  志堂寺 栄治 ,  光井 彰 ,  尾山 卓司 ,  神山 敏久

IPC: C23C14/08

CPC classification number: G02B1/10 ,  C23C14/083 ,  C23C14/10 ,  C23C14/3414 ,  C23C16/401 ,  C23C16/505 ,  C23C28/04 ,  C23C28/042 ,  C23C28/044 ,  C23C28/42 ,  G02B1/116 ,  G02B1/16 ,  G02B5/285

Abstract: 導電性スパッタリング材を用いて、スパッタリング法により、金属酸化物膜と酸化ケイ素膜との多層膜を基板の上に高速成膜して、膜の応力が緩和された多層膜付き基板とそのような低応力の多層膜付き基板を製造する方法の提供。　基板上に、少なくとも金属酸化物膜と酸化ケイ素膜とを１回以上繰返し積層してなる多層膜付き基板であって、該金属酸化物膜の少なくとも１層が化学量論的組成より酸素が不足している金属酸化物ＭＯ ｘ をターゲット材に用いてスパッタリングを行うことにより成膜されてなる酸素不足が解消された金属酸化物膜であり、かつ該多層膜の応力が−１００MPa～＋１００MPaであることを特徴とする多層膜付き基板。

Abstract translation: 一种具有多层膜的基板，其中通过使用导电溅射材料通过溅射在高速率下在基板上形成由金属氧化物膜和氧化硅膜构成的多层而使膜应力松弛，以及制造这种基板的方法 公开了一种低应力多层膜。 具有通过在基板上重复形成至少金属氧化物膜和氧化硅膜形成的多层膜的基板一次以上，其特征在于，金属氧化物膜的至少一层为这样的金属氧化物膜，其中， 通过使用比作为溅射的靶材料的化学计量组成短的氧的金属氧化物（MOx）来解决氧不足。 具有多层膜的基板的特征还在于，多层膜的应力在-100MPa〜+100MPa的范围内。

公开(公告)号：WO2009125751A1

公开(公告)日：2009-10-15

申请号：PCT/JP2009/057076

申请日：2009-04-06

Applicant: 旭硝子株式会社 ,  海田 由里子 ,  坂本 寛 ,  見矢木 崇平 ,  桜井 宏巳 ,  池田 康宏 ,  志堂寺 栄治 ,  川本 昌子

Inventor： 海田 由里子 ,  坂本 寛 ,  見矢木 崇平 ,  桜井 宏巳 ,  池田 康宏 ,  志堂寺 栄治 ,  川本 昌子

IPC: G02B5/30 ,  G02F1/1335

CPC classification number: G02B5/3058 ,  G02F1/133536 ,  G02F2001/133548

Abstract: 　可視光領域において高い偏光分離能を示し、かつ短波長領域の透過率が向上したワイヤグリッド型偏光子を容易に製造できる方法を提供する。 　表面に複数の凸条１２が形成された光透過性基板１４に下地層２２、第１の金属細線２４、第２の金属細線３０を、条件（Ａ）～（Ｆ）を満足する蒸着法で形成する。（Ａ）角度θ Ｌ をなす方向から凸条１２の上面１６および第１の側面１８に下地層材料を蒸着する。（Ｂ）条件（Ａ）とは逆の角度θ Ｒ をなす方向から第１の下地層２２ａの上面および第２の側面２０に下地層材料を蒸着する。（Ｃ）θ Ｌ 、θ Ｒ は６０゜～９０゜とする。（Ｄ）下地層２２の高さＨｍａ１は１～２０ｎｍとする。（Ｅ）下地層２２の上面および溝２６の底面２８に金属または金属化合物を蒸着する。（Ｆ）第１の金属細線２４の高さＨｍａ２および凸条の高さＨｐが４０ｎｍ≦Ｈｍａ２≦０．９×Ｈｐを満足する。

Abstract translation: 提供了一种能够容易地制造在可见光区域中分离偏振光而具有高功能性的线栅偏振器的方法，并且在短波长区域中具有改善的透射率。 通过在光学透明基板（14）上实现条件（A）至（F）的气相沉积方法形成底层（22），第一薄金属线（24）和第二细金属丝（30） 在其表面上形成有多个脊（12）。 （A）从形成角度θL的方向在上述表面（16）和脊部（12）的第一侧面（18）上蒸镀下层材料。 （B）从形成与条件（A）相反的角度θR的方向，将底层材料蒸镀在第一基底（22a）的上表面和第二侧面（20）上。 （C）ΔL和ΔR在60°和90°之间。 （D）底层（22）的高度（Hma1）为1〜20nm。 （E）金属或金属化合物气相沉积在底层（22）的上表面和凹槽（26）的底表面（28）上。 （F）第一细金属丝（24）的高度（Hma2）和脊的高度（Hp）满足关系40nm = Hma2 = 0.9×Hp。

公开(公告)号：WO2002063064A1

公开(公告)日：2002-08-15

申请号：PCT/JP2002/000982

申请日：2002-02-06

Applicant: 旭硝子株式会社 ,  志堂寺 栄治 ,  安藤 英一 ,  山田 朋広 ,  真下 尚洋

Inventor： 志堂寺 栄治 ,  安藤 英一 ,  山田 朋広 ,  真下 尚洋

IPC: C23C14/34

CPC classification number: C23C14/352 ,  C23C14/505 ,  C23C14/547 ,  C23C14/568 ,  G02B1/10 ,  H01J37/32779 ,  H01J37/3405

Abstract: A spatter device and a spatter film forming method; the carousel type spatter device, comprising a substrate holder installed in the chamber thereof; the spatter film forming method, comprising the steps of installing a normal magnetron and an AC magnetron for low and high refractive index film formations, forming a film by the AC magnetron up to 90% of a design film thickness, and forming the film by only the normal magnetron, whereby an accurate film thickness control can be performed, and an excellent productivity can be provided.

Abstract translation: 飞溅装置和飞溅薄膜形成方法; 旋转式飞溅装置，包括安装在其室中的基板保持架; 飞溅薄膜形成方法，包括以下步骤：为低折射率薄膜层和高折射率薄膜层安装常规磁控管和AC磁控管，通过AC磁控管形成膜厚至设计薄膜厚度的90％，并且仅形成薄膜 正常的磁控管，从而可以进行精确的膜厚控制，并且可以提供优异的生产率。