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公开(公告)号：WO2009072585A1
公开(公告)日：2009-06-11
申请号：PCT/JP2008/072099
申请日：2008-12-04
CPC classification number: C23C14/088 , C23C14/5873 , H01L41/1873 , H01L41/316 , H03H9/02039
Abstract: 結晶質ＫＬＮ膜を作製するための新規作製工程、および、プロセス安定化のための新規膜構成、ならびに圧電体薄膜として該結晶質ＫＬＮ膜を用いた半導体装置の製造方法を提供する。 本発明の結晶質ＫＬＮ膜の製造方法は、アモルファスのＰｏｔａｓｓｉｕｍ Ｌｉｔｉｕｍ Ｎｉｏｂａｔｅ（ＫＬＮ）膜を成膜する工程と、成膜されたＫＬＮ膜上に、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）若しくは酸化珪素（ＳｉＯ 2 ）を含むバリア層を成膜する工程と、バリア層が成膜されたＫＬＮ膜をアニールする工程とを含むことを特徴とする。
Abstract translation: 公开了一种用于生产结晶KLN膜的新型制备方法; 用于过程稳定的新型膜结构; 以及使用结晶KLN膜作为压电薄膜的半导体器件的制造方法。 制造结晶KLN膜的方法包括以下步骤：形成无定形的铌酸锂钾（KLN）膜; 在KLN膜上形成包含氮化铝（AIN）或氧化硅（SiO 2）的阻挡层; 并对其上形成有阻挡层的KLN膜进行退火。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2018033434A
公开(公告)日：2018-03-08
申请号：JP2016172258
申请日：2016-09-02
Applicant: 旭硝子株式会社 , 国立大学法人名古屋大学
IPC: C12M3/04
Abstract: 【課題】細胞に損傷を与えることなく細胞を捕捉し、細胞懸濁液の細胞捕捉チップの孔における通過速度を向上させる。 【解決手段】主面として第1面11および第2面12と、第1面11から第2面12に向けて貫通する、単一細胞を捕捉可能な貫通孔13と、を有する基板11からなり、貫通孔13は、その内部において、第1面11の開口径および第2面12の開口径よりも径の小さいくびれ部を有し、かつ、くびれ部を境界とする第2面側内壁が、前記第1面側から前記第2面側に液体の通過を促進させる親水化処理面である細胞捕捉チップ10。 【選択図】図2
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公开(公告)号：JP2017001902A
公开(公告)日：2017-01-05
申请号：JP2015115139
申请日：2015-06-05
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 【課題】薄肉部の反りを低減可能なカバーガラス、及びこれを有する携帯情報端末、並びにカバーガラスの製造方法を提供する。 【解決手段】カバーガラス1は、該カバーガラス1の表面3又は裏面5に少なくとも一つの凹部7が設けられることにより形成された少なくとも一つの薄肉部13と、薄肉部13に接続する厚肉部17と、を備える。薄肉部13の表面3及び裏面5のうち少なくとも一方には、10〜1000nmの膜21、22が形成される、 【選択図】図3
Abstract translation: 薄的部分翘曲可以减小护罩玻璃，以及具有的便携式信息终端一样的，和用于制造护罩玻璃的方法。 盖玻璃1包括至少一个薄壁部13的至少一个凹部7通过被设置在表面3或盖玻璃1的背面5上形成的，在厚壁部被连接到所述薄部13 配备了17的。 上的至少一个表面3和背面的薄部分13的如图5所示，膜21和10的22〜1000nm的形成，装置技术
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公开(公告)号：JP2015166287A
公开(公告)日：2015-09-24
申请号：JP2012153497
申请日：2012-07-09
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C23C14/5806 , C03C17/2456 , C03C17/3417 , C23C14/0036 , C23C14/083 , C03C2217/212 , C03C2217/734 , C03C2218/155
Abstract: 【課題】ルチル型酸化チタンから主としてなる酸化チタン層を有する積層体の製造方法であって、成膜時の温度および成膜後の熱処理温度を比較的低温にできる積層体の製造方法を提供する。 【解決手段】積層体の製造方法は、成膜工程と熱処理工程とを有する。成膜工程は、150℃以下の温度の透明基体上に、Ni、Fe、およびCuから選ばれる少なくとも1種の添加元素を1〜5原子%含むチタンターゲットを使用して、スパッタリング法により前駆体層を成膜する。熱処理工程は、前駆体層が形成された透明基体を550〜750℃の温度で熱処理して、ルチル型酸化チタンから主としてなる酸化チタン層を得る。 【選択図】なし
Abstract translation: 要解决的问题：提供层压体的制造方法，其中层压体具有主要由金红石型二氧化钛组成的氧化钛层和膜沉积时的温度以及在膜之后进行热处理时的温度 可以使沉积物相对较低。解决方案：制备层压体的方法包括膜沉积步骤和热处理步骤。 在薄膜沉积步骤中，通过溅射法在150℃或更低的温度下在透明基板上沉积前体层，通过使用含有1-5原子％的至少一种选自Ni， Fe和Cu。 在热处理步骤中，将前体层沉积的透明基板在550-750℃的温度下进行热处理，得到主要由金红石型二氧化钛组成的氧化钛层。
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公开(公告)号：JP2017221887A
公开(公告)日：2017-12-21
申请号：JP2016117892
申请日：2016-06-14
Applicant: 旭硝子株式会社 , 国立大学法人名古屋大学
IPC: B01D69/00 , B01D69/02 , B01D69/12 , B01D71/26 , B01D71/28 , B01D71/36 , B01D71/48 , B01D71/50 , B01D71/68 , B01D39/16
Abstract: 【課題】種々の材質のフィルムをパターニングした加工フィルムとすることが可能で、とくに高い密度で規則的にパターニングした加工フィルムとすることが可能な加工フィルムの製造方法を提供する。また、種々の材質からなるパターニングされた加工フィルム、とくに高い密度で規則的にパターニングした加工フィルムを含む積層体の製造方法を提供する。 【解決手段】基板18、粘着剤層16、加工対象フィルム14およびマスク層12がこの順に積層された積層体であって、前記粘着剤層16における基板18に面する側の粘着力が、前記粘着剤層16における加工対象フィルム14に面する側の粘着力より大きいエッチング対象積層体10における加工対象フィルム14を、リアクティブイオンエッチングしてパターニングする、加工フィルム付き積層体の製造方法。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2016048596A
公开(公告)日：2016-04-07
申请号：JP2013006102
申请日：2013-01-17
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: H01L51/5215 , H01L51/5268
Abstract: 【課題】着色の発生が有意に抑制された透光性基板、およびその製造方法を提供する。 【解決手段】ガラス基板110と、ガラス基板110上に形成されたITO膜140とを有する透光性基板100であって、ガラス基板110は、Bi(ビスマス)、Ti(チタン)、およびSn(スズ)からなる群から選定された少なくとも一つの元素を含み、ITO膜140は、ガラス基板110に近い側の方が、ガラス基板から遠い側に比べて酸化の程度が高い状態となっている透光性基板。 【選択図】図1
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种显着抑制着色的半透明基板和制造方法。解决方案：半透明基板100具有玻璃基板110和形成在玻璃基板110上的ITO膜140.玻璃基板110包括 选自Bi（铋），Ti（钛）和Sn（锡）中的一种化学元素中的至少一种，ITO膜140在靠近玻璃基板110的一侧的氧化水平高于ITO 薄膜在远离玻璃基板的一侧。选择图：图1
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